JPH05114175A - Method for electrocasting stamper for production of information recording medium - Google Patents
Method for electrocasting stamper for production of information recording mediumInfo
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- JPH05114175A JPH05114175A JP30131291A JP30131291A JPH05114175A JP H05114175 A JPH05114175 A JP H05114175A JP 30131291 A JP30131291 A JP 30131291A JP 30131291 A JP30131291 A JP 30131291A JP H05114175 A JPH05114175 A JP H05114175A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光カード、光ディス
ク、光磁気ディスク等の情報を記録再生する情報記録媒
体ないし該媒体の基板(以後、情報記録媒体等と記す)
を複製するための、情報記録媒体等成形用スタンパーの
電鋳方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording medium for recording and reproducing information such as an optical card, an optical disc, a magneto-optical disc or a substrate of the medium (hereinafter referred to as an information recording medium etc.).
The present invention relates to an electroforming method of a stamper for molding an information recording medium, etc.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、情報記録媒体等成形用スタンパー
は、通常、特開昭61−284843号公報、実開昭5
8−141435号公報、「光ディスクプロセス技術の
要点No.5」(日本工業技術センター)等に記載され
ている様な方法により製造されている。2. Description of the Related Art Conventionally, a stamper for molding an information recording medium or the like is usually disclosed in JP-A-61-284843 and JP-A-5-58.
It is manufactured by a method as described in Japanese Patent Laid-Open No. 8-141435, "Point No. 5 of optical disk process technology" (Japan Industrial Technology Center) and the like.
【0003】すなわち、具体的に述べると、図3(a)
〜(e)に示す様に、まず、ガラス基板22の表面にフ
ォトレジスト21を塗布し(図3(a)参照)、そのう
えに、トラッキング用溝、情報用ピット等の凹凸の微細
パターン21aを形成することによって、ガラス原盤1
を得る。(図3(b)参照)That is, specifically speaking, FIG. 3 (a)
As shown in (e) to (e), first, a photoresist 21 is applied to the surface of the glass substrate 22 (see FIG. 3A), and a fine pattern 21a of irregularities such as tracking grooves and information pits is formed thereon. By doing the glass master 1
To get (See Fig. 3 (b))
【0004】次に、上記ガラス原盤1の表面に導電化膜
23を形成し(図3(c)参照)、導電化膜を形成した
ガラス原盤1aを得た後、該導電化膜23の上に電鋳法
により金属膜24を形成し(図3(d)参照)、これら
の導電化膜23および金属膜24を一体として同時にガ
ラス原盤1から剥離させ、情報記録媒体等成形用スタン
パー(マザー、マスター)25を製造している。(図3
(e)参照)Next, a conductive film 23 is formed on the surface of the glass master 1 (see FIG. 3C) to obtain a glass master 1a on which the conductive film is formed, and then the conductive film 23 is formed. A metal film 24 is formed on the glass by electroforming (see FIG. 3 (d)), and the conductive film 23 and the metal film 24 are integrally separated from the glass master 1 at the same time, and a stamper (mother for molding an information recording medium, etc.) is formed. , Master) 25 is manufactured. (Fig. 3
(See (e))
【0005】一般的な電鋳法(Electroform
ing)のプロセスは、上述したとおりである。特に、
電鋳工程の図3(c)〜(d)を詳しく説明すると、図
3の導電化膜23は、真空中での金属の蒸着、もしくは
スパッタリング等の方法により成膜され、材料は金また
はニッケルであり、多くの場合ニッケルが用いられる。
トラッキング用溝、情報用ピット等の凹凸の微細パター
ン21aの上に、厚さ50〜100nmのニッケル層を
スパッタリング法により成膜するのが一般的である。General electroforming method (Electroform)
ing) process is as described above. In particular,
3 (c) to 3 (d) of the electroforming process will be described in detail, the conductive film 23 in FIG. 3 is formed by a method such as vapor deposition of metal in vacuum or sputtering, and the material is gold or nickel. And nickel is often used.
It is common to deposit a nickel layer having a thickness of 50 to 100 nm on the fine pattern 21a having irregularities such as tracking grooves and information pits by a sputtering method.
【0006】次に、電鋳工程の図3(d)に移るが、そ
の前段階で、スルファミン酸ニッケル電鋳液の有機不純
物は定期的な活性炭処理によって、また金属イオンは電
解クリーニングによって偏析させ、除去を図っている。
また、ここで使用するスルファミン酸ニッケル電鋳液の
液組成は、以下の様な組成のものが用いられている。Next, as shown in FIG. 3 (d) of the electroforming step, in the preceding step, organic impurities of nickel sulfamate electroforming solution are segregated by periodical activated carbon treatment, and metal ions are segregated by electrolytic cleaning. , We are trying to remove it.
The liquid composition of the nickel sulfamate electroforming liquid used here has the following composition.
【0007】 スルファミン酸ニッケル・4水塩[Ni(NH2 SO3 )2 ・4H2 O] 500g/l ほう酸[H3 BO3 ] 35〜38g/l ピット防止剤 2.5ml/l スルファミン酸ニッケル電鋳液のpHは、通常3〜5に
調整される。pHの変動は内部歪みを発生させ、スタン
パーのカーリングを引き起こすので、臭化ニッケル、ス
ルファミン酸、か性ソーダ等の直接添加によって調整す
る。[0007] nickel sulfamate tetrahydrate [Ni (NH 2 SO 3) 2 · 4H 2 O] 500g / l boric acid [H 3 BO 3] 35~38g / l pit inhibitor 2.5 ml / l nickel sulfamate The pH of the electroforming liquid is usually adjusted to 3-5. Fluctuations in pH cause internal strain and curling of the stamper, so adjustment is made by direct addition of nickel bromide, sulfamic acid, caustic soda, or the like.
【0008】次に、図4に示す様に、ニッケルチップ9
を陽極、導電化膜を形成したガラス原盤1aを陰極とし
て、モーター4により、導電化膜を形成したガラス原盤
1aを回転させながら、スルファミン酸ニッケル電鋳液
5中で通電する。このようにすると、導電化膜を形成し
たガラス原盤1a上にニッケル金属のみを析出させるこ
とができる。液温の制御には加熱ヒーター10を用い、
設定温度を50〜55℃としている。Next, as shown in FIG.
Is used as an anode, and the glass master 1a having the conductive film formed thereon is used as a cathode, while the motor 4 rotates the glass master 1a having the conductive film formed thereon, electricity is applied in the nickel sulfamate electroforming solution 5. By doing so, only nickel metal can be deposited on the glass master 1a on which the conductive film is formed. The heater 10 is used to control the liquid temperature,
The set temperature is 50 to 55 ° C.
【0009】なお、電鋳を行なうときには、電鋳槽の陽
極と陰極の間に邪魔板を挿入して板厚分布を良くするこ
と(特開昭59−177388号公報、特開昭60−1
7089号公報、特開昭61−279699号公報)、
ピンホールの防止のために、電鋳槽に生成する不溶解性
酸化物スライムやスマットなどの異物を予備槽で取り除
くこと(実開昭58−141435号公報)、また電鋳
の際に電極表面上に発生もしくは付着する気体を除去す
るため、電鋳液に超音波をかける(特願平3−5610
号)ことなどが行なわれている。When performing electroforming, a baffle plate should be inserted between the anode and the cathode of the electroforming tank to improve the plate thickness distribution (JP-A-59-177388 and JP-A-60-1).
7089, JP-A-61-2799699),
In order to prevent pinholes, foreign matters such as insoluble oxide slime and smut generated in the electroforming tank are removed in a preliminary tank (Japanese Utility Model Laid-Open No. 58-141435), and the electrode surface during electroforming. Ultrasonic waves are applied to the electroforming liquid in order to remove the gas generated or adhering to it (Japanese Patent Application No. 3-5610).
No.) things are being done.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】従来、図4に示す様
に、陰極の導電化膜を形成したガラス原盤1aを下側に
向けて、陽極2と向き合う様に固定して電鋳を行なって
いる。これは電鋳を行なっている時に、陽極2から発生
する陽極の不溶解性のごみ(スライムやスマット)が発
生した時に、陰極1aが上や横を向いていると、これら
のごみが陰極の表面上に付着するか、またはこれらの異
物が陰極表面上に共析出してしまうのを避けるためであ
る。Conventionally, as shown in FIG. 4, a glass master 1a having a conductive film for a cathode is directed downward and fixed so as to face the anode 2, and electroforming is performed. There is. This is because if insoluble dust (slime or smut) of the anode generated from the anode 2 is generated during electroforming, and the cathode 1a is facing upward or sideways, these dust will not be discharged to the cathode. This is to prevent them from adhering to the surface or coprecipitating these foreign substances on the surface of the cathode.
【0011】また、陰極の導電化膜を形成したガラス原
盤1aを下側に向けて電鋳を行なうと気体などが閉じ込
められたり、気体が発生した時に、これらの気体は、陰
極1aの表面に閉じ込められて電鋳膜の生成速度を不均
一にしたり、「す」(鬆)や突起、凹みを発生させたり
するという問題点があった。When electroforming is performed with the glass master disk 1a on which the conductive film of the cathode is formed facing downward, when gas or the like is trapped, or when gas is generated, these gases are deposited on the surface of the cathode 1a. There is a problem in that the formation rate of the electroformed film becomes non-uniform due to being confined, and “spots” (voids), protrusions, and depressions are generated.
【0012】本発明は、上記の問題を解決する目的でな
されたものであり、光ビームの照射によって、光学特性
を変化させて情報の記録・再生を行なう情報記録媒体製
造用スタンパーを、原盤に電鋳を行なうことによって製
造する方法において、「す」(鬆)や突起、凹みのない
スタンパーを得ることができる電鋳方法を提供するもの
である。The present invention has been made for the purpose of solving the above problems, and a stamper for manufacturing an information recording medium, which records and reproduces information by changing the optical characteristics by irradiation of a light beam, is used as a master disc. It is intended to provide an electroforming method capable of obtaining a stamper free from "su" (voids), protrusions and dents in a method of manufacturing by performing electroforming.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、光ビー
ムの照射によって、光学特性を変化させて情報の記録・
再生を行なう情報記録媒体製造用スタンパーを、記録す
べき情報に対応した凹凸パターンが形成された原盤に電
鋳を行なうことによって製造する方法において、電鋳の
開始時から終了時までの任意の時点で、電鋳液に圧力の
変動を与えながら電鋳を行なうことを特徴とする情報記
録媒体製造用スタンパーの電鋳方法である。That is, according to the present invention, the optical characteristics are changed by irradiation of a light beam to record / record information.
In a method of manufacturing a stamper for manufacturing an information recording medium to be reproduced by electroforming on a master having an uneven pattern corresponding to information to be recorded, at any time from the start to the end of electroforming Then, the electroforming method of the stamper for manufacturing an information recording medium is characterized in that the electroforming is performed while the pressure of the electroforming liquid is changed.
【0014】以下、本発明を詳細に説明する。本発明
は、光ビームの照射によって光学特性を変化させて、情
報の記録・再生を行なう情報記録媒体製造用スタンパー
を、記録すべき情報に対応した凹凸パターンが形成され
た原盤に電鋳を行なうことによってスタンパーを製造す
る方法において、陽極と陰極が互いに対向する間隙中
で、電鋳の開始時から終了時での任意の時点において、
電鋳液に圧力の変動を与えながら電鋳を行なうことによ
って、「す」(鬆)や突起、凹みのないスタンパーの電
鋳方を提供することにある。The present invention will be described in detail below. According to the present invention, an information recording medium manufacturing stamper that records and reproduces information by changing the optical characteristics by irradiation of a light beam is electroformed on a master having a concavo-convex pattern corresponding to the information to be recorded. In the method of manufacturing a stamper by, in the gap where the anode and the cathode face each other, at any time from the start to the end of electroforming,
An object of the present invention is to provide a method of electroforming a stamper that does not have "su" (voids), protrusions, or dents by performing electroforming while applying pressure fluctuations to the electroforming liquid.
【0015】すなわち、本発明の電鋳方法を用いること
によって、陰極の上に発生もしくは付着した気体を効果
的に除去することができるため、「す」(鬆)や突起、
凹みのない電鋳スタンパーを得られるという利点があ
る。That is, by using the electroforming method of the present invention, it is possible to effectively remove the gas generated or attached on the cathode.
There is an advantage that an electroformed stamper without a dent can be obtained.
【0016】図1は本発明の情報記録媒体製造用スタン
パーの電鋳方法に用いる電鋳装置の一例を示す断面図、
図2は本発明の情報記録媒体製造用スタンパーの電鋳方
法に用いる電鋳装置の他の例を示す断面図である。図3
(a)〜(e)は、一般的な電鋳法による情報記録媒体
用スタンパーの製造方法を示す工程説明図である。FIG. 1 is a sectional view showing an example of an electroforming apparatus used in the electroforming method of a stamper for producing an information recording medium of the present invention,
FIG. 2 is a sectional view showing another example of the electroforming apparatus used in the electroforming method of the stamper for manufacturing an information recording medium of the present invention. Figure 3
(A)-(e) is process explanatory drawing which shows the manufacturing method of the stamper for information recording media by a general electroforming method.
【0017】図1の電鋳装置において、5はニッケル金
属を析出させて電鋳を行なうためのスルファミン酸ニッ
ケル電鋳液、3はスルファミン酸ニッケル電鋳液を収容
するための電鋳槽、1lは電鋳槽内のスルファミン酸ニ
ッケル電鋳液を循環させ、ごみや、不純物を除去する濾
過フィルター、9は導電化処理されたガラス原盤に金属
膜を形成するためのニッケルチップ、10は液温を調節
するための加熱ヒーターである。In the electroforming apparatus of FIG. 1, 5 is a nickel sulfamate electroforming liquid for depositing nickel metal for electroforming, 3 is an electroforming tank for containing the nickel sulfamate electroforming liquid, 1 l Is a filtration filter that removes dust and impurities by circulating the nickel sulfamate electroforming solution in the electroforming tank, 9 is a nickel chip for forming a metal film on a glass master that has been subjected to electroconductivity, and 10 is a solution temperature. It is a heating heater for adjusting.
【0018】また、図1において、12は電鋳液の液組
成を制御するときに、あらかじめ電鋳液組成物の所要量
を加えて電鋳槽内の電鋳液と速やかに混合することを可
能にする電鋳液調整槽、14は該調整槽から電鋳槽へ電
鋳液または電鋳液調整液を送り込むための加圧ポンプP
1、13は電鋳槽から電鋳液を液調整槽に送り込むため
の加圧ポンプP2である。Further, in FIG. 1, reference numeral 12 indicates that when the liquid composition of the electroforming liquid is controlled, a required amount of the electroforming liquid composition is added in advance and the mixture is rapidly mixed with the electroforming liquid in the electroforming tank. An electroforming liquid adjusting tank for enabling 14 is a pressurizing pump P for feeding the electroforming liquid or the electroforming liquid adjusting liquid from the adjusting tank to the electroforming tank.
Reference numerals 1 and 13 denote pressurizing pumps P2 for feeding the electroforming liquid from the electroforming tank into the liquid adjusting tank.
【0019】1はトラッキング用溝や情報用ピット等の
凹凸の微細パターンの施されたガラス原盤に導電化膜を
形成したガラス原盤、15は導電化膜を形成したガラス
原盤1aを保持するホルダー、4は上記ホルダーとガラ
ス原盤を回転させるためのモーター、16はホルダー1
5とモーター4とを連結して回転力を伝えるシャフト、
17はハッチ、18はホルダーユニットが電鋳槽に装着
されている間、実質的に電鋳槽と外界とを遮断するシー
ル材である。Reference numeral 1 denotes a glass master disk having a conductive film formed on a glass master disk having an uneven fine pattern such as tracking grooves and information pits, and 15 a holder for holding the glass master disk 1a having the conductive film formed thereon. 4 is a motor for rotating the holder and the glass master, 16 is a holder 1
A shaft that connects the motor 5 and the motor 4 and transmits the rotational force,
Reference numeral 17 is a hatch, and reference numeral 18 is a seal material that substantially shuts off the electroforming tank from the outside while the holder unit is mounted in the electroforming tank.
【0020】一方、図3の情報記録媒体等成形用スタン
パーの製造方法を示す一般的な電鋳法の工程図におい
て、22は青板ガラス等のガラス基板、21は該ガラス
基板上にパターニングするためのフォトレジスト、21
aは該フォトレジストに露光および現像を行なうことに
より得られるトラッキング用溝、情報用ピット等の凹凸
の微細パターン、1はガラス基板上にトラッキング用
溝、情報用ピット等の凹凸の微細パターンを形成するこ
とによって得られるガラス原盤、23は上記ガラス原盤
上に金属膜を形成するために前処理で付与された導電化
膜、1aはトラッキング用溝や情報用ピットパターン等
の凹凸パターンの施されたガラス原盤に導電化膜を形成
したガラス原盤、24は電鋳法により導電化膜を形成し
たガラス原盤へ成膜される金属膜、25はこれら導電化
膜および金属膜を一体として、同時にガラス原盤より剥
離させることにより得られる情報記録媒体等成形用スタ
ンパーである。On the other hand, in the process chart of the general electroforming method showing the method of manufacturing the stamper for molding the information recording medium of FIG. 3, 22 is a glass substrate such as soda lime glass, and 21 is for patterning on the glass substrate. Photoresist, 21
Reference numeral a is a fine pattern of irregularities such as tracking grooves and information pits obtained by exposing and developing the photoresist, and 1 is a fine pattern of irregularities such as tracking grooves and information pits formed on a glass substrate. The glass master 23 obtained by the above-mentioned process, 23 is a conductive film provided by a pretreatment for forming a metal film on the glass master, and 1a is provided with a concavo-convex pattern such as a tracking groove or an information pit pattern. A glass master having a conductive film formed on the glass master, 24 is a metal film formed on the glass master having the conductive film formed by electroforming, and 25 is a glass master that is a combination of the conductive film and the metal film. It is a stamper for molding an information recording medium or the like obtained by further peeling.
【0021】情報記録媒体等成形用スタンパーの製造方
法は、図3(a)〜(e)に示す様に、まず、ガラス基
板22の表面にフォトレジスト21を塗布し(図3
(a)参照)、そのうえに、トラッキング用溝、情報用
ピット等の凹凸の微細パターン21aを形成することに
よって、ガラス原盤1を得る。(図3(b)参照)In a method of manufacturing a stamper for molding an information recording medium or the like, as shown in FIGS. 3A to 3E, first, a photoresist 21 is applied to the surface of a glass substrate 22 (see FIG.
(Refer to (a)), and the glass master 1 is obtained by further forming a fine pattern 21a of irregularities such as tracking grooves and information pits. (See Fig. 3 (b))
【0022】次に、上記ガラス原盤1の表面に導電化膜
23を形成し(図3(c)参照)、導電化膜を形成した
ガラス原盤1aを得た後、該導電化膜23の上に電鋳法
により金属膜24を形成し(図3(d)参照)、これら
の導電化膜23および金属膜24を一体として同時にガ
ラス原盤1から剥離させ、情報記録媒体等成形用スタン
パー25を得る。(図3(e)参照)Next, a conductive film 23 is formed on the surface of the glass master 1 (see FIG. 3C) to obtain a glass master 1a having the conductive film formed thereon, and then the conductive film 23 is formed. A metal film 24 is formed by electroforming on the substrate (see FIG. 3D), and the conductive film 23 and the metal film 24 are integrally separated from the glass master 1 at the same time to form a stamper 25 for molding an information recording medium or the like. obtain. (See Fig. 3 (e))
【0023】図1は、図3(d)の電鋳工程を示す断面
図であり、電鋳槽3に陽極2と陰極1は対向する位置に
置かれている。陰極1は下側を向きながらモーター4で
軸を中心にして回転している。電鋳槽3には、電鋳槽内
を減圧できるように真空ポンプ6が連結されている。電
鋳により陰極1aの表面上に発生した気泡は、真空ポン
プ6により電鋳槽内を真空にすることで急激に膨張し、
浮力が増加し、気泡は電極から離れていく。真空ポンプ
6と電鋳槽3の間には電鋳液の蒸気が真空ポンプ内に入
っていかないようにトラップ7が設けられている。気泡
が電極から除かれたら、バルプ8を開放し電鋳槽内を常
圧にもどす。この操作を電鋳を行なっている間繰り返し
行なうことにより、陰極表面上に付着又は発生した気泡
を繰り返し除去することができる。電鋳液を長時間連続
して真空下におくと、多量の電鋳液が蒸発してしまうの
で好ましくない。電鋳液を真空下におく時間は、例えば
50℃、100mmHgで10分以内、好ましくは5分
以内である。真空度は電鋳液のその温度における飽和蒸
気圧以下が好ましい。FIG. 1 is a sectional view showing the electroforming step of FIG. 3D, in which the anode 2 and the cathode 1 are placed in the electrocasting tank 3 at positions facing each other. The cathode 1 is rotated around a shaft by a motor 4 while facing downward. A vacuum pump 6 is connected to the electroforming tank 3 so as to reduce the pressure inside the electroforming tank. The bubbles generated on the surface of the cathode 1a by electroforming expand rapidly when the electroforming tank is evacuated by the vacuum pump 6,
Buoyancy increases and bubbles move away from the electrode. A trap 7 is provided between the vacuum pump 6 and the electroforming tank 3 so that vapor of the electroforming liquid does not enter the vacuum pump. After the bubbles are removed from the electrode, the valve 8 is opened and the pressure in the electroforming tank is returned to normal pressure. By repeating this operation during electroforming, it is possible to repeatedly remove the bubbles that have adhered to or generated on the surface of the cathode. If the electroforming liquid is continuously placed under vacuum for a long time, a large amount of the electroforming liquid will evaporate, which is not preferable. The time for which the electroforming liquid is placed under vacuum is, for example, within 10 minutes at 50 ° C. and 100 mmHg, preferably within 5 minutes. The degree of vacuum is preferably equal to or lower than the saturated vapor pressure of the electroforming liquid at that temperature.
【0024】次に、図2は本発明のスタンパーの電鋳方
法の他の実施態様を示すが、この場合には、電鋳槽3に
は、電鋳槽内を加圧できるように、加圧ポンプ6aが連
結されている。電鋳により陰極表面上に発生した気泡
は、加圧ポンプ6aにより電鋳槽内を加圧することによ
り気泡は小さくなる。次いで、バルブ8を開放し常圧に
もどすと、気泡は急激に膨張し、浮力が増加し、気泡は
電極から離れてゆく。加える圧力は高い方が効果がある
が、高すぎると電鋳槽を強固にしなければならない。好
ましくは10気圧程度が良い。気泡が電極から除かれ
後、バルブ8を閉じ再び加圧する。この操作を電鋳を行
っている間繰り返し行なうことにより、陰極表面上に付
着又は発生した気泡を繰り返し除くことができる。Next, FIG. 2 shows another embodiment of the electroforming method for a stamper according to the present invention. In this case, the electroforming tank 3 is applied with pressure so that the inside of the electroforming tank can be pressurized. The pressure pump 6a is connected. The bubbles generated on the cathode surface by electroforming are reduced by pressurizing the inside of the electroforming tank by the pressure pump 6a. Next, when the valve 8 is opened and returned to normal pressure, the bubble expands rapidly, the buoyancy increases, and the bubble separates from the electrode. The higher the pressure applied, the more effective it is, but if it is too high, the electroforming tank must be strengthened. It is preferably about 10 atm. After the bubble is removed from the electrode, the valve 8 is closed and the pressure is applied again. By repeating this operation while electroforming is performed, it is possible to repeatedly remove the air bubbles adhered to or generated on the surface of the cathode.
【0025】[0025]
【作用】本発明のスタンパーの電鋳方法は、電鋳の開始
時から終了時の任意の時間に電鋳液に圧力の変動を加え
ることによって、陰極の原盤表面に発生または付着した
気体を除去することにより、「す」(鬆)や突起、凹み
のない電鋳スタンパーを得ることができる。The stamper electroforming method of the present invention removes the gas generated or adhering to the cathode master surface by changing the pressure of the electroforming liquid at any time from the start to the end of electroforming. By doing so, it is possible to obtain an electroformed stamper having no "su" (void), protrusions, or dents.
【0026】[0026]
【実施例】以下、実施例に基づき本発明を詳細に説明す
るが、本発明は以下に述べる実施例には限定されるもの
ではない。EXAMPLES The present invention will be described in detail below based on examples, but the present invention is not limited to the examples described below.
【0027】実施例1 厚さ10mm、φ355mmのガラス板(旭ガラス)上
に、フォトレジスト(AZ1300、ヘキストジャパン
製)を0.11μmの厚さに回転塗布した後、レーザー
露光機(松下電気製)でパターンを露光し、現像して、
ピッチ1.6μm、幅0.7μm、深さ1100Åの同
心円の凹凸パターンを形成した。その後、ニッケルを1
000Åの厚さにスパッターして導電化処理した。この
凹凸パターンの形成されたガラス板を外形φ400m
m、角度45度、長さ10mmのテーパーの形成された
丸型原盤ホールダーに固定し、図1に示す装置を用いて
電鋳を行った。陽極としてはニッケル球をチタンの籠に
入れて、綿布で覆ってごみの流失を抑えたものを用い
た。Example 1 A photoresist (AZ1300, manufactured by Hoechst Japan) was spin-coated on a glass plate (Asahi glass) having a thickness of 10 mm and a diameter of 355 mm to a thickness of 0.11 μm, and then a laser exposure machine (manufactured by Matsushita Electric Co., Ltd.) was used. ) To expose and develop the pattern,
A concavo-convex pattern having a pitch of 1.6 μm, a width of 0.7 μm and a depth of 1100 Å was formed. Then 1 nickel
The film was sputtered to a thickness of 000Å for conductivity treatment. The outer diameter of the glass plate having this uneven pattern is 400 m
It was fixed to a round master holder having a taper of m, an angle of 45 degrees, and a length of 10 mm, and electroforming was performed using the apparatus shown in FIG. The anode used was one in which a nickel ball was placed in a titanium basket and covered with a cotton cloth to prevent dust from flowing away.
【0028】電鋳液としては下記の組成に混合した液を
500リットル用いて、電鋳槽150リットル、予備槽
350リットルの電鋳槽に入れて、液温度45℃、pH
4.0の状態で、液全体を10回/時間のサイクルで循
環させた。As an electroforming liquid, 500 liters of a liquid mixed with the following composition was placed in an electroforming bath having an electroforming tank of 150 liters and a preliminary tank of 350 liters, and a liquid temperature of 45 ° C. and pH.
In the state of 4.0, the whole liquid was circulated in a cycle of 10 times / hour.
【0029】 スルファミン酸ニッケル(4水和物) 450g/l ホウ酸 30g/l ピット防止剤 5ml/l 電流条件は最初は3Aで30分間流してから、50Aま
で電流を上げて、13000A分の積算電流値になるま
で電鋳を行った。真空排気は真空ポンプを用いて、5分
間かけて70mmHgまで減圧し、次いでバルブを開放
し、急激に常圧にもどした。10分後、再び減圧を始め
同様に5分間かけ70mmHgまで減圧し、同様にバル
ブを開放した。この操作を電鋳開始初期から終了時まで
繰り返し行った。このにして300μmの厚さの電鋳ス
タンパーを得た。Nickel sulfamate (tetrahydrate) 450 g / l Boric acid 30 g / l Pit preventive agent 5 ml / l The current condition is to initially flow at 3 A for 30 minutes, then increase the current to 50 A, and integrate 13000 A minutes. Electroforming was performed until the current value was reached. For evacuation, a vacuum pump was used to reduce the pressure to 70 mmHg over 5 minutes, and then the valve was opened to rapidly return to normal pressure. After 10 minutes, the pressure was reduced again, and the pressure was reduced to 70 mmHg over 5 minutes in the same manner, and the valve was similarly opened. This operation was repeated from the beginning to the end of electroforming. In this way, an electroformed stamper having a thickness of 300 μm was obtained.
【0030】得られたスタンパー表面を目視で観察した
ところ「す」(鬆)や突起、凹みは見出されなかった。
このスタンパーを半分の厚さまで研磨してみても、
「す」(鬆)や突起、凹みは見出されなかった。The surface of the stamper thus obtained was visually observed, and no "su" (void), protrusions or dents were found.
Even if you try to polish this stamper to half the thickness,
No "su" (voids), protrusions, or dents were found.
【0031】実施例2 図2に示す装置を用いて、加圧操作を行なうこと以外
は、実施例1と同様に電鋳を行った。加圧操作は5分間
かけて7気圧まで加圧し、次いでバルブを開放し急激に
圧力を常圧にもどした。10分後再び加圧を始め、同様
に5分間かけ7気圧まで加圧し同様にバルブを開放し
た。この操作を実施例1と同様に、電鋳開始初期から終
了時まで繰り返し行なった。このようにして実施例1と
同じ積算電流値まで電鋳した。Example 2 Using the apparatus shown in FIG. 2, electroforming was performed in the same manner as in Example 1 except that the pressurizing operation was performed. The pressurizing operation was carried out by pressurizing to 7 atm over 5 minutes, then opening the valve and rapidly returning the pressure to normal pressure. After 10 minutes, the pressurization was started again, the pressure was similarly increased to 7 atm over 5 minutes, and the valve was similarly opened. This operation was repeated from the beginning of electroforming to the end thereof, as in Example 1. In this way, electroforming was performed up to the same integrated current value as in Example 1.
【0032】得られた電鋳スタンパーを観察したとこ
ろ、「す」(鬆)や突起、凹みは、スタンパー表面には
観察されなかった。実施例1と同様に半分の厚さまで研
磨しても「す」(鬆)や突起、凹みは観察されなかっ
た。When the electroformed stamper thus obtained was observed, no "su" (void), protrusions, or dents were observed on the stamper surface. Even when polishing was performed to a half thickness as in Example 1, no "voids" (voids), protrusions, or depressions were observed.
【0033】比較例1 実施例1と同様なガラス原盤を用いて、実施例1と同じ
原盤ホールダー、実施例1と同じ陽極、電鋳液、電鋳槽
を用いた。今回は電鋳槽には加圧、もしくは減圧の操作
を加えず、電鋳初期から電鋳終了時まで電鋳槽内の圧力
は一定であった。電流条件は実施例1と同様で、実施例
1と同じ積算電流値まで電鋳した。Comparative Example 1 Using the same glass master as in Example 1, the same master holder as in Example 1, the same anode as in Example 1, an electroforming liquid, and an electroforming tank were used. This time, the electroforming tank was not pressurized or depressurized, and the pressure inside the electroforming tank was constant from the beginning of electroforming to the end of electroforming. The current conditions were the same as in Example 1, and electroforming was performed up to the same integrated current value as in Example 1.
【0034】実施例1と同じ電流条件、実施例1と同様
に電鋳されたスタンパー表面を観察したところ、「す」
(鬆)や突起、凹みは観察されなかった。実施例1と同
様に半分の厚さまで研磨してみたところ、スタンパーの
全面に渡って、径0.1〜0.2mmφの凹みが多数観
察された。Observation of the electroformed stamper surface in the same current condition as in Example 1 and in the same manner as in Example 1 revealed that
No (voids), protrusions, or dents were observed. When polishing was performed to half the thickness in the same manner as in Example 1, a large number of dents having a diameter of 0.1 to 0.2 mm were observed over the entire surface of the stamper.
【0035】[0035]
【発明の効果】以上説明した様に、本発明の電鋳方法を
用いると、電鋳槽に収容された陰極の原盤もしくは原盤
ホールダーのテーパー部に気泡が存在しても、圧力を変
動させることによって気泡を除去できるため、電鋳膜の
生成妨害が発生しなくなり、電鋳膜の生成速度が均一に
なる。そのため、電鋳膜中に「す」(鬆)や突起や凹み
が発生することがない効果が得られる。特に角型の原盤
を用いて電鋳するときには、気体が角に停滞し易いので
圧力を変動させることによる気体の除去効果は大きい。As described above, when the electroforming method of the present invention is used, the pressure can be changed even if bubbles are present in the cathode master plate or the taper part of the master holder housed in the electroforming tank. Since the bubbles can be removed by this, the generation of the electroformed film is not disturbed, and the formation speed of the electroformed film becomes uniform. Therefore, it is possible to obtain the effect that "su" (void), protrusions, and depressions are not generated in the electroformed film. In particular, when electroforming is performed using a square master, the gas is likely to stay at the corners, so the effect of removing the gas by varying the pressure is large.
【図1】本発明の情報記録媒体製造用スタンパーの電鋳
方法に用いる電鋳装置の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an example of an electroforming apparatus used in an electroforming method of a stamper for manufacturing an information recording medium of the present invention.
【図2】本発明の情報記録媒体製造用スタンパーの電鋳
方法に用いる電鋳装置の他の例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the electroforming apparatus used in the electroforming method of the stamper for manufacturing an information recording medium of the present invention.
【図3】一般的な電鋳法による情報記録媒体用スタンパ
ーの製造方法を示す工程説明図である。FIG. 3 is a process explanatory view showing a method for manufacturing a stamper for an information recording medium by a general electroforming method.
【図4】従来の情報記録媒体製造用スタンパーの電鋳方
法に用いる電鋳装置の一例を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing an example of an electroforming apparatus used in a conventional electroforming method of a stamper for manufacturing an information recording medium.
1 ガラス原盤 1a 導電化膜形成ガラス原盤(陰極) 2 陽極 3 電鋳槽 4 モータ 5 電鋳液 6 真空ポンプ 7 トラップ 8 バルブ 9 ニッケルチップ 10 加熱ヒータ 11 フィルター 12 調整槽 13 加圧ポンプP2 14 加圧ポンプP1 15 原盤ホルダー 16 シャフト 17 ハッチ 18 フレキシブルハッチ 21 フォトレジスト 21a 微細パターン 22 ガラス基板 23 導電化膜 24 金属膜 25 情報記録媒体等成形用スタンパー 1 glass master 1a conductive film forming glass master (cathode) 2 anode 3 electroforming tank 4 motor 5 electroforming liquid 6 vacuum pump 7 trap 8 valve 9 nickel tip 10 heating heater 11 filter 12 adjusting tank 13 pressurizing pump P2 14 addition Pressure pump P1 15 Master holder 16 Shaft 17 Hatch 18 Flexible hatch 21 Photoresist 21a Fine pattern 22 Glass substrate 23 Conductive film 24 Metal film 25 Stamper for molding information recording medium etc.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 湯浅 俊哉 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 林 久範 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 上高原 弘文 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 串田 直樹 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Toshiya Yuasa 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Hisanori Hayashi 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Co., Ltd. (72) Inventor Hirofumi Uetakahara 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Naoki Kushida 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc.
Claims (1)
化させて情報の記録・再生を行なう情報記録媒体製造用
スタンパーを、記録すべき情報に対応した凹凸パターン
が形成された原盤に電鋳を行なうことによって製造する
方法において、電鋳の開始時から終了時までの任意の時
点で、電鋳液に圧力の変動を与えながら電鋳を行なうこ
とを特徴とする情報記録媒体製造用スタンパーの電鋳方
法。1. A stamper for manufacturing an information recording medium, which records / reproduces information by changing optical characteristics by irradiation of a light beam, is electroformed on a master having a concavo-convex pattern corresponding to information to be recorded. In the method of producing by performing the electroforming, the electroforming of the stamper for producing an information recording medium is characterized in that the electroforming is performed while varying the pressure of the electroforming liquid at any time from the start to the end of electroforming. Casting method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30131291A JPH05114175A (en) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | Method for electrocasting stamper for production of information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30131291A JPH05114175A (en) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | Method for electrocasting stamper for production of information recording medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05114175A true JPH05114175A (en) | 1993-05-07 |
Family
ID=17895338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30131291A Pending JPH05114175A (en) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | Method for electrocasting stamper for production of information recording medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05114175A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001234382A (en) * | 2000-02-16 | 2001-08-31 | Memory Tec Kk | Method and device for electrocasting nickel |
-
1991
- 1991-10-22 JP JP30131291A patent/JPH05114175A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001234382A (en) * | 2000-02-16 | 2001-08-31 | Memory Tec Kk | Method and device for electrocasting nickel |
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