JPH05117023A - 磁気ヘツド用非磁性基板および磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツド用非磁性基板および磁気ヘツドInfo
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- JPH05117023A JPH05117023A JP3305539A JP30553991A JPH05117023A JP H05117023 A JPH05117023 A JP H05117023A JP 3305539 A JP3305539 A JP 3305539A JP 30553991 A JP30553991 A JP 30553991A JP H05117023 A JPH05117023 A JP H05117023A
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- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
- G11B5/105—Mounting of head within housing or assembling of head and housing
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッドの耐摩耗性を向上させて長寿命化
させると共に、高効率化を図る。 【構成】 磁気コアを挟み込む補強体をＣａＯ−ＴｉＯ
2−ＮｉＯ非磁性基板またはＣａＯ−ＴｉＯ2−ＮｉＯ−
Ａｌ2Ｏ3非磁性基板とし、更にその平均粒径を２μｍ以
下とする。
させると共に、高効率化を図る。 【構成】 磁気コアを挟み込む補強体をＣａＯ−ＴｉＯ
2−ＮｉＯ非磁性基板またはＣａＯ−ＴｉＯ2−ＮｉＯ−
Ａｌ2Ｏ3非磁性基板とし、更にその平均粒径を２μｍ以
下とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッド用の非磁性基
板、および磁気記録媒体との高速度な摺動が要求される
磁気ヘッドに関する。
板、および磁気記録媒体との高速度な摺動が要求される
磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術およびその課題】磁気記録の高密度化に伴
い、記録媒体としては保磁力の増大が、磁気ヘッドとし
ては、高保磁力媒体に対応した飽和磁束密度の増大が求
められている。金属軟磁性材料（例えば、センダスト、
アモルファス）は従来のフェライトに比べて飽和磁束密
度が大きいことから、これを磁気コアとする磁気ヘッド
が開発されている。図１４は上記の磁気ヘッドの代表的
な例である。この磁気ヘッドは磁気コア１と、この磁気
コアをその両側から挟み込む補強体２ａ，２ｂとからな
り、巻き線窓３を利用してコイル４が形成されている。
ここではこの構造の磁気ヘッドを積層型ヘッドと総称す
る。図１４に示す構造の磁気ヘッドにおいて、磁気コア
としてセンダストスパッタ膜（ＦｅＳｉＡｌ合金、ある
いは、ＦｅＳｉＡｌにＣｒ、Ｒｕ、Ｔｉなどを添加した
合金）を用いたヘッドが開発されている（特公平２−４
８９６５号公報）。更に、センダスト以上の大きな飽和
磁化を持つＦｅ、Ｎ、Ｍ（ＭはＴａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｚ
ｒ、Ｖ、Ｔｉの内から選択される少なくとも１種類の元
素）を主成分とするスパッタ膜を用いたヘッドの開発も
行われている（特願平２−２３６８６号）。これらの磁
気ヘッドは記録再生時に磁気記録媒体と摺動するため摩
耗する。よって、ヘッドの耐摩耗性を向上させることは
その実用化に際し重要である。これまでに、ＭｎＯ−Ｎ
ｉＯ系基板を用いた積層型ヘッド（特公平２−４８９６
５号公報）に対して耐摩耗性を向上させたＣａＯ−Ｔｉ
Ｏ2−ＮｉＯ系基板を用いたヘッド（特願平２−２６４
３２０号）が開発されている。本発明の目的は、このＣ
ａＯ−ＴｉＯ2−ＮｉＯ系基板を用いたヘッドの記録再
生効率を向上させるとともに、耐摩耗性を更に向上させ
ることにある。
い、記録媒体としては保磁力の増大が、磁気ヘッドとし
ては、高保磁力媒体に対応した飽和磁束密度の増大が求
められている。金属軟磁性材料（例えば、センダスト、
アモルファス）は従来のフェライトに比べて飽和磁束密
度が大きいことから、これを磁気コアとする磁気ヘッド
が開発されている。図１４は上記の磁気ヘッドの代表的
な例である。この磁気ヘッドは磁気コア１と、この磁気
コアをその両側から挟み込む補強体２ａ，２ｂとからな
り、巻き線窓３を利用してコイル４が形成されている。
ここではこの構造の磁気ヘッドを積層型ヘッドと総称す
る。図１４に示す構造の磁気ヘッドにおいて、磁気コア
としてセンダストスパッタ膜（ＦｅＳｉＡｌ合金、ある
いは、ＦｅＳｉＡｌにＣｒ、Ｒｕ、Ｔｉなどを添加した
合金）を用いたヘッドが開発されている（特公平２−４
８９６５号公報）。更に、センダスト以上の大きな飽和
磁化を持つＦｅ、Ｎ、Ｍ（ＭはＴａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｚ
ｒ、Ｖ、Ｔｉの内から選択される少なくとも１種類の元
素）を主成分とするスパッタ膜を用いたヘッドの開発も
行われている（特願平２−２３６８６号）。これらの磁
気ヘッドは記録再生時に磁気記録媒体と摺動するため摩
耗する。よって、ヘッドの耐摩耗性を向上させることは
その実用化に際し重要である。これまでに、ＭｎＯ−Ｎ
ｉＯ系基板を用いた積層型ヘッド（特公平２−４８９６
５号公報）に対して耐摩耗性を向上させたＣａＯ−Ｔｉ
Ｏ2−ＮｉＯ系基板を用いたヘッド（特願平２−２６４
３２０号）が開発されている。本発明の目的は、このＣ
ａＯ−ＴｉＯ2−ＮｉＯ系基板を用いたヘッドの記録再
生効率を向上させるとともに、耐摩耗性を更に向上させ
ることにある。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明は、主成分として
ＣａＯ、ＴｉＯ2、ＮｉＯからなり、平均粒径が２μｍ
以下であることを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基板、
および主成分としてＣａＯ、ＴｉＯ2、ＮｉＯ、Ａｌ2Ｏ
3からなり、平均粒径が２μｍ以下であることを特徴と
する磁気ヘッド用非磁性基板である。ここでＣａＯが２
〜３０重量％、ＴｉＯ2が２〜５０重量％、ＮｉＯが３
０〜８０重量％が好ましく、またＡｌ2Ｏ3を含む場合は
前述の配合割合に加えて、Ａｌ2Ｏ3が０．１〜２重量％
であることが好ましい。非磁性基板の平均粒径を２μｍ
以下とするためには、粉砕時間を長くして粒径を細かく
する、あるいは通常よりも焼結温度を低くするといった
一般的な方法で達成されるほか、Ａｌ2Ｏ3を０．１重量
％から２重量％添加する方法によっても得られる。
ＣａＯ、ＴｉＯ2、ＮｉＯからなり、平均粒径が２μｍ
以下であることを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基板、
および主成分としてＣａＯ、ＴｉＯ2、ＮｉＯ、Ａｌ2Ｏ
3からなり、平均粒径が２μｍ以下であることを特徴と
する磁気ヘッド用非磁性基板である。ここでＣａＯが２
〜３０重量％、ＴｉＯ2が２〜５０重量％、ＮｉＯが３
０〜８０重量％が好ましく、またＡｌ2Ｏ3を含む場合は
前述の配合割合に加えて、Ａｌ2Ｏ3が０．１〜２重量％
であることが好ましい。非磁性基板の平均粒径を２μｍ
以下とするためには、粉砕時間を長くして粒径を細かく
する、あるいは通常よりも焼結温度を低くするといった
一般的な方法で達成されるほか、Ａｌ2Ｏ3を０．１重量
％から２重量％添加する方法によっても得られる。
【０００４】ＣａＯ、ＴｉＯ2、ＮｉＯを主成分とする
非磁性基板の熱膨張係数は図２に示すように、その組成
により可変である。磁気ヘッド用補強体としては磁気コ
アである金属軟磁性膜に近い熱膨張係数が要求されるた
め、ＣａＯが２〜３０重量％、ＴｉＯ2が２〜５０重量
％、ＮｉＯが３０〜８０重量％であることが好都合であ
る。図２中の組成Ａ（ＣａＯ ２０ｗｔ％，ＴｉＯ2 ２
８ｗｔ％，ＮｉＯ ５２ｗｔ％）について粒径の微細化
を行った結果、図３に示すように熱膨張係数および密度
には変化がなかった。それに対し、図４に示すように基
板のビッカ―ス硬度は平均粒径が小さくなるほど向上
し、その上に積層したＦｅＡｌＳｉスパッタ膜の保磁力
は減少した。これは磁気ヘッド基板としては耐摩耗性の
向上、および記録再生効率の向上に有効なことを示して
いる。
非磁性基板の熱膨張係数は図２に示すように、その組成
により可変である。磁気ヘッド用補強体としては磁気コ
アである金属軟磁性膜に近い熱膨張係数が要求されるた
め、ＣａＯが２〜３０重量％、ＴｉＯ2が２〜５０重量
％、ＮｉＯが３０〜８０重量％であることが好都合であ
る。図２中の組成Ａ（ＣａＯ ２０ｗｔ％，ＴｉＯ2 ２
８ｗｔ％，ＮｉＯ ５２ｗｔ％）について粒径の微細化
を行った結果、図３に示すように熱膨張係数および密度
には変化がなかった。それに対し、図４に示すように基
板のビッカ―ス硬度は平均粒径が小さくなるほど向上
し、その上に積層したＦｅＡｌＳｉスパッタ膜の保磁力
は減少した。これは磁気ヘッド基板としては耐摩耗性の
向上、および記録再生効率の向上に有効なことを示して
いる。
【０００５】さらに本発明によれば、補強体として上記
の非磁性基板を用いた磁気ヘッドが提供される。即ち本
発明は所定の深さを有するギャップおよび該ギャップの
深さを規定する貫通孔を備えた金属軟磁性材よりなる磁
気コアと、該磁気コアをその両側から挟み込み、前記貫
通孔に適合する貫通孔を有する一対の補強体とからなる
磁気ヘッドにおいて、補強体がＣａＯ、ＴｉＯ2、Ｎｉ
Ｏを主成分とし、かつその平均粒径が２μｍ以下の非磁
性基板よりなることを特徴とする磁気ヘッド、および所
定の深さを有するギャップおよび該ギャップの深さを規
定する貫通孔を備えた金属軟磁性材よりなる磁気コア
と、該磁気コアをその両側から挟み込み、前記貫通孔に
適合する貫通孔を有する一対の補強体とからなる磁気ヘ
ッドにおいて、補強体がＣａＯ、ＴｉＯ2、ＮｉＯ、Ａ
ｌ2Ｏ3を主成分とし、かつその平均粒径が２μｍ以下の
非磁性基板よりなることを特徴とする磁気ヘッドであ
る。本発明における磁気ヘッドとしては、図１４に示す
ような磁気ヘッドのほか、図１５に示すような構造の磁
気ヘッドであってもよい。磁気ヘッドの金属軟磁性材と
しては、Ｆｅ、Ｓｉ、ＡｌあるいはＦｅ、Ｎ、Ｍ（Ｍは
Ｔａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｖ、Ｔｉの内から選択される
少なくとも１種類の元素）を主成分とするスパッタ膜が
望ましい。
の非磁性基板を用いた磁気ヘッドが提供される。即ち本
発明は所定の深さを有するギャップおよび該ギャップの
深さを規定する貫通孔を備えた金属軟磁性材よりなる磁
気コアと、該磁気コアをその両側から挟み込み、前記貫
通孔に適合する貫通孔を有する一対の補強体とからなる
磁気ヘッドにおいて、補強体がＣａＯ、ＴｉＯ2、Ｎｉ
Ｏを主成分とし、かつその平均粒径が２μｍ以下の非磁
性基板よりなることを特徴とする磁気ヘッド、および所
定の深さを有するギャップおよび該ギャップの深さを規
定する貫通孔を備えた金属軟磁性材よりなる磁気コア
と、該磁気コアをその両側から挟み込み、前記貫通孔に
適合する貫通孔を有する一対の補強体とからなる磁気ヘ
ッドにおいて、補強体がＣａＯ、ＴｉＯ2、ＮｉＯ、Ａ
ｌ2Ｏ3を主成分とし、かつその平均粒径が２μｍ以下の
非磁性基板よりなることを特徴とする磁気ヘッドであ
る。本発明における磁気ヘッドとしては、図１４に示す
ような磁気ヘッドのほか、図１５に示すような構造の磁
気ヘッドであってもよい。磁気ヘッドの金属軟磁性材と
しては、Ｆｅ、Ｓｉ、ＡｌあるいはＦｅ、Ｎ、Ｍ（Ｍは
Ｔａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｖ、Ｔｉの内から選択される
少なくとも１種類の元素）を主成分とするスパッタ膜が
望ましい。
【０００６】
【実施例】次に本発明の実施例について説明する。 実施例１ 原料としての市販の試薬である二酸化チタン（９９％以
上）、炭酸カルシウム、酸化ニッケル（９９％以上）を
図２中のＡの組成（ＣａＯ ２０ｗｔ％，ＴｉＯ2 ２８
ｗｔ％，ＮｉＯ ５２ｗｔ％）に従って秤量し、樹脂ボ
―ルミル、および樹脂被膜ボ―ルと純水で２０時間以上
混合した。次に濾過乾燥後、アルミナ鉢に入れて８００
〜１２００℃の間で２時間以上予焼した。次に磁性ボ―
ルミルと磁性ボ―ルを用いて純水で通常時間である２０
時間、あるいは通常よりも長時間の１００時間以上、湿
式粉砕した。濾過乾燥後、ＰＶＡ８％溶液を１０ｗｔ％
ライカイキで混入し、２８メッシュのふるいを通し水分
調整後、油圧プレスにて１ｔ／ｃｍ2の圧力で４０ｍｍ
×５０ｍｍ×１０ｍｍの直方体をプレスした。大気中に
て通常の条件である１２００℃で２時間の焼成、あるい
は１１５０℃で２時間の焼成、あるいは１１００℃で２
時間の焼成を行った。更に、熱間静水圧プレス（ＨＩ
Ｐ）装置を用いて１１００℃×１０００ｋｇ×１時間の
ＨＩＰ処理を施した。
上）、炭酸カルシウム、酸化ニッケル（９９％以上）を
図２中のＡの組成（ＣａＯ ２０ｗｔ％，ＴｉＯ2 ２８
ｗｔ％，ＮｉＯ ５２ｗｔ％）に従って秤量し、樹脂ボ
―ルミル、および樹脂被膜ボ―ルと純水で２０時間以上
混合した。次に濾過乾燥後、アルミナ鉢に入れて８００
〜１２００℃の間で２時間以上予焼した。次に磁性ボ―
ルミルと磁性ボ―ルを用いて純水で通常時間である２０
時間、あるいは通常よりも長時間の１００時間以上、湿
式粉砕した。濾過乾燥後、ＰＶＡ８％溶液を１０ｗｔ％
ライカイキで混入し、２８メッシュのふるいを通し水分
調整後、油圧プレスにて１ｔ／ｃｍ2の圧力で４０ｍｍ
×５０ｍｍ×１０ｍｍの直方体をプレスした。大気中に
て通常の条件である１２００℃で２時間の焼成、あるい
は１１５０℃で２時間の焼成、あるいは１１００℃で２
時間の焼成を行った。更に、熱間静水圧プレス（ＨＩ
Ｐ）装置を用いて１１００℃×１０００ｋｇ×１時間の
ＨＩＰ処理を施した。
【０００７】以上の結果、図５〜図８に示すような基板
を作製した。ここで、図５は粉砕時間２０時間，焼結温
度１２００℃、図６は粉砕時間１００時間，焼結温度１
２００℃、図７は粉砕時間１００時間，焼結温度１１５
０℃、図８は粉砕時間１００時間，焼結温度１１００℃
である。平均粒径はそれぞれ、２．６４μｍ（図５）、
１．９８μｍ（図６）、１．７５μｍ（図７）、１．２
μｍ（図８）であった。この時、基板の熱膨張係数、密
度は図３に示すように変化しなかった。これらの基板を
鏡面研磨し洗浄した後、マグネトロンスパッタ法により
ＦｅＳｉＡｌ膜を５μｍ厚に成膜し、更に、６００℃，
２時間の熱処理を施し、磁気特性（保磁力）を評価し
た。また、基板のビッカ―ス硬度も評価した。結果は図
４に示すように、粒径が２μｍ以下となると、保磁力の
減少、また、基板のビッカ―ス硬度の増大は顕著となっ
た。
を作製した。ここで、図５は粉砕時間２０時間，焼結温
度１２００℃、図６は粉砕時間１００時間，焼結温度１
２００℃、図７は粉砕時間１００時間，焼結温度１１５
０℃、図８は粉砕時間１００時間，焼結温度１１００℃
である。平均粒径はそれぞれ、２．６４μｍ（図５）、
１．９８μｍ（図６）、１．７５μｍ（図７）、１．２
μｍ（図８）であった。この時、基板の熱膨張係数、密
度は図３に示すように変化しなかった。これらの基板を
鏡面研磨し洗浄した後、マグネトロンスパッタ法により
ＦｅＳｉＡｌ膜を５μｍ厚に成膜し、更に、６００℃，
２時間の熱処理を施し、磁気特性（保磁力）を評価し
た。また、基板のビッカ―ス硬度も評価した。結果は図
４に示すように、粒径が２μｍ以下となると、保磁力の
減少、また、基板のビッカ―ス硬度の増大は顕著となっ
た。
【０００８】実施例２ 原料としての市販の試薬である二酸化チタン（９９％以
上）、炭酸カルシウム、酸化ニッケル（９９％以上）を
所定の組成に従って秤量し、更に、Ａｌ2Ｏ3添加量を０
重量％、０．５重量％、２重量％、５重量％の４水準で
添加し、樹脂ボ―ルミルおよび樹脂被膜ボ―ルと純水で
２０時間以上混合した。次に濾過乾燥後、アルミナ鉢に
入れて８００〜１２００℃の間で２時間以上予焼した。
次に磁性ボ―ルミルと磁性ボ―ルを用いて純水で２０時
間、湿式粉砕した。濾過乾燥後、ＰＶＡ８％溶液を１０
ｗｔ％ライカイキで混入し、２８メッシュのふるいを通
し水分調整後、油圧プレスにて１ｔ／ｃｍ2の圧力で４
０ｍｍ×５０ｍｍ×１０ｍｍの直方体をプレスした。大
気中にて１２００℃で２時間の焼成を行った。更に、熱
間静水圧プレス（ＨＩＰ）装置を用いて１１００℃×１
０００ｋｇ×１時間のＨＩＰ処理を施した。
上）、炭酸カルシウム、酸化ニッケル（９９％以上）を
所定の組成に従って秤量し、更に、Ａｌ2Ｏ3添加量を０
重量％、０．５重量％、２重量％、５重量％の４水準で
添加し、樹脂ボ―ルミルおよび樹脂被膜ボ―ルと純水で
２０時間以上混合した。次に濾過乾燥後、アルミナ鉢に
入れて８００〜１２００℃の間で２時間以上予焼した。
次に磁性ボ―ルミルと磁性ボ―ルを用いて純水で２０時
間、湿式粉砕した。濾過乾燥後、ＰＶＡ８％溶液を１０
ｗｔ％ライカイキで混入し、２８メッシュのふるいを通
し水分調整後、油圧プレスにて１ｔ／ｃｍ2の圧力で４
０ｍｍ×５０ｍｍ×１０ｍｍの直方体をプレスした。大
気中にて１２００℃で２時間の焼成を行った。更に、熱
間静水圧プレス（ＨＩＰ）装置を用いて１１００℃×１
０００ｋｇ×１時間のＨＩＰ処理を施した。
【０００９】以上の結果、図９〜１２に示すような粒径
を変化させた基板を作製することができた。平均粒径
は、Ａｌ2Ｏ3添加量が０，０．５，２，５重量％でそれ
ぞれ２．６４μｍ（図９），１．９μｍ（図１０），
１．６μｍ（図１１），１．６μｍ（図１２）であっ
た。アルミナが５％ではＡｌ2Ｏ3の析出が顕著であっ
た。これらの基板を鏡面研磨し洗浄した後、マグネトロ
ンスパッタ法によりＦｅＳｉＡｌ膜を５μｍ厚に成膜
し、更に、６００℃，２時間の熱処理を施し、磁気特性
（保磁力）を評価した。また、基板のビッカ―ス硬度も
評価した。結果は図４に示した結果と同様、粒径の微細
化とともに保磁力は減少し、また、基板のビッカ―ス硬
度は増大した。
を変化させた基板を作製することができた。平均粒径
は、Ａｌ2Ｏ3添加量が０，０．５，２，５重量％でそれ
ぞれ２．６４μｍ（図９），１．９μｍ（図１０），
１．６μｍ（図１１），１．６μｍ（図１２）であっ
た。アルミナが５％ではＡｌ2Ｏ3の析出が顕著であっ
た。これらの基板を鏡面研磨し洗浄した後、マグネトロ
ンスパッタ法によりＦｅＳｉＡｌ膜を５μｍ厚に成膜
し、更に、６００℃，２時間の熱処理を施し、磁気特性
（保磁力）を評価した。また、基板のビッカ―ス硬度も
評価した。結果は図４に示した結果と同様、粒径の微細
化とともに保磁力は減少し、また、基板のビッカ―ス硬
度は増大した。
【００１０】実施例３ ＣａＯ、ＴｉＯ2、ＮｉＯよりなり、図２中の組成Ａに
おいて平均粒径が２．６４μｍ、１．２μｍなる非磁性
基板を用いて、図１４に示す構造の磁気ヘッドを作製し
た。磁気コアとして５μｍ厚のＦｅＳｉＡｌスパッタ膜
を０．１μｍ厚のＡｌ2Ｏ3膜を介して４層積層した構造
体を用いた。ギャップ長は０．３μｍ、ギャップ深さは
２７μｍとした。図１３は上記のヘッドの再生特性であ
る。テ―プ・ヘッド相対速度は２１．４ｍ／ｓｅｃ、テ
―プ保磁力は１５００（Ｏｅ）である。粒径が微細な基
板を用いることによって出力が向上した。これは、図４
に示したように、粒径の微細化で軟磁気特性が改善され
たことによる。図１に上記のヘッドの摺動摩耗特性を示
す。テ―プ・ヘッド相対速度は２１．４ｍ／ｓｅｃ、テ
―プはメタル粉塗布式である。ＭｎＯ−ＮｉＯ基板（特
公平２−４８９６５号公報）から、ＣａＯ−ＴｉＯ2−
ＮｉＯ基板に変更することによって大幅な耐摩耗性の改
善がなされたが、今回、更に、ＣａＯ−ＴｉＯ2−Ｎｉ
Ｏ基板を微粒化することによって、更なる耐摩耗性の改
善がなされた。
おいて平均粒径が２．６４μｍ、１．２μｍなる非磁性
基板を用いて、図１４に示す構造の磁気ヘッドを作製し
た。磁気コアとして５μｍ厚のＦｅＳｉＡｌスパッタ膜
を０．１μｍ厚のＡｌ2Ｏ3膜を介して４層積層した構造
体を用いた。ギャップ長は０．３μｍ、ギャップ深さは
２７μｍとした。図１３は上記のヘッドの再生特性であ
る。テ―プ・ヘッド相対速度は２１．４ｍ／ｓｅｃ、テ
―プ保磁力は１５００（Ｏｅ）である。粒径が微細な基
板を用いることによって出力が向上した。これは、図４
に示したように、粒径の微細化で軟磁気特性が改善され
たことによる。図１に上記のヘッドの摺動摩耗特性を示
す。テ―プ・ヘッド相対速度は２１．４ｍ／ｓｅｃ、テ
―プはメタル粉塗布式である。ＭｎＯ−ＮｉＯ基板（特
公平２−４８９６５号公報）から、ＣａＯ−ＴｉＯ2−
ＮｉＯ基板に変更することによって大幅な耐摩耗性の改
善がなされたが、今回、更に、ＣａＯ−ＴｉＯ2−Ｎｉ
Ｏ基板を微粒化することによって、更なる耐摩耗性の改
善がなされた。
【００１１】以上の結果は、磁気コア材料としてＦｅＳ
ｉＡｌ膜だけではなく、ＦｅＳｉＡｌ膜に微量のＲｕ、
Ｔｉ、Ｃｒ等が添加された場合でも、また、Ｆｅ−Ｎ−
Ｍ（ＭはＴａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｖ、Ｔｉの内から選
択される少なくとも１種類以上の元素、Ｎは窒素）膜を
用いた場合でも同様の効果が得られた。また、磁気ヘッ
ドの構造として図１５に示す構造であっても効果は同様
である。以上の実施例の効果は、ＣａＯの重量比が２％
から３０％、ＴｉＯ2の重量比が２％から５０％、Ｎｉ
Ｏの重量比が３０％から８０％である組成のセラミック
基板、およびＣａＯの重量比が２％から３０％、ＴｉＯ
2の重量比が２％から５０％、ＮｉＯの重量比が３０％
から８０％、Ａｌ2Ｏ3の重量比が０．１％から２％であ
る組成のセラミックであれば、同様な効果が得られる。
ｉＡｌ膜だけではなく、ＦｅＳｉＡｌ膜に微量のＲｕ、
Ｔｉ、Ｃｒ等が添加された場合でも、また、Ｆｅ−Ｎ−
Ｍ（ＭはＴａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｖ、Ｔｉの内から選
択される少なくとも１種類以上の元素、Ｎは窒素）膜を
用いた場合でも同様の効果が得られた。また、磁気ヘッ
ドの構造として図１５に示す構造であっても効果は同様
である。以上の実施例の効果は、ＣａＯの重量比が２％
から３０％、ＴｉＯ2の重量比が２％から５０％、Ｎｉ
Ｏの重量比が３０％から８０％である組成のセラミック
基板、およびＣａＯの重量比が２％から３０％、ＴｉＯ
2の重量比が２％から５０％、ＮｉＯの重量比が３０％
から８０％、Ａｌ2Ｏ3の重量比が０．１％から２％であ
る組成のセラミックであれば、同様な効果が得られる。
【００１２】
【発明の効果】本発明により積層型ヘッドの耐摩耗性が
向上し、ヘッド寿命が伸びた。更に、ヘッドの記録再生
効率が向上した。
向上し、ヘッド寿命が伸びた。更に、ヘッドの記録再生
効率が向上した。
【図１】本発明による磁気ヘッド用非磁性基板を用いた
時の積層型ヘッドの摩耗量の変化を従来例による場合と
比較して示す図である。
時の積層型ヘッドの摩耗量の変化を従来例による場合と
比較して示す図である。
【図２】ＣａＯ−ＴｉＯ2−ＮｉＯ基板の熱膨張係数の
組成比依存性を示す図である。
組成比依存性を示す図である。
【図３】図２の組成Ａでの基板の密度および熱膨張係数
の平均粒径依存性を示す図である。
の平均粒径依存性を示す図である。
【図４】基板のビッカ―ス硬度とスパッタ成膜したＦｅ
ＳｉＡｌ膜の保磁力の平均粒径依存性を示す図である。
ＳｉＡｌ膜の保磁力の平均粒径依存性を示す図である。
【図５】ボ―ルミルによる粉砕時間が２０時間、焼成温
度が１２００℃の時の基板の粒子構造を示す図面代用写
真である。
度が１２００℃の時の基板の粒子構造を示す図面代用写
真である。
【図６】ボ―ルミルによる粉砕時間が１００時間、焼成
温度が１２００℃の時の基板の粒子構造を示す図面代用
写真である。
温度が１２００℃の時の基板の粒子構造を示す図面代用
写真である。
【図７】ボ―ルミルによる粉砕時間が１００時間、焼成
温度が１１５０℃の時の基板の粒子構造を示す図面代用
写真である。
温度が１１５０℃の時の基板の粒子構造を示す図面代用
写真である。
【図８】ボ―ルミルによる粉砕時間が１００時間、焼成
温度が１１００℃の時の基板の粒子構造を示す図面代用
写真である。
温度が１１００℃の時の基板の粒子構造を示す図面代用
写真である。
【図９】Ａｌ2Ｏ3添加量が０％の時の基板の粒子構造を
示す図面代用写真である。
示す図面代用写真である。
【図１０】Ａｌ2Ｏ3添加量が０．５％の時の基板の粒子
構造を示す図面代用写真である。
構造を示す図面代用写真である。
【図１１】Ａｌ2Ｏ3添加量が２％の時の基板の粒子構造
を示す図面代用写真である。
を示す図面代用写真である。
【図１２】Ａｌ2Ｏ3添加量が５％の時の基板の粒子構造
を示す図面代用写真である。
を示す図面代用写真である。
【図１３】粒径の異なる基板を用いた時の積層型ヘッド
の再生出力の変化を示す図である。
の再生出力の変化を示す図である。
【図１４】本発明による磁気ヘッドの構成斜視図であ
る。
る。
【図１５】本発明による磁気ヘッドの構成斜視図であ
る。
る。
１ 磁気コア ２ａ，２ｂ 補強体 ３ 巻き線窓 ４ コイル ５ ガラス接合層 ６ ギャップ ７，８ 接合ガラス
フロントページの続き (72)発明者 浦井 治雄 東京都港区芝５丁目７番１号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 田村 光男 宮城県仙台市太白区郡山６丁目７番１号 株式会社トーキン内 (72)発明者 今野 政隆 宮城県仙台市太白区郡山６丁目７番１号 株式会社トーキン内
Claims (10)
- 【請求項１】 主成分としてＣａＯ、ＴｉＯ2、ＮｉＯ
からなり、平均粒径が２μｍ以下であることを特徴とす
る磁気ヘッド用非磁性基板。 - 【請求項２】 ＣａＯが２〜３０重量％、ＴｉＯ2が２
〜５０重量％、ＮｉＯが３０〜８０重量％である請求項
１記載の磁気ヘッド用非磁性基板。 - 【請求項３】 主成分としてＣａＯ、ＴｉＯ2、Ｎｉ
Ｏ、Ａｌ2Ｏ3からなり、平均粒径が２μｍ以下であるこ
とを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基板。 - 【請求項４】 ＣａＯが２〜３０重量％、ＴｉＯ2が２
〜５０重量％、ＮｉＯが３０〜８０重量％、Ａｌ2Ｏ3が
０．１〜２重量％である請求項３記載の磁気ヘッド用非
磁性基板。 - 【請求項５】 所定の深さを有するギャップおよび該ギ
ャップの深さを規定する貫通孔を備えた金属軟磁性材よ
りなる磁気コアと、該磁気コアをその両側から挟み込
み、前記貫通孔に適合する貫通孔を有する一対の補強体
とからなる磁気ヘッドにおいて、補強体がＣａＯ、Ｔｉ
Ｏ2、ＮｉＯを主成分とし、かつその平均粒径が２μｍ
以下の非磁性基板よりなることを特徴とする磁気ヘッ
ド。 - 【請求項６】 非磁性基板は、ＣａＯが２〜３０重量
％、ＴｉＯ2が２〜５０重量％、ＮｉＯが３０〜８０重
量％である請求項５記載の磁気ヘッド。 - 【請求項７】 所定の深さを有するギャップおよび該ギ
ャップの深さを規定する貫通孔を備えた金属軟磁性材よ
りなる磁気コアと、該磁気コアをその両側から挟み込
み、前記貫通孔に適合する貫通孔を有する一対の補強体
とからなる磁気ヘッドにおいて、補強体がＣａＯ、Ｔｉ
Ｏ2、ＮｉＯ、Ａｌ2Ｏ3を主成分とし、かつその平均粒
径が２μｍ以下の非磁性基板よりなることを特徴とする
磁気ヘッド。 - 【請求項８】 非磁性基板は、ＣａＯが２〜３０重量
％、ＴｉＯ2が２〜５０重量％、ＮｉＯが３０〜８０重
量％、Ａｌ2Ｏ3が０．１〜２重量％である請求項７記載
の磁気ヘッド。 - 【請求項９】 金属軟磁性材がＦｅ、Ｓｉ、Ａｌを主成
分とする請求項５〜８のいずれかに記載の磁気ヘッド。 - 【請求項１０】 金属軟磁性材がＦｅ、Ｎ、Ｍ（ＭはＴ
ａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｖ、Ｔｉの内から選択される少
なくとも１種類の元素）を主成分とする請求項５〜８の
いずれかに記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3305539A JPH05117023A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 磁気ヘツド用非磁性基板および磁気ヘツド |
| DE4235874A DE4235874C2 (de) | 1991-10-25 | 1992-10-23 | Magnetkopf mit hoher Verschleißfestigkeit und nichtmagnetisches Substrat für den Magnetkopf |
| US07/966,354 US5404259A (en) | 1991-10-25 | 1992-10-26 | Magnetic head having high wear resistance and non-magnetic substrate used in the magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3305539A JPH05117023A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 磁気ヘツド用非磁性基板および磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05117023A true JPH05117023A (ja) | 1993-05-14 |
Family
ID=17946378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3305539A Pending JPH05117023A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 磁気ヘツド用非磁性基板および磁気ヘツド |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5404259A (ja) |
| JP (1) | JPH05117023A (ja) |
| DE (1) | DE4235874C2 (ja) |
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| JP3089530B2 (ja) * | 1994-06-28 | 2000-09-18 | ソニー株式会社 | 磁気ヘッド用非磁性材料及びそれを用いた磁気ヘッド |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS60231308A (ja) * | 1984-05-01 | 1985-11-16 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | アルミナ系磁気ヘッド用基板材料及びその製造方法 |
| JPS6288137A (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-22 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
| JPH0624043B2 (ja) * | 1987-07-31 | 1994-03-30 | 日本鉱業株式会社 | 磁気ヘツド |
| US5231555A (en) * | 1988-02-25 | 1993-07-27 | Nippon Mining Co., Ltd. | Magnetic head comprising a laminated magnetic layer structure between non magnetic rock salt structure oxide substrates |
| JP2800237B2 (ja) * | 1988-05-31 | 1998-09-21 | 富士ゼロックス株式会社 | 光記録ヘッド及びこれを用いた光プリンタ |
| JP2971891B2 (ja) * | 1989-03-20 | 1999-11-08 | ソニー株式会社 | 磁気ヘッド |
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| US5168407A (en) * | 1990-03-26 | 1992-12-01 | Nippon Mining Company, Ltd. | Flying magnetic head |
| JPH0413207A (ja) * | 1990-04-28 | 1992-01-17 | Hitachi Metals Ltd | 複合型磁気ヘッド |
| JPH0430308A (ja) * | 1990-05-25 | 1992-02-03 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| DE69117362T2 (de) * | 1990-07-13 | 1996-07-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Zusammengesetzter Magnetkopf |
| JPH04141810A (ja) * | 1990-10-01 | 1992-05-15 | Nec Corp | 磁気ヘッド |
| DE69108874T2 (de) * | 1990-12-12 | 1995-08-24 | Japan Energy Corp | Unmagnetisches Substrat eines Magnetkopfs, Magnetkopf- und Substratherstellungsverfahren. |
-
1991
- 1991-10-25 JP JP3305539A patent/JPH05117023A/ja active Pending
-
1992
- 1992-10-23 DE DE4235874A patent/DE4235874C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-10-26 US US07/966,354 patent/US5404259A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4235874C2 (de) | 1994-12-22 |
| DE4235874A1 (de) | 1993-05-27 |
| US5404259A (en) | 1995-04-04 |
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