JPH05117038A - 窒化アルミニウム焼結体およびその製法、並びにそれを用いた焼成用治具 - Google Patents
窒化アルミニウム焼結体およびその製法、並びにそれを用いた焼成用治具Info
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Abstract
なく成形体を作製し、これをカーボンを含まない窒素雰
囲気にて焼成した後、さらにカーボンを含む窒素雰囲気
で熱処理することにより、焼結体中の不純物を除去し、
実質的に窒化アルミニウム単一相からなり、平均結晶粒
径が9μm以上、アルミニウム以外の陽イオン金属不純
物、Si,Fe,Caが特定値以下の高純度の緻密体を
得ることにより、高温で応力印加した時のクリープ変形
速度が非常に小さい焼結体を得、これを焼成用治具等の
高温用材料として用いる。 【効果】高温耐クリープ性に優れることから、高温で長
時間応力が付加されるような構造材として好適に使用さ
れ、特に焼成用治具として用いた場合、成形体に悪影響
を及ぼすことがなく、優れた耐久性を有する。
Description
優れた窒化アルミニウム焼結体およびその製法ならびに
それを用いた焼成用治具に関するものである。
路の高集積化,高出力化が進み、これに伴うシリコン半
導体素子の放熱の問題が生じてきている。このような現
状に従い、従来のアルミナ焼結体からなる絶縁基板か
ら、さらに高い熱伝導性を有し、電気絶縁性が高く、熱
膨張率におけるシリコンとの整合性に優れた窒化アルミ
ニウム(以下、AlNという。)焼結体の開発が進めら
れてきている。また、AlNは、SiCやSi3 N4 と
並び、高温強度に優れた非酸化性セラミックスとしても
知られている。
lN原料粉末にY2O3 等の周期律第3a族酸化物やC
aO等の周期律表第2a族元素酸化物等の焼結助剤を添
加し、成形後、1600〜2000℃の窒素含有雰囲気
中で焼成することにより得られる。
ミックスを焼成する場合、得られる焼結体が反り等の変
形や、シミ等の発生がないように、焼成中に成形体を保
持する焼成用治具として高温耐熱性に優れた材料が求め
られている。このような焼成用治具としては、具体的に
は、高純度のAlN焼結体やBN焼結体を用いること等
が特開平1−197367号、特開昭62−70269
号、特開昭63−233081号等に提案されている。
らの高温耐熱性の非酸化性セラミック焼結体によれば、
そのほとんどが成形体への影響を低減すべく、焼結助剤
を含まないものであるために、焼結体自体の密度が低
く、しかも1500℃を越える温度にて長時間さらされ
た場合に変形が生じやすく、焼成用治具等のように繰り
返し使用することができない等の問題があった。
用するAlN焼結体を作成する場合には、得られる焼結
体に反り等の変形がないこと、基板自体にシミ等の発生
がないこと、表面の荒れがないことなどが要求される
が、従来の例えば高純度のAlN焼結体を用いてもその
変形、シミ、表面荒れ等を完全に防止することができ
ず、製品の歩留りを低下させていた。
久性、特に高温で応力印加時のクリープ変形速度が2×
10-8/sec以下のAlN焼結体を提供し、さらに
は、高純度で高密度のAlN焼結体を製造する方法、お
よび成形体の変形やシミの発生等を防止し、得られる焼
結体の特性を劣化させない焼成用治具を提供することを
目的とする。
ような問題点に対して充分に検討した結果、高温におけ
るクリープ特性が、焼結体の粒界成分およびAlN結晶
粒径に大きく左右され、特に焼成用治具としての用途に
おいて、不純物として陽イオン金属、炭素および酸素量
を制御することにより、優れた耐熱性を有するととも
に、焼成用治具として変形やシミ、表面荒れの発生のな
い優れた特性が発揮されることを見出したのである。
窒化アルミニウム単一相からなり、平均結晶粒径が9μ
m以上、アルミニウム以外の陽イオン金属不純物が合計
で0.3重量%以下、特にSiが1000ppm以下、
Feが150ppm以下、Caが200ppm以下、カ
ーボンが0.3重量%以下および相対密度が90%以上
の焼結体であって、JISR1601による抗折試験片
を1823K、10kg/mm2 の条件で応力印加した
時のクリープ変形速度が2×10-8/sec以下である
ことを特徴とするものであり、かかる焼結体を焼成用治
具として用いることを特徴とするものである。
て、アルミニウム以外の陽イオン不純物としてSiが1
000ppm以下、Feが150ppm以下、Caが2
00ppm以下の窒化アルミニウム粉末を焼結助剤を添
加することなく成形し、1850℃以上の実質的に炭素
を含まない非酸化性雰囲気中で焼成して相対密度が90
%以上の焼結体を得た後、さらに1850〜2200℃
の炭素を含む非酸化性雰囲気中で熱処理することを特徴
とするものである。
焼結体は、実質的にAlNの単一相からなる相対密度9
0%以上、特に95%以上の高緻密体であることが重要
である。従来、焼結性を高めるために各種の金属酸化物
を添加することが行われるが、これらの焼結助剤成分
は、焼結体のAlN結晶粒子の粒界に残存してしまう。
一部において、焼結助剤を添加して焼成後、焼結助剤を
揮散させる方法も提案されるが完全に除去することがで
きない。
る粒界相が存在すると、高温において粒界相が軟化し結
晶粒同士のすべりが発生しやすくなり、高温にて応力が
印加されると変形しやすくなり、焼結体のクリープ変形
速度が大きくなってしまう。しかも、金属酸化物からな
る粒界相が存在すると、例えばセラミック等を焼成する
ための焼成用治具として用いた場合、焼成中に治具中の
粒界成分が滲みだして成形体に拡散し、治具と接触して
いる成形体にシミ等の発生をもたらす。
体の強度が小さいために高温下にさらされると変形し易
くなる。しかも、焼結助剤を含むセラミック成形体等の
焼成用治具として用いた場合、成形体中に含まれる焼結
助剤が焼成用治具に浸透しやすくなり、焼成用治具自体
が汚染されやすくなり、繰り返し使用した時に他の成形
体に悪影響を及ぼす。さらに治具自体の表面粗さも大き
くなるために、得られるAlN焼結体の表面粗さも大き
くなってしまう。
結晶粒径が9μm以上であることが重要である。そこ
で、図1にAlN結晶粒子の平均結晶粒径(D)の対数
値(logD)と、JISR1601による抗折試験片
を図2の示すような3点曲げ法(L=30mm)によ
り、1823Kの温度で試験片1に対して10kg/m
m2 応力印加した時のクリープ変形速度(ε)の対数値
(logε)との関係を示した。図1に示すようにAl
N平均結晶粒径と高温におけるクリープ速度と相関があ
り、およそAlN平均結晶粒径が大きいほど、クリープ
速度が小さくなる傾向にある。
9μmより小さいと、高温での応力印加時のクリープ変
形速度が大きくなり、高温での変形が大きくなる。特
に、AlN平均結晶粒径が11μm以上であることが望
ましい。なお、本発明のAlN焼結体は、そのAlN平
均結晶粒径Dに対して0.3D〜〜1.8Dの粒子径の
範囲にある粒子数が全体の50%以上とすることが望ま
しい。
μm以上であっても、焼結体中のAl以外の陽イオン不
純物量、特にSiやFeが多量に存在するとクリープ特
性が大きく劣化する。具体的には、Al以外の陽イオン
金属不純物が0.3重量%以下、特に0.2重量%以下
であり、Siが1000ppm以下、特に600ppm
以下、Feが150ppm以下、特に100ppm以下
であることが重要である。これらの金属不純物成分が上
記の範囲を越えると、いずれもクリープ変形速度が2×
10-8/sec以下を越えてしまう。しかも、焼成用治
具として用いた場合には、これらの不純物と成形体とが
化学反応し易くなり、得られた焼結体にシミ、反りが発
生したり、焼成用治具と成形体とが焼き付いたりするか
らである。
成用治具として要求される特性面から、焼結体中に含有
されるカーボン量が0.3重量%以下であることが望ま
しい。これは、治具中に多量のカーボン量が含まれる場
合、焼成回数を重ねると、焼成用治具の表面粗さが次第
に大きくなる。また、焼成中にカーボンとAlN成形体
が反応して、得られたAlN焼結体にしみが発生し、誘
電損失(tanδ)が大きくなる等の電気特性異常の原
因となる。また、焼成用治具と得られるAlN焼結体が
焼き付いたり、治具同士が焼き付いたりする。特にカー
ボン量が0.15重量%以下が望ましい。
の酸素量が5重量%以下であることが望ましい。これ
は、例えば焼成用治具に酸素が多量に含有されていると
AlN成形体に酸素が拡散して増加し、得られる焼結体
にしみが発生したり、熱伝導率が低下したりする。ま
た、焼成用治具が変形し易くなり、反り直しが必要にな
るためである。特に、酸素量は3重量%以下が望まし
い。
製法について説明する。本発明における製法によれば、
焼結助剤として添加していたCaO等の周期律表第2a
族元素酸化物や、Y2 O3 等の周期律表第3a族元素酸
化物を実質的に添加することなく焼成するものである。
高純度の窒化アルミニウム焼結体を得るために、従来よ
り焼結助剤として揮発性の高い助剤を添加し、焼成後に
揮散除去することも行われているが、この方法でも完全
に焼結助剤成分を除去することができず、残存した助剤
が悪影響を及ぼす。よって、本発明によれば、このよう
な焼結助剤を全く添加することなく、焼成を行うことが
大きな特徴である。
化するために、窒化アルミニウム原料粉末として、平均
結晶粒径が3μm以下、特に2.5μm以下、不純物酸
素量が3重量%以下、特に0.3〜2.5重量%の粉末
を用いることが重要である。即ち、平均結晶粒径が3μ
mより大きいか、または不純物酸素量が3重量%より大
きいと緻密化が達成されず、また0.3重量%より少な
い場合も原料の粒径によっては緻密化が達成されない場
合がある。
れた高温特性を有する焼結体を得るために、窒化アルミ
ニウム原料粉末として、陽イオン不純物の総量が0.3
重量%以下であり、且つSiが1000ppm以下、F
eが150ppm以下、Ca量が200ppm以下であ
ることも必要である。これは、陽イオン不純物量、Si
量、Fe量およびCa量が前記の量比より多いといずれ
も、高温特性が劣化し、前記クリープ特性が劣化するた
めである。
用いて、成形体を作成する。成形体の作成にあたって
は、例えば、成形性を高めるために所定の有機バインダ
ーを添加し、ボールミルで混合してスラリーを作成し、
このスラリーをスプレードライにより顆粒状粉末とし、
この顆粒を型に入れてプレス成形を行い、AlN成形体
を得る。この時、有機バインダーとしてはバインダーの
分解によりカーボンが残存しないようなバインダーを選
択すべきである。なお、成形体を作成する方法として
は、プレス成形の他に押し出し成形法、射出成形法、ド
クターブレード等のシート成形法、冷間静水圧成形法等
の周知の成形方法が採用できる。
た成形体を酸化性、非酸化性あるいは真空中にて所定温
度で脱脂した後、まず、1850℃以上の実質的に炭素
を含まない非酸化性雰囲気中で焼成し相対密度がおよそ
90%以上の緻密な焼結体を得る。これは高緻密化を達
成するために必要な工程であり、焼成時の雰囲気に炭素
が含まれていたり、焼成温度が1850℃より低いと、
焼結がほとんど進行せず、緻密な焼結体を得ることがで
きない。このように炭素を含まない雰囲気は、焼成炉と
してタングステンやモリブデン等の高融点材料製のもの
を使用するか、カーボン炉を使用する場合には、成形体
をW、AlN、BN等の匣鉢内に収納し匣鉢内部にカー
ボンが混入しないようにして焼成すればよい。
を付与して焼成することが行われるが、ホットプレス法
によれば、型材がカーボンからなるために、雰囲気がカ
ーボン含有雰囲気となるために、緻密化することが困難
となる。よって、本発明によれば、常圧焼成や窒素ガス
加圧焼成が好適に採用される。なお、この時の焼成温度
が2100℃を越えると窒化アルミニウム自体が分解蒸
発し、表面が荒れる等の問題が生じる。
1850〜2200℃の炭素を含む雰囲気で加熱処理す
る。これは、焼結体中に含まれる不純物を除去するとと
もに、窒化アルミニウム結晶を粒成長させるために必要
な工程であり、雰囲気中にカーボンが存在しない場合、
あるいは加熱処理温度が1850℃より低いと、焼結体
中の不純物の除去が困難となったり、粒成長が不充分と
なり、前述したように陽イオン金属不純物量を0.3重
量%以下、Si量を1000ppm以下、Fe量を15
0ppm以下に制御することが困難となるとともに、窒
化アルミニウム結晶粒子の平均結晶粒径を9μm以上に
制御することができない。
焼結体は、実質的に窒化アルミニウム結晶の単一相から
なる多結晶体であるとともに、高温特性、特に高温で応
力が付加された状態で優れた耐変形性を有するものであ
ることから、各種の高温用材料に適用することができ、
その中でも非酸化性セラミックスの焼成時に用いられる
焼成用治具として好適に用いられる。
ミニウムは、高絶縁性、高熱伝導性を有する材料として
電子部品や半導体用の基板材料として注目されている
が、基板としての用途上、変形やシミの発生に充分注意
を払う必要がある。
ム質基板を作成する場合の焼成用治具として用いる場合
について具体的に説明する。焼成される窒化アルミニウ
ム質成形体は、一般に、窒化アルミニウム原料粉末を主
成分とし、焼結助剤としてCaOなどの周期律表第2a
族元素化合物やY2 O3 等の周期律表第3a族元素化合
物を0.5〜20重量%含有するもの、あるいはこれら
の他に周期律表第4a,5a,6a,7a,8a族の金
属化合物を添加したものである。このような成形体は、
上記の混合粉末をプレス成形やドクターブレード法等に
より基板形状に成形されたものである。
ルミニウム焼結体からなる敷板1および支持材2を用い
て敷板1の上に基板成形体3を並べて、これらを数段積
み重ねた状態で焼成炉中に配置して焼成する。この時の
焼成は、基板成形体が緻密化するに充分な条件で行わ
れ、具体的には、1600〜2000℃の窒素を含む非
酸化性雰囲気中で10分〜100時間行われる。
に優れることから、焼成条件下においても変形すること
がなく、基板成形体を変形させることがない、しかも高
純度であることから、基板成形体に対してシミを発生さ
せたり、基板焼結体の表面に荒れを生じさせることが全
くない。このようにして使用された敷板は、高温での変
形がほとんどないことから半永久的に繰り返し使用する
ことができる。
の焼成用治具の他に、化合物半導体製造用るつぼ、高温
炉の電気絶縁材料、高温炉材等の他、各種の高温用材料
として用いることができる。
質的に粒界のない窒化アルミニウム結晶の単一相より構
成し、結晶粒径を9μm以上と大きくするとともに、不
純物としてSiやFeの量を所定量以下に制御すること
により、結晶同士の高温での滑りや変形がないことによ
り焼結体全体としてのゆがみやソリ等の変形の発生がな
い。
体は、1823K、10kg/mm2 の条件で応力印加
した時のクリープ変形速度が2×10-8/sec以下と
極めて小さい耐クリープ特性を有するものである。
ウム単一相からなるために、高温において他の物質との
反応性が非常に小さく悪影響を及ぼすことがない。
あらゆる高温条件下で耐久性や数包寸法精度が要求され
る各種の機械用部品や高温用治具として用いることがで
きる。
基板を作成する場合の焼成用治具として用いた場合に
は、焼成用治具が95%以上の相対密度に緻密化されて
いるので、焼成中に例えばAlN基板成形体中の焼結助
剤が焼成用治具に浸透することもなく、得られる基板の
表面粗さが大きくなることもない。さらに、治具中にA
lを除く陽イオン金属不純物量が小さいことから、得ら
れるAlN基板と焼成用治具との化学的な反応がほとん
どなく、得られるAlN基板にしみ等がが発生すること
もなく、焼成用治具とAlN基板とが焼き付くこともな
い。
しているので、使用頻度の増加により焼成用治具の表面
粗さが大きくなることがなく、また、カーボンによるA
lN基板成形体と治具との反応もほとんどない。
制御したので、AlN基板成形体に酸素が拡散し、Al
N基板の熱伝導率を低下させることもない。
の低下,治具同士の焼き付きをほぼ確実に防止すること
ができるとともに、焼成治具とAlN基板成形体との焼
き付き、反応によるAlN基板の特性劣化を防止し、さ
らに、AlN基板のしみ、反り、熱伝導率の低下、電気
特性の劣化を防止することができる。
A〜Hを用意し、これに有機バインダーを添加してメタ
ノールを溶媒としてボールミルで充分に混合した。得ら
れたスラリーをスプレードライにより乾燥造粒した後、
得られた顆粒を用いて0.5ton/cm2 の圧力でプ
レス成形し、160mm×157mm×9.5mm(厚
み)の形状の成形体を作成した。そして、これらの成形
体をそれぞれ表2、表3に示す条件下で焼成および熱処
理を行った。なお、表中、試料No.12〜17は原料A
に対してSiまたはFeを添加して表に記載の比率に調
整したものである。
より平均結晶粒径を測定し、また、焼結体中の酸素量、
炭素量を燃焼分析法、陽イオン不純物量をICP発光分
光分析法を用いて測定した。また、焼結体のかさ密度、
気孔率をアルキメデス法により測定した。
の抗折試験片の形状(3×4×38mm)に切り出し、
図2に示すように抗折試験片に対して3点曲げ法に基づ
き、1823Kの温度で10kg/cm2 の応力を印加
しつつ、試験片の変形速度を測定した。これらの結果を
表4、表5に示した。これらの結果から、窒化アルミニ
ウムの平均結晶粒径Dの対数値(logD)と、クリー
プ速度εの対数値(logε)との関係を図1に示し
た。
非酸化性雰囲気中にて焼成した試料No.1、2は、いず
れも平均粒径が小さいとともに、不純物成分の除去が不
十分であり、クリープ速度が大きい。また、出発原料中
のSiやFe量が多く、焼結体中のSiやFe量が本発
明の範囲より多い試料No.13、14、16、17もク
リープ速度が大きく高温での耐久性に劣るものであっ
た。
った試料No.22も不純物の除去が不十分で、しかも粒
成長が進行せず、良好な特性を得ることができなかっ
た。さらに、窒化アルミニウム原料中の不純物量が過多
の原料F,G,Hを用いた試料No.24、25、26で
は、本発明における焼成方法および熱処理を行っても除
去することが難しく、あるいは非常に長時間を要するも
のであった。それにより得られる焼結体も良好な特性は
得られなかった。
は、いずれも優れた高温での耐クリープ特性を示した。
図1によれば、平均結晶粒径が大きくなるほど、耐クリ
ープ特性が小さくなる傾向にあるが、平均結晶粒径が大
きくなりすぎると、抗折強度が小さくなる傾向にあるた
めに、平均結晶粒径は40μm以下で、1823Kの抗
折強度が15kg/mm2 以上が達成された。
て、これを有機バインダとともにボールミルで混合して
スラリーを作製し、このスラリーをスプレードライ法に
より造粒した後、得られた顆粒を型に入れて200×2
00×7mmの大きさにプレス成形した。この成形体を
空気中にて550℃の温度で脱脂した後、本脱脂体をW
の匣鉢内に収納して窒素雰囲気中、表6の温度で2時間
焼成し、さらにカーボン炉にて2150℃で10時間焼
成して相対密度の異なる焼結体(試料No.1〜4)を得
た。なお、これらの焼結体中のAl以外の陽イオン不純
物量はいずれも0.2重量%以下であり、Si量50p
pm以下、Fe量10ppm以下およびCa150pp
m以下であった。
(Rmax)が6μm以下になるように研磨し、図3に
示したような敷板を作成した。なお、焼結体の特性とし
て、相対密度、平均結晶粒径、酸素量、炭素量、ならび
にクリープ変形速度を実施例1と同様な方法で測定した
その結果を表6に示した。
ミニウム基板を作成した。まず基板成形体として、窒化
アルミニウム粉末にY2 O3 を2重量%添加し、さらに
有機バインダーを所定量添加した混合粉末を造粒後、3
5×35×1.3mmの第1の基板成形体(以下、「第
1成形板」という)を作成した。
設置して、空気中にて550℃で脱脂した後に、引き続
き1700〜1800℃の窒素雰囲気中で焼成を繰り返
し行った。その後、各治具の変形の有無、治具同士の焼
付の有無、治具の表面粗さの変化、基板成形体からの焼
結助剤の浸透の有無等について観察した。また、治具と
AlN基板との焼付の有無、AlN基板のシミや反りの
有無について観察した。さらに、得られたAlN基板に
対してはレーザーフラッシュ法によって熱伝導率を測定
し、結果を表6に示した。また、電気特性として1MH
zにおける誘電損失(tanδ)を測定したところ、い
ずれのAlN基板も1×10-4以下であった。
0%より低い場合(治具No.4)、焼結体のクリープ速
度が大きく、そのために焼成用治具に変形が生じ、さら
に表面に荒れが生じた。また、基板成形体中の焼結助剤
が焼成用治具に浸透していた。それにより焼成用治具と
基板成形体とが一部反応し、AlN基板にしみが発生し
た。一方、焼成用治具の相対密度が90%以上の場合に
は、その焼成用治具はいずれも優れた耐久性を示し、得
られるAlN基板に対しても、シミやソリの発生は認め
られなかった。
だし、焼成用治具を作成する際に、窒素中で脱脂温度を
200〜850℃の範囲で変えて行い、その後、W匣鉢
内で窒素雰囲気中1940℃にて3時間焼成し、さらに
カーボン炉内にて2150℃で10時間焼成し、表7に
示すような残留カーボン量の異なる7種の焼結体を得
た。この焼結体を用いて、実施例2と同様に焼成用治具
(治具No.5〜11)を作成した。この焼成用治具につ
いて、実施例1と同様な方法で、特性の評価を行い、そ
の結果を表7に示した。なお、得られた焼結体は、いず
れも相対密度95%以上、平均結晶粒径15〜35μ
m、酸素量0.7重量%以下、陽イオン不純物量0.2
重量%以下、Si量50ppm以下、Fe10ppm以
下Ca150ppm以下であった。
7.5重量%,CaO 0.1重量%を含む窒化アルミ
ニウム混合粉末からなる35×35×1.3mmの第2
の基板成形体(以下、「第2成形板」という)を設置し
て、1720℃の窒素雰囲気中で焼成してAlN基板を
得た。
よびAlN基板に対して実施例2と同様にして特性の評
価を行った。結果は、表7に示した。
より多い焼結体は、高温におけるクリープ変形速度が大
きく、これを焼成用治具として用いた場合には、治具に
ゆがみが発生した。しかも、得られたAlN基板では、
シミの発生が認められ、1MHzにおけるtanδが8
9×10-4以上であり、半導体製品用の基板としては使
用できないものであった。これに対してカーボン量が
0.3重量%以下の場合は、高温での変形が小さく、A
lN基板に対して何ら問題なかった。
が0.3重量%を越える物質がAlN基板成形体の近傍
に存在すれば発生することが、実験により確認された。
しかも、焼成用治具のカーボン量が0.3重量%より多
い場合には、焼成用治具同士あるいは焼成用治具とAl
N基板との焼き付き、焼成用治具の変形、AlN基板の
シミの発生があったが、カーボン量が0.3重量%以下
の試料No.5〜9ではこのような不具合はないことがわ
かった。さらに、100回使用後の焼成用治具の表面粗
さは、焼成用治具のカーボン量が0.3重量%以下では
Rmax6μm以下であり使用前と殆ど変化はなかった
が、0.3重量%を越えるNo.11では15μm以上と
なった。
陽イオン金属不純物量0.1重量%以下、酸素量が0.
5〜7重量%の範囲内で異なる種々の高純度窒化アルミ
ニウム粉末を用いて、有機バインダーとを混合した後、
200×200×7mmの大きさにプレス成形し、空気
中にて550℃で脱脂した後、W匣鉢内で窒素雰囲気中
で1920〜2000℃にて3時間焼成した後、さらに
カーボン炉内にて窒素雰囲気中2050℃で24時間熱
処理し、表8に示すような酸素量の異なる焼結体を得
た。この焼結体に対して実施例2と同様にして特性の評
価を行ったところ、いずれも相対密度95%以上、平均
結晶粒径13〜30μm、炭素量300ppm以下、陽
イオン不純物量0.1重量%以下、Si量600ppm
以下、Fe150ppm以下およびCa200ppm以
下であった。そして、得られた焼結体表面をRmax6
μm以下に研磨し、焼成用治具を作成した(治具No.1
2〜18)。
1成形板と同一の成形体を載せて空気中550℃にて脱
脂し引き続き、1790℃で窒素中にて焼結させてAl
N基板を得た。そして、焼成用治具およびAlN基板に
対して実施例2と同様な特性評価を行い、その結果を表
8に示した。
が5重量%以下の試料No.12〜16では、クリープ変
形速度は小さく、また得られたAlN基板の熱伝導率は
169〜180W/m・Kであり、特性上問題がなかっ
た。しかし、酸素量が5重量%より多い治具No.17、
18を用いた場合には、繰り返し使用による変形が認め
られ、さらに得られたAlN基板の熱伝導率が140W
/m・K以下と低いものであった。
剤としてCaCO3粉末あるいはY2 O3 粉末を添加混
合した後、実施例2と同様にして成形体を作成し、その
成形体をW匣鉢内に収納して窒素雰囲気中で1730〜
1980℃にて焼成し高密度の焼結体を得た。その後、
カーボン炉内にて2000℃で熱処理を0.5〜50時
間行い、焼結体中の金属成分を一部揮散させて、Caや
Yが表9の量からなる焼結体を得た。それぞれの焼結体
の特性を実施例2と同様にして測定し、その結果を表9
に示した。得られた焼結体をRmax6μm以下に研磨
して焼成用治具を得た(治具No. 19〜26)。
b2 O3を5重量%含有する35×35×1.3mmの
AlN基板成形体を載置し、空気中550℃にて脱脂
し、さらに引き続き1790℃の窒素中にて焼成した。
得られたAlN基板および焼成後の治具について実施例
2と同様に評価を行った。その結果を表9に示した。
mを越える治具No.21、22、および陽イオン金属不
純物が0.3重量%より多い治具No.25、26は、い
ずれもクリープ変形速度が大きく、繰り返し使用により
変形が認められた。
下、Al以外の陽イオン不純物量が0.3重量%以下の
治具No.19、20、23、24はいずれもクリープ変
形速度が小さいものであり、焼成用治具としても変形が
認められず、優れた耐久性を示した。
窒化アルミニウム平均結晶粒径および不純物成分の量を
所定の範囲に制御することにより、高温において優れた
耐クリープ特性を有するものであり、高温中で長時間応
力が付加された状態でもほとんど変形することがない。
用することができ、具体的に焼成用治具として用いた場
合においても、繰り返し使用においても治具自体の変
形、純度の低下、治具同士の焼き付きを防止することが
できるとともに、焼成される成形体に対しても焼き付
き、治具との反応を防止し、悪影響を及ぼすことがな
い。よって、セラミックの焼成におけるコストを低減
し、焼成における生産性、製造工程の合理化に大きく貢
献できる。
の対数値(logD)とクリープ変形速度εの対数値
(logε)との関係を示した図である。
するための図である。
用治具として用いた場合の一実施態様を示す図である。
Claims (4)
- 【請求項1】実質的に窒化アルミニウム単一相からな
り、平均結晶粒径が9μm以上、アルミニウム以外の陽
イオン金属不純物が合計で0.3重量%以下、Siが1
000ppm以下、Feが150ppm以下、Caが2
00ppm以下、カーボンが0.3重量%以下、相対密
度が90%以上の焼結体であって、JISR1601に
よる抗折試験片を1823K、10kg/mm2 の条件
で応力印加した時のクリープ変形速度が2×10-8/s
ec以下であることを特徴とする窒化アルミニウム焼結
体。 - 【請求項2】酸素含有量が5重量%以下である請求項1
記載の窒化アルミニウム焼結体。 - 【請求項3】アルミニウム以外の陽イオン金属不純物が
合計で0.3重量%以下、Siが1000ppm以下、
Feが150ppm以下、Caが200ppm以下の窒
化アルミニウム粉末のみからなる成形体を、1800℃
以上の実質的に炭素を含まない非酸化性雰囲気中で焼成
して緻密化した後、さらに1850〜2200℃の炭素
を含む雰囲気中で熱処理することを特徴とする窒化アル
ミニウム焼結体の製法。 - 【請求項4】実質的に窒化アルミニウム単一相からな
り、平均結晶粒径が9μm以上、アルミニウム以外の陽
イオン金属不純物が合計で0.3重量%以下、カーボン
が0.3重量%以下、酸素量5重量%以下および相対密
度が90%以上の焼結体であって、JISR1601に
よる抗折試験片を1823K、10kg/mm2 の条件
で応力印加した時のクリープ変形速度が2×10-8/s
ec以下の窒化アルミニウム焼結体よりなる焼成用治
具。
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