JP2978310B2 - 共沸様組成物 - Google Patents
共沸様組成物Info
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- JP2978310B2 JP2978310B2 JP3310214A JP31021491A JP2978310B2 JP 2978310 B2 JP2978310 B2 JP 2978310B2 JP 3310214 A JP3310214 A JP 3310214A JP 31021491 A JP31021491 A JP 31021491A JP 2978310 B2 JP2978310 B2 JP 2978310B2
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- Japan
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- composition
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- azeotropic
- hfc
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高度に弗素化されたハ
イドロフルオロカーボンをベースとする共沸乃至それに
近い挙動を示す組成物に関するものである。更に詳しく
は、加工や錆止めとして金属部品に使用されているグリ
ースや加工油等の脱脂洗浄、半導体製造時のフラックス
除去の為に好適に使用されるほか、発泡剤、作動媒体、
電気絶縁剤等の用途を代替することが可能な共沸様組成
物に関する。
イドロフルオロカーボンをベースとする共沸乃至それに
近い挙動を示す組成物に関するものである。更に詳しく
は、加工や錆止めとして金属部品に使用されているグリ
ースや加工油等の脱脂洗浄、半導体製造時のフラックス
除去の為に好適に使用されるほか、発泡剤、作動媒体、
電気絶縁剤等の用途を代替することが可能な共沸様組成
物に関する。
【０００２】
【従来の技術】クロロフルオロカーボンは毒性が少なく
難燃性で、化学的、熱的に安定なものが多いため、溶
剤、発泡剤、冷媒等に広く使用され、フラックス除去等
の半導体製品の洗浄には、クロロフルオロカーボン系溶
剤である1,1,2-トリクロロ−1,2,2-トリフルオロエタン
（CFC-113,沸点約48℃）、或は塩素系溶剤である1,1,1-
トリクロロエタン等が使用されていた。
難燃性で、化学的、熱的に安定なものが多いため、溶
剤、発泡剤、冷媒等に広く使用され、フラックス除去等
の半導体製品の洗浄には、クロロフルオロカーボン系溶
剤である1,1,2-トリクロロ−1,2,2-トリフルオロエタン
（CFC-113,沸点約48℃）、或は塩素系溶剤である1,1,1-
トリクロロエタン等が使用されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしオゾン層保護の
観点から、ウイーン条約（1985年）やモントリオール議
定書（1987年）に基づき、わが国でもCFC-11（トリクロ
ロフルオロメタン）、CFC-12（ジクロロジフルオロメタ
ン）、 CFC-113、 CFC-114、CFC-115などのクロロフル
オロカーボンについては生産量削減、使用規制等が実施
された。また塩素系溶剤についても発ガン性が指摘され
ており、地下水汚染などの問題もあって使用規制が検討
されている。そこで本発明は、オゾン層を破壊する恐れ
が無く、発ガン性の問題がない、塩素を含まない新規な
ハイドロフルオロカーボンをベースとして、共沸乃至そ
れに近い挙動を示す組成物を提供することを目的とす
る。
観点から、ウイーン条約（1985年）やモントリオール議
定書（1987年）に基づき、わが国でもCFC-11（トリクロ
ロフルオロメタン）、CFC-12（ジクロロジフルオロメタ
ン）、 CFC-113、 CFC-114、CFC-115などのクロロフル
オロカーボンについては生産量削減、使用規制等が実施
された。また塩素系溶剤についても発ガン性が指摘され
ており、地下水汚染などの問題もあって使用規制が検討
されている。そこで本発明は、オゾン層を破壊する恐れ
が無く、発ガン性の問題がない、塩素を含まない新規な
ハイドロフルオロカーボンをベースとして、共沸乃至そ
れに近い挙動を示す組成物を提供することを目的とす
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明に関わる共沸様組
成物は、70〜99重量％の1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフル
オロペンタン（以下HFC-43-10meeと記す）と30〜1 重量
％のn-ヘプタンからなることを特徴とする。
成物は、70〜99重量％の1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフル
オロペンタン（以下HFC-43-10meeと記す）と30〜1 重量
％のn-ヘプタンからなることを特徴とする。
【０００５】実施例で用いたHFC-43-10meeは沸点が54.7
℃であった。n-ヘプタンは市販の溶剤グレードのものを
使用できる。
℃であった。n-ヘプタンは市販の溶剤グレードのものを
使用できる。
【０００６】沸点54.7℃のHFC-43-10meeを用いた場合、
本発明の組成物は、下記の実施例１から明らかなよう
に、95.4重量％のHFC-43-10mee及び 4.6重量％のn-ヘプ
タンからなる組成において53.2℃に低下し、気相と液相
の組成がほぼ同一となり、明らかに共沸様組成物となっ
ている。
本発明の組成物は、下記の実施例１から明らかなよう
に、95.4重量％のHFC-43-10mee及び 4.6重量％のn-ヘプ
タンからなる組成において53.2℃に低下し、気相と液相
の組成がほぼ同一となり、明らかに共沸様組成物となっ
ている。
【０００７】本発明の組成物は共沸乃至それに近い挙動
を示す組成であるため、使用工程において蒸留操作があ
っても成分変化が少ないので該組成物の特性を維持する
ことができ、また組成物の回収や再利用に好都合であ
り、かつ炭化水素の溶解性がデカフルオロペンタンのみ
の場合よりも向上する。
を示す組成であるため、使用工程において蒸留操作があ
っても成分変化が少ないので該組成物の特性を維持する
ことができ、また組成物の回収や再利用に好都合であ
り、かつ炭化水素の溶解性がデカフルオロペンタンのみ
の場合よりも向上する。
【０００８】本発明の共沸様組成物中には、必要によっ
て安定化剤として従来クロロフルオロカーボンに用いら
れてきたニトロアルカン類、エポキシド類、フラン類、
ベンゾトリアゾール類、フェノール類、アミン類、ホス
フェイト類から選ばれる少なくとも１種が含まれていて
も構わない。安定剤の配合量は、共沸様組成物に対して
0.01〜5 重量％、好ましくは0.05〜0.5 重量％である。
て安定化剤として従来クロロフルオロカーボンに用いら
れてきたニトロアルカン類、エポキシド類、フラン類、
ベンゾトリアゾール類、フェノール類、アミン類、ホス
フェイト類から選ばれる少なくとも１種が含まれていて
も構わない。安定剤の配合量は、共沸様組成物に対して
0.01〜5 重量％、好ましくは0.05〜0.5 重量％である。
【０００９】また本発明の共沸様組成物は引火性が無い
ため、引火性の有るｎ−ヘプタン単品に比べ安全性が大
幅に向上している。
ため、引火性の有るｎ−ヘプタン単品に比べ安全性が大
幅に向上している。
【００１０】洗浄剤用途として具体的には、フラック
ス、油脂、バフ研磨剤などの汚染物除去のため、金属部
品、プラスチック部品、ゴム製品や、これらを組み合わ
せた精密機械部品、電子部品の洗浄剤や、ドライクリー
ニング用洗浄剤として用いられる。洗浄剤として用いる
場合、常温洗浄法でのぬぐい落とし、浸漬、はけ洗い、
フラッシュ、スプレー、超音波洗浄や、加熱洗浄法での
沸騰状態での浸漬、蒸気ゆすぎ、蒸気洗浄等が適用で
き、これらを組み合わせるとより効果的である。
ス、油脂、バフ研磨剤などの汚染物除去のため、金属部
品、プラスチック部品、ゴム製品や、これらを組み合わ
せた精密機械部品、電子部品の洗浄剤や、ドライクリー
ニング用洗浄剤として用いられる。洗浄剤として用いる
場合、常温洗浄法でのぬぐい落とし、浸漬、はけ洗い、
フラッシュ、スプレー、超音波洗浄や、加熱洗浄法での
沸騰状態での浸漬、蒸気ゆすぎ、蒸気洗浄等が適用で
き、これらを組み合わせるとより効果的である。
【００１１】本発明の共沸様組成物は従来のフロンと同
様に、洗浄剤の他、発泡剤、作動媒体、フルオロポリマ
ー重合用溶剤、電気絶縁剤等の各種用途にも使用でき
る。
様に、洗浄剤の他、発泡剤、作動媒体、フルオロポリマ
ー重合用溶剤、電気絶縁剤等の各種用途にも使用でき
る。
【００１２】以下実施例により本発明を詳細に説明す
る。
る。
【００１３】
【実施例１】HFC-43-10mee（沸点54.7℃）90重量％およ
びn-ヘプタン（和光純薬製：沸点98℃）10重量％よりな
る混合液 400ｇをフラスコ(500ｍｌ）に入れ、理論段数
30段のオルダーショウ型蒸留カラムを用いて還流比50で
大気圧下で蒸留を行った。その結果カラム塔頂温度が5
3.2℃の一定温度で初期重量の約30.5％に相当する 122
ｇの留分を得ることができた。この一定温度53.2℃にお
いて共沸様を呈した留分をガスクロマトグラフィー（島
津製作所製GC-14A）により分析したところ、HFC-43-10m
ee95.4重量％、n-ヘプタン 4.6重量％よりなる組成物で
あった。
びn-ヘプタン（和光純薬製：沸点98℃）10重量％よりな
る混合液 400ｇをフラスコ(500ｍｌ）に入れ、理論段数
30段のオルダーショウ型蒸留カラムを用いて還流比50で
大気圧下で蒸留を行った。その結果カラム塔頂温度が5
3.2℃の一定温度で初期重量の約30.5％に相当する 122
ｇの留分を得ることができた。この一定温度53.2℃にお
いて共沸様を呈した留分をガスクロマトグラフィー（島
津製作所製GC-14A）により分析したところ、HFC-43-10m
ee95.4重量％、n-ヘプタン 4.6重量％よりなる組成物で
あった。
【００１４】
【実施例２】サンプル瓶（２０ｍｌ）に、ＨＦＣ−４３
−１０ｍｅｅ９．５４ｇ及びｎ−ヘプタン０．４６ｇを
採り室温で混合し、その中に冷凍機油（アトモスＨＡＢ
１５Ｆ：日本石油製）０．１ｇを入れ室温で手で振って
撹拌した。冷凍機油は該混合組成物に均一に溶解した。
−１０ｍｅｅ９．５４ｇ及びｎ−ヘプタン０．４６ｇを
採り室温で混合し、その中に冷凍機油（アトモスＨＡＢ
１５Ｆ：日本石油製）０．１ｇを入れ室温で手で振って
撹拌した。冷凍機油は該混合組成物に均一に溶解した。
【００１５】
【実施例３】９５重量％のＨＦＣ−４３−１０ｍｅｅと
５重量％のｎ−ヘプタンからなる組成物をＪＩＳ：Ｋ−
２２６５に従って測定した。この組成物は、ｎ−ヘプタ
ンを５重量％含むにもかかわらず、引火性が無かった。
５重量％のｎ−ヘプタンからなる組成物をＪＩＳ：Ｋ−
２２６５に従って測定した。この組成物は、ｎ−ヘプタ
ンを５重量％含むにもかかわらず、引火性が無かった。
【００１６】
【比較例１】サンプル瓶（20ｍｌ）に、HFC-43-10meeを
10ｇを計り採り、その中に実施例２で使用したのと同じ
冷凍機油 0.1ｇを入れ室温で手で振って撹拌したところ
静置後二層分離した。油脂に対する溶解性は、HFC-43-1
0mee単独の場合よりも、本発明の共沸様組成物の方が明
らかに優れている。
10ｇを計り採り、その中に実施例２で使用したのと同じ
冷凍機油 0.1ｇを入れ室温で手で振って撹拌したところ
静置後二層分離した。油脂に対する溶解性は、HFC-43-1
0mee単独の場合よりも、本発明の共沸様組成物の方が明
らかに優れている。
【００１７】
【発明の効果】本発明の組成物（極小沸点53.2℃）は、
実施例より明かなようにCFC-113 （沸点約48℃）と沸点
が近く、従来用いてきた装置をそのまま使用でき、また
共沸乃至はそれに近い挙動を示すので、液管理が容易で
ある。また油脂に対する溶解性がHFC-43-10mee単独の場
合よりも大きいため、加工や錆止めとして金属部品に使
用されるグリースや加工油等の脱脂洗浄そして半導体製
造時のフラックス除去等に有用である。
実施例より明かなようにCFC-113 （沸点約48℃）と沸点
が近く、従来用いてきた装置をそのまま使用でき、また
共沸乃至はそれに近い挙動を示すので、液管理が容易で
ある。また油脂に対する溶解性がHFC-43-10mee単独の場
合よりも大きいため、加工や錆止めとして金属部品に使
用されるグリースや加工油等の脱脂洗浄そして半導体製
造時のフラックス除去等に有用である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ２３Ｇ 5/028 Ｃ２３Ｇ 5/028 Ｈ０５Ｋ 3/26 Ｈ０５Ｋ 3/26
Claims (2)
- 【請求項１】 70〜99重量％の1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デ
カフルオロペンタンと30〜1 重量％のn-ヘプタンからな
ることを特徴とする共沸様組成物。 - 【請求項２】 約95重量％の1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカ
フルオロペンタンと約5重量％のn-ヘプタンからなる請
求項１に記載の共沸様組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3310214A JP2978310B2 (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 共沸様組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3310214A JP2978310B2 (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 共沸様組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05124997A JPH05124997A (ja) | 1993-05-21 |
| JP2978310B2 true JP2978310B2 (ja) | 1999-11-15 |
Family
ID=18002572
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3310214A Expired - Lifetime JP2978310B2 (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 共沸様組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2978310B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5578137A (en) * | 1993-08-31 | 1996-11-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Azeotropic or azeotrope-like compositions including 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-decafluoropentane |
| US5580906A (en) * | 1995-05-19 | 1996-12-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ternary azeotropic compositions |
| FR2781499B1 (fr) | 1998-07-24 | 2000-09-08 | Atochem Elf Sa | Compositions de nettoyage ou de sechage a base de 1,1,1,2,3,4,4,5,5, 5 - decafluoropentane |
-
1991
- 1991-10-30 JP JP3310214A patent/JP2978310B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05124997A (ja) | 1993-05-21 |
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Legal Events
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