JPH05113422A - シランガス検出素子 - Google Patents
シランガス検出素子Info
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- JPH05113422A JPH05113422A JP31813391A JP31813391A JPH05113422A JP H05113422 A JPH05113422 A JP H05113422A JP 31813391 A JP31813391 A JP 31813391A JP 31813391 A JP31813391 A JP 31813391A JP H05113422 A JPH05113422 A JP H05113422A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 シラン系ガスに対し高い選択性を有し、かつ
経時変化の良好なガス検出素子を提供する。 【構成】 酸化第2スズとオキシ塩化アンチモンと白金
とをSb/Sn=2〜8モル%、Pt/Sn=2〜10モル
%の組成比で混合したものを600〜850℃の空気雰
囲気中またはアンチモン酸化ガス雰囲気中で焼成し、さ
らにシランガス雰囲気中からシラン化合物を分散担持さ
せ、この素子を空気中で200〜400℃に加熱して、
その表面にシリコン酸化物を不連続に担持させる。
経時変化の良好なガス検出素子を提供する。 【構成】 酸化第2スズとオキシ塩化アンチモンと白金
とをSb/Sn=2〜8モル%、Pt/Sn=2〜10モル
%の組成比で混合したものを600〜850℃の空気雰
囲気中またはアンチモン酸化ガス雰囲気中で焼成し、さ
らにシランガス雰囲気中からシラン化合物を分散担持さ
せ、この素子を空気中で200〜400℃に加熱して、
その表面にシリコン酸化物を不連続に担持させる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、空気などの他の気体
と接触混合すると数%の濃度で自然発火する特殊ガスを
選択的に検出するガス検出素子に関するものである。
と接触混合すると数%の濃度で自然発火する特殊ガスを
選択的に検出するガス検出素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術および課題】半導体工場、化学工場や研究
所などで、空気などの他の気体と接触あるいは混合する
と数%の濃度でも自然発火して燃焼する、モノシラン
(SiH4)、ジクロルシラン(SiH2Cl2)、トリクロ
ルシラン(SiHCl3)、ホスフィン(PH3)、ジボラ
ン(B2H6)やアルシン(AsH3)などの特殊ガスが多
量に使用されるようになるにつれて、これら特殊ガスが
空気中に漏洩するなどして自然発火し火災となる事故が
増加している。このため、このような特殊ガスを低濃度
で検出できるガス検出素子が望まれているが、現状では
このようなガス検出素子が見当たらない。
所などで、空気などの他の気体と接触あるいは混合する
と数%の濃度でも自然発火して燃焼する、モノシラン
(SiH4)、ジクロルシラン(SiH2Cl2)、トリクロ
ルシラン(SiHCl3)、ホスフィン(PH3)、ジボラ
ン(B2H6)やアルシン(AsH3)などの特殊ガスが多
量に使用されるようになるにつれて、これら特殊ガスが
空気中に漏洩するなどして自然発火し火災となる事故が
増加している。このため、このような特殊ガスを低濃度
で検出できるガス検出素子が望まれているが、現状では
このようなガス検出素子が見当たらない。
【0003】このような点にかんがみ、本発明者はシラ
ン系ガスなどの特殊ガスを検出できるガス検出素子を得
るべく種々の実験を行った。この実験の結果、先に出願
した特願昭57−226510号の発明に基づくガス検
出素子にヒータなどの加熱手段を設け、この加熱手段で
ガス検出素子を加熱したところ、シラン系ガスに対し高
い選択性を有するガス検出素子が得られることが判明し
た。つまり、酸化第2スズ(SnO2)と塩化白金酸(H
2PtCl6)とオキシ塩化アンチモン(SbOCl)とをP
t/Sn=4モル%、Sb/Sn=6モル%の組成比で混合
したものを、1対の電極が設けられたアルミナ磁器管上
に塗布し、700±5℃にセットされた空気雰囲気なら
びにSbOClを4.0mg焼成して得られたアンチモン酸
化ガス雰囲気の石英管内で15分間焼成して素子を製作
し、この素子のアルミナ磁器管内に加熱手段としてのヒ
ータを挿入した。そしてヒータに通電してガス検出素子
を260℃に加熱し、25℃の清浄空気中ならびにそれ
ぞれ濃度が100ppmの一酸化炭素(CO)、メタン
(CH4)、エチレン(C2H4)、エタン(C2H6)、
水素(H2)、アンモニア(NH3)、エチルアルコール
(EtOH)ならびにモノシラン(SiH4)の各ガス中
にさらして空気中の抵抗値(Ro)ならびに各ガス中の
抵抗値(Rg)を測定し、Ro/RgつまりSN比を求め
た。この結果の1例を、空気雰囲気中で焼成し初期抵抗
値Roが135KΩのガス検出素子(素子A)、ならび
にアンチモン酸化ガス雰囲気中で焼成し初期抵抗値Ro
が74KΩのガス検出素子(素子B)について表1に示
す。
ン系ガスなどの特殊ガスを検出できるガス検出素子を得
るべく種々の実験を行った。この実験の結果、先に出願
した特願昭57−226510号の発明に基づくガス検
出素子にヒータなどの加熱手段を設け、この加熱手段で
ガス検出素子を加熱したところ、シラン系ガスに対し高
い選択性を有するガス検出素子が得られることが判明し
た。つまり、酸化第2スズ(SnO2)と塩化白金酸(H
2PtCl6)とオキシ塩化アンチモン(SbOCl)とをP
t/Sn=4モル%、Sb/Sn=6モル%の組成比で混合
したものを、1対の電極が設けられたアルミナ磁器管上
に塗布し、700±5℃にセットされた空気雰囲気なら
びにSbOClを4.0mg焼成して得られたアンチモン酸
化ガス雰囲気の石英管内で15分間焼成して素子を製作
し、この素子のアルミナ磁器管内に加熱手段としてのヒ
ータを挿入した。そしてヒータに通電してガス検出素子
を260℃に加熱し、25℃の清浄空気中ならびにそれ
ぞれ濃度が100ppmの一酸化炭素(CO)、メタン
(CH4)、エチレン(C2H4)、エタン(C2H6)、
水素(H2)、アンモニア(NH3)、エチルアルコール
(EtOH)ならびにモノシラン(SiH4)の各ガス中
にさらして空気中の抵抗値(Ro)ならびに各ガス中の
抵抗値(Rg)を測定し、Ro/RgつまりSN比を求め
た。この結果の1例を、空気雰囲気中で焼成し初期抵抗
値Roが135KΩのガス検出素子(素子A)、ならび
にアンチモン酸化ガス雰囲気中で焼成し初期抵抗値Ro
が74KΩのガス検出素子(素子B)について表1に示
す。
【0004】
【表1】
【0005】なお、SiH4ガスにさらした後のこれらの
ガス検出素子の清浄空気中での抵抗値は素子Aは28K
Ωまた素子Bは16.5KΩに低下した。さらにこれら
のガス検出素子を上記各ガス中にさらしてRo/Rgの特
性を調べたところ、2回目のRo/Rgは、素子AではS
iH4ガスに対し36を、EtOHガスに対し5.8を、そ
の他のガスに対し1.1〜3.6をそれぞれ示し、素子B
ではSiH4ガスに対し33を、EtOHガスに対し6.3
を、その他のガスに対し1.1〜3.8をそれぞれ示し
た。また3回目以降では素子Aならびに素子Bとも、清
浄空気中での抵抗値は多少の増減がみられるだけでほと
んど変化せず、SiH4ガスに対するRo/Rgは27〜1
8を示し、これ以外のガスに対するRo/Rgは上記とほ
ぼ同様な、あるいは上記より低下する傾向を示した。ま
た素子の組成比と焼成温度を変えて素子を製作し、素子
温度を変えて実験を行ったところ、SiH4ガスに対する
Ro/Rgは1回目は110〜300、2回目は30〜5
0、3回目以降は16〜35を示し、他のガスに対する
Ro/RgはSiH4ガスの1/4〜1/6以下を示した。
ガス検出素子の清浄空気中での抵抗値は素子Aは28K
Ωまた素子Bは16.5KΩに低下した。さらにこれら
のガス検出素子を上記各ガス中にさらしてRo/Rgの特
性を調べたところ、2回目のRo/Rgは、素子AではS
iH4ガスに対し36を、EtOHガスに対し5.8を、そ
の他のガスに対し1.1〜3.6をそれぞれ示し、素子B
ではSiH4ガスに対し33を、EtOHガスに対し6.3
を、その他のガスに対し1.1〜3.8をそれぞれ示し
た。また3回目以降では素子Aならびに素子Bとも、清
浄空気中での抵抗値は多少の増減がみられるだけでほと
んど変化せず、SiH4ガスに対するRo/Rgは27〜1
8を示し、これ以外のガスに対するRo/Rgは上記とほ
ぼ同様な、あるいは上記より低下する傾向を示した。ま
た素子の組成比と焼成温度を変えて素子を製作し、素子
温度を変えて実験を行ったところ、SiH4ガスに対する
Ro/Rgは1回目は110〜300、2回目は30〜5
0、3回目以降は16〜35を示し、他のガスに対する
Ro/RgはSiH4ガスの1/4〜1/6以下を示した。
【0006】以上の実験から、酸化第2スズとオキシ塩
化アンチモンと白金とをSb/Sn=2〜8モル%、Pt
/Sn=2〜10モル%の組成比で混合し600〜85
0℃の空気雰囲気中またはアンチモン酸化ガス雰囲気中
で焼成した素子に加熱手段を設け、加熱手段により素子
を200〜400℃に加熱して用いれば、シラン系ガス
を高い選択性で検出できる性質を基本的に有するガス検
出素子が得られることが判明した。また、このガス検出
素子は、シラン系ガスに対するRo/RgつまりSN比の
経時変化が大きいことが判明したが、その一方で、シラ
ン系ガスに1度さらした後のガス検出素子は、その素子
の抵抗値自体は低下するが、SN比の経時変化が少なく
なり、安定する傾向があることが判明した。本発明者
は、以上の実験結果から判明した点をふまえ、経時変化
の少ないガス検出素子を得るべくさらに実験を行ったと
ころ、酸化第2スズとオキシ塩化アンチモンと白金とを
Sb/Sn=2〜8モル%、Pt/Sn=2〜10モル%の
組成比で混合し、600〜850℃の空気雰囲気中また
はアンチモン酸化ガス雰囲気中で焼成してなる素子を、
さらにシラン系ガス雰囲気中にさらし、シラン化合物か
らのシランを素子表面に分散担持させ、次いで空気中で
200〜400℃に加熱エージングを行うことにより、
素子表面にケイ素酸化物を不連続に担持させ、シラン系
ガスに対し高い選択性を有し、かつSN比の経時変化の
良好なガス検出素子が得られた。
化アンチモンと白金とをSb/Sn=2〜8モル%、Pt
/Sn=2〜10モル%の組成比で混合し600〜85
0℃の空気雰囲気中またはアンチモン酸化ガス雰囲気中
で焼成した素子に加熱手段を設け、加熱手段により素子
を200〜400℃に加熱して用いれば、シラン系ガス
を高い選択性で検出できる性質を基本的に有するガス検
出素子が得られることが判明した。また、このガス検出
素子は、シラン系ガスに対するRo/RgつまりSN比の
経時変化が大きいことが判明したが、その一方で、シラ
ン系ガスに1度さらした後のガス検出素子は、その素子
の抵抗値自体は低下するが、SN比の経時変化が少なく
なり、安定する傾向があることが判明した。本発明者
は、以上の実験結果から判明した点をふまえ、経時変化
の少ないガス検出素子を得るべくさらに実験を行ったと
ころ、酸化第2スズとオキシ塩化アンチモンと白金とを
Sb/Sn=2〜8モル%、Pt/Sn=2〜10モル%の
組成比で混合し、600〜850℃の空気雰囲気中また
はアンチモン酸化ガス雰囲気中で焼成してなる素子を、
さらにシラン系ガス雰囲気中にさらし、シラン化合物か
らのシランを素子表面に分散担持させ、次いで空気中で
200〜400℃に加熱エージングを行うことにより、
素子表面にケイ素酸化物を不連続に担持させ、シラン系
ガスに対し高い選択性を有し、かつSN比の経時変化の
良好なガス検出素子が得られた。
【0007】以下、本発明を実施例によりさらに説明す
る。
る。
【実施例】実施例 1 SnO2に塩化白金酸(H2PtCl6)水溶液をPt/Sn=
4モル%となるように加えて超音波により良く分散させ
る。この分散水溶液を−40℃で急速凍結させた後、真
空凍結乾燥器にセットして乾燥させる。次にこの乾燥さ
れた試料にSbOClをSb/Sn=4モル%となるように
加えて乳鉢で30分間混合する。この混合した試料にイ
ソプロピルアルコールを加えてペースト状にしたものを
電極が取り付けられたアルミナ磁器管に塗布して自然乾
燥させる。この乾燥させた素子を700℃±5℃にセッ
トされた空気雰囲気の石英管内に入れて30分間焼成す
る。次にこの焼成した素子のアルミナ磁器管内にヒータ
を挿入して取り付け、このヒータに通電して素子を30
0℃±50℃に加熱し、この加熱状態のまま空気中で1
2時間エージングする。次にエージングの終了した素子
をヒータにより325℃±5℃に加熱し、モノシラン
(SiH4)ガス濃度が100ppmのシランガスを表面に
吸着させて分散的に担持させることにより、素子の安定
化をはかる。その後、ヒータで素子を300℃±50℃
に加熱し空気中で12時間エージングを行う。得られた
素子の表面には、ケイ素酸化物が不連続に担持されてい
る。このようにして製作されたガス検出素子を、その素
子温度が325℃となるようにヒータに通電して加熱
し、25℃の清浄空気中ならびにそれぞれ濃度が100
ppmのモノシラン(SiH4)、エチルアルコール(EtO
H)、一酸化炭素(CO)、ならびに1000ppmの水
素(H2)、メタン(CH4)、エチレン(C2H4)、エ
タン(C2H6)、アンモニア(NH3)の各ガス中にさ
らして抵抗値を測定し、空気中の抵抗値(Ro)と各ガ
ス中の抵抗値(Rg)との比Ro/RgつまりSN比を求
めたところ表2に示す結果となった。
4モル%となるように加えて超音波により良く分散させ
る。この分散水溶液を−40℃で急速凍結させた後、真
空凍結乾燥器にセットして乾燥させる。次にこの乾燥さ
れた試料にSbOClをSb/Sn=4モル%となるように
加えて乳鉢で30分間混合する。この混合した試料にイ
ソプロピルアルコールを加えてペースト状にしたものを
電極が取り付けられたアルミナ磁器管に塗布して自然乾
燥させる。この乾燥させた素子を700℃±5℃にセッ
トされた空気雰囲気の石英管内に入れて30分間焼成す
る。次にこの焼成した素子のアルミナ磁器管内にヒータ
を挿入して取り付け、このヒータに通電して素子を30
0℃±50℃に加熱し、この加熱状態のまま空気中で1
2時間エージングする。次にエージングの終了した素子
をヒータにより325℃±5℃に加熱し、モノシラン
(SiH4)ガス濃度が100ppmのシランガスを表面に
吸着させて分散的に担持させることにより、素子の安定
化をはかる。その後、ヒータで素子を300℃±50℃
に加熱し空気中で12時間エージングを行う。得られた
素子の表面には、ケイ素酸化物が不連続に担持されてい
る。このようにして製作されたガス検出素子を、その素
子温度が325℃となるようにヒータに通電して加熱
し、25℃の清浄空気中ならびにそれぞれ濃度が100
ppmのモノシラン(SiH4)、エチルアルコール(EtO
H)、一酸化炭素(CO)、ならびに1000ppmの水
素(H2)、メタン(CH4)、エチレン(C2H4)、エ
タン(C2H6)、アンモニア(NH3)の各ガス中にさ
らして抵抗値を測定し、空気中の抵抗値(Ro)と各ガ
ス中の抵抗値(Rg)との比Ro/RgつまりSN比を求
めたところ表2に示す結果となった。
【0008】
【表2】
【0009】またこのガス検出素子のSiH4ガス濃度に
対する抵抗変化特性を測定したところ、図1に(A)で示
す特性となった。次にこのガス検出素子の有効な成分比
ならびに焼成温度の範囲を得るために、上記製造方法に
より成分比をPt/Sn=1,2,4,8,10,12モ
ル%、Sb/Sn=1,2,4,6,8,10モル%、空
気雰囲気中での焼成温度を550,600,700,8
50,900℃、シランガス雰囲気にさらす際の素子温
度を150,200,325,500,850℃、また
シランガス濃度を10,25,100,500,100
0,1500ppmにそれぞれ変化させてガス検出素子を
製作した。そしてこれらのガス検出素子について、ヒー
タで素子温度が325℃となるように加熱した状態で、
25℃の空気中での抵抗値(Ro)とSiH4ガス中での
抵抗値(Rg)をそれぞれ測定し、測定結果よりRo/R
gつまりSN比を求めた。また各ガス検出素子を25℃
の空気中から100ppmのSiH4ガス中に繰り返してさ
らし、SiH4ガスに1回目にさらした時の抵抗値Rgと
10回目にさらした時の抵抗値R10とから経時変化比R
10/Rgを求めた。この成分比と焼成温度ならびに測定
結果を表3に示す。
対する抵抗変化特性を測定したところ、図1に(A)で示
す特性となった。次にこのガス検出素子の有効な成分比
ならびに焼成温度の範囲を得るために、上記製造方法に
より成分比をPt/Sn=1,2,4,8,10,12モ
ル%、Sb/Sn=1,2,4,6,8,10モル%、空
気雰囲気中での焼成温度を550,600,700,8
50,900℃、シランガス雰囲気にさらす際の素子温
度を150,200,325,500,850℃、また
シランガス濃度を10,25,100,500,100
0,1500ppmにそれぞれ変化させてガス検出素子を
製作した。そしてこれらのガス検出素子について、ヒー
タで素子温度が325℃となるように加熱した状態で、
25℃の空気中での抵抗値(Ro)とSiH4ガス中での
抵抗値(Rg)をそれぞれ測定し、測定結果よりRo/R
gつまりSN比を求めた。また各ガス検出素子を25℃
の空気中から100ppmのSiH4ガス中に繰り返してさ
らし、SiH4ガスに1回目にさらした時の抵抗値Rgと
10回目にさらした時の抵抗値R10とから経時変化比R
10/Rgを求めた。この成分比と焼成温度ならびに測定
結果を表3に示す。
【0010】
【表3】
【0011】またこれらのガス検出素子のうち、Pt/
Sn=4モル%、Sb/Sn=6モル%、空気雰囲気焼成
温度700℃30分間、シランガス雰囲気素子温度32
5℃10分間、シランガス濃度100ppmで製作したガ
ス検出素子を、100ppmのSiH4に繰り返しさらした
時の経時変化を図2に示す。なお、図2において(a)は
25℃の清浄空気中における抵抗値、(b)は25℃の1
00ppmのSiH4ガス中における抵抗値である。
Sn=4モル%、Sb/Sn=6モル%、空気雰囲気焼成
温度700℃30分間、シランガス雰囲気素子温度32
5℃10分間、シランガス濃度100ppmで製作したガ
ス検出素子を、100ppmのSiH4に繰り返しさらした
時の経時変化を図2に示す。なお、図2において(a)は
25℃の清浄空気中における抵抗値、(b)は25℃の1
00ppmのSiH4ガス中における抵抗値である。
【0012】実施例 2 SnO2にH2PtCl6水溶液をPt/Sn=4モル%となる
ように加えて超音波により良く分散させる。この分散水
溶液を−40℃で急速凍結させた後、真空凍結乾燥器に
セットして乾燥させる。次にこの乾燥された試料にSb
OClをSb/Sn=4モル%となるように加えて乳鉢で
30分間混合する。この混合した試料にイソプロピルア
ルコールを加えてペースト状にしたものを電極が取り付
けられたアルミナ磁器管に塗布して自然乾燥させる。一
方、700℃±5℃にセットされた内径40mm、電気炉
挿入部分50cmの石英管内にSbOClを2.5mg載置し
たアルミナボートを30分間封入して石英管内をアンチ
モン酸化ガス雰囲気にする。次にこの700±5℃にセ
ットされたアンチモン酸化ガス雰囲気の石英管内に上記
の自然乾燥させた素子を封入して30分間焼成する。次
に焼成した素子のアルミナ磁器管内にヒータを挿入して
取り付け、このヒータに通電して素子を300℃±50
℃に加熱し、加熱状態のまま空気中で12時間エージン
グする。次にエージングの終了した素子をヒータで32
5℃±5℃に加熱し、モノシラン(SiH4)ガス濃度が
100ppm のシランガスを表面に吸着させて分散的に担
持させることにより、素子の安定化をはかる。その後、
素子をヒータで300℃±50℃に加熱し空気中で12
時間エージングを行う。得られた素子の表面には、ケイ
素酸化物が不連続に担持されている。このようにして製
作されたガス検出素子を、その素子温度が325℃とな
るようにヒータで加熱し、25℃の雰囲気で空気中なら
びにそれぞれ濃度が100ppmのSiH4,EtOH,C
O,H2,CH4,C2H4,C2H6,NH3の各ガス中に
さらして抵抗値を測定し、Ro/Rgを求めたところ表4
に示す結果となった。
ように加えて超音波により良く分散させる。この分散水
溶液を−40℃で急速凍結させた後、真空凍結乾燥器に
セットして乾燥させる。次にこの乾燥された試料にSb
OClをSb/Sn=4モル%となるように加えて乳鉢で
30分間混合する。この混合した試料にイソプロピルア
ルコールを加えてペースト状にしたものを電極が取り付
けられたアルミナ磁器管に塗布して自然乾燥させる。一
方、700℃±5℃にセットされた内径40mm、電気炉
挿入部分50cmの石英管内にSbOClを2.5mg載置し
たアルミナボートを30分間封入して石英管内をアンチ
モン酸化ガス雰囲気にする。次にこの700±5℃にセ
ットされたアンチモン酸化ガス雰囲気の石英管内に上記
の自然乾燥させた素子を封入して30分間焼成する。次
に焼成した素子のアルミナ磁器管内にヒータを挿入して
取り付け、このヒータに通電して素子を300℃±50
℃に加熱し、加熱状態のまま空気中で12時間エージン
グする。次にエージングの終了した素子をヒータで32
5℃±5℃に加熱し、モノシラン(SiH4)ガス濃度が
100ppm のシランガスを表面に吸着させて分散的に担
持させることにより、素子の安定化をはかる。その後、
素子をヒータで300℃±50℃に加熱し空気中で12
時間エージングを行う。得られた素子の表面には、ケイ
素酸化物が不連続に担持されている。このようにして製
作されたガス検出素子を、その素子温度が325℃とな
るようにヒータで加熱し、25℃の雰囲気で空気中なら
びにそれぞれ濃度が100ppmのSiH4,EtOH,C
O,H2,CH4,C2H4,C2H6,NH3の各ガス中に
さらして抵抗値を測定し、Ro/Rgを求めたところ表4
に示す結果となった。
【0013】
【表4】
【0014】またこのガス検出素子のSiH4ガス濃度に
対する抵抗特性を測定したところ、図1に(B)で示す特
性となった。次に石英管内をアンチモン酸化ガス雰囲気
とするのに上記製造方法においてSbOClの量を0.2
5,0.5,1.0,2.5,5.0,7.5mgに変化させ
てガス検出素子を製作し、このガス検出素子の25℃雰
囲気における清浄空気中での抵抗値(Ro)と100ppm
のSiH4ガス中での抵抗値(Rg)を測定し、Ro/Rg
を求めた。その結果を表5に示す。
対する抵抗特性を測定したところ、図1に(B)で示す特
性となった。次に石英管内をアンチモン酸化ガス雰囲気
とするのに上記製造方法においてSbOClの量を0.2
5,0.5,1.0,2.5,5.0,7.5mgに変化させ
てガス検出素子を製作し、このガス検出素子の25℃雰
囲気における清浄空気中での抵抗値(Ro)と100ppm
のSiH4ガス中での抵抗値(Rg)を測定し、Ro/Rg
を求めた。その結果を表5に示す。
【0015】
【表5】
【0016】また石英管内をアンチモン酸化ガス雰囲気
とするのにSbOClの代わりに三二酸化アンチモン(S
b2O3)を用い、Sb2O3の分量を0.25,0.5,1.
0,2.5,5.0,7.5mgに変化させて上記と同様の
製造方法でガス検出素子を製作し、これらのガス検出素
子を上記と同様の方法でRo,Rgを測定し、Ro/Rgを
求めた。この結果を表6に示す。
とするのにSbOClの代わりに三二酸化アンチモン(S
b2O3)を用い、Sb2O3の分量を0.25,0.5,1.
0,2.5,5.0,7.5mgに変化させて上記と同様の
製造方法でガス検出素子を製作し、これらのガス検出素
子を上記と同様の方法でRo,Rgを測定し、Ro/Rgを
求めた。この結果を表6に示す。
【0017】
【表6】
【0018】さらに上記製造方法において成分比をPt
/Sn=1,2,4,8,10モル%、Sb/Sn=1,
2,4,6,8,10モル%、アンチモン酸化ガス雰囲
気中での焼成温度を550,600,700,850,
900℃、シランガス雰囲気中での素子温度を150,
200,325,500,850℃、またシランガス濃
度を10,25,100,500,1000,1500
ppmにそれぞれ変化させてガス検出素子を製作した。な
お石英管内にアンチモン酸化ガス雰囲気を作成するのに
SbOClの分量は、2.5mgとし、各焼成温度と同じ温
度で作成した。そしてこれらのガス検出素子について、
素子温度が325℃となるようにヒータで加熱した状態
で、25℃の清浄空気中での抵抗値Roと100ppmのS
iH4ガス中での抵抗値Rgをそれぞれ測定し、測定結果
よりRo/Rg(SN比)を求めた。また各ガス検出素子
を25℃の清浄空気中から100ppmのSiH4ガス中に
繰り返してさらし、SiH4ガスに1回目にさらした時の
上記抵抗値Rgと10回目の時の抵抗値R10とから経時
変化比R10/Rgを求めた。この測定結果を表7に示
す。
/Sn=1,2,4,8,10モル%、Sb/Sn=1,
2,4,6,8,10モル%、アンチモン酸化ガス雰囲
気中での焼成温度を550,600,700,850,
900℃、シランガス雰囲気中での素子温度を150,
200,325,500,850℃、またシランガス濃
度を10,25,100,500,1000,1500
ppmにそれぞれ変化させてガス検出素子を製作した。な
お石英管内にアンチモン酸化ガス雰囲気を作成するのに
SbOClの分量は、2.5mgとし、各焼成温度と同じ温
度で作成した。そしてこれらのガス検出素子について、
素子温度が325℃となるようにヒータで加熱した状態
で、25℃の清浄空気中での抵抗値Roと100ppmのS
iH4ガス中での抵抗値Rgをそれぞれ測定し、測定結果
よりRo/Rg(SN比)を求めた。また各ガス検出素子
を25℃の清浄空気中から100ppmのSiH4ガス中に
繰り返してさらし、SiH4ガスに1回目にさらした時の
上記抵抗値Rgと10回目の時の抵抗値R10とから経時
変化比R10/Rgを求めた。この測定結果を表7に示
す。
【0019】
【表7】
【0020】またこれらのガス検出素子のうち、Pt/
Sn=4モル%、Sb/Sn=6モル%、SbOCl2.5mg
を700℃で30分間焼成して作成したアンチモン酸化
ガス雰囲気中で700℃で30分間焼成、さらに325
℃の素子温度でシランガス濃度100ppmの雰囲気中に
10分間さらしてで製作したガス検出素子を、100pp
mのSiH4に繰り返しさらした時の経時変化を図3に示
す。なお、図3において(a)は25℃の清浄空気中にお
ける抵抗値、(b)は25℃の100ppmのSiH4ガス中に
おける抵抗値である。なお上記実施例では素子表面にシ
ラン化合物を分散担持させるため、焼成後の素子をシラ
ンガス雰囲気にさらすのに素子をヒーターで加熱して行
ったが、素子をヒータで加熱する代わりにシランガス雰
囲気を150〜850℃の温度にして加熱していない素
子をさらすようにしても、上記各実験例と同様の特性の
ガス検出素子が得られた。また、素子を空気雰囲気中ま
たはアンチモン酸化ガス中で焼成する時間は5〜60分
間ならびに焼成後の素子をシランガス雰囲気中にさらす
時間は2〜60分間の範囲でそれぞれ行えばよく、素子
の乾燥は恒温槽などで行ってもよく、素子のエージング
もヒータで加熱する代わりに恒温槽で行うようにしても
よい。さらに、混合した試料をペースト状にするための
溶剤としてはイソプロピルアルコールのほかβ−ターピ
ネオール25wt%、ブチルカルビトールアセテート72
wt%、エチルセルロース3%などの有機溶剤を用いれば
よく、ペースト状の試料を塗布するベースとしては磁器
管のほか焼成に耐えうる管状や板状などの絶縁体を用い
ればよく、加熱手段としては赤外線電球などを用いても
よい。またアンチモン酸化ガス雰囲気は三塩化アンチモ
ン(SbCl3)の固体またはガスやアンチモン化水素
(SbH3)ガスなどを用いて作成してもよく、シランガ
ス雰囲気はジクロルシラン(SiH2Cl2)、エトキシシ
ラン((C2H5O)4Si)、四塩化ケイ素(SiC
l4)、クロルメチルシラン((CH3)2SiCl2)など
を用いて作成してもよい。
Sn=4モル%、Sb/Sn=6モル%、SbOCl2.5mg
を700℃で30分間焼成して作成したアンチモン酸化
ガス雰囲気中で700℃で30分間焼成、さらに325
℃の素子温度でシランガス濃度100ppmの雰囲気中に
10分間さらしてで製作したガス検出素子を、100pp
mのSiH4に繰り返しさらした時の経時変化を図3に示
す。なお、図3において(a)は25℃の清浄空気中にお
ける抵抗値、(b)は25℃の100ppmのSiH4ガス中に
おける抵抗値である。なお上記実施例では素子表面にシ
ラン化合物を分散担持させるため、焼成後の素子をシラ
ンガス雰囲気にさらすのに素子をヒーターで加熱して行
ったが、素子をヒータで加熱する代わりにシランガス雰
囲気を150〜850℃の温度にして加熱していない素
子をさらすようにしても、上記各実験例と同様の特性の
ガス検出素子が得られた。また、素子を空気雰囲気中ま
たはアンチモン酸化ガス中で焼成する時間は5〜60分
間ならびに焼成後の素子をシランガス雰囲気中にさらす
時間は2〜60分間の範囲でそれぞれ行えばよく、素子
の乾燥は恒温槽などで行ってもよく、素子のエージング
もヒータで加熱する代わりに恒温槽で行うようにしても
よい。さらに、混合した試料をペースト状にするための
溶剤としてはイソプロピルアルコールのほかβ−ターピ
ネオール25wt%、ブチルカルビトールアセテート72
wt%、エチルセルロース3%などの有機溶剤を用いれば
よく、ペースト状の試料を塗布するベースとしては磁器
管のほか焼成に耐えうる管状や板状などの絶縁体を用い
ればよく、加熱手段としては赤外線電球などを用いても
よい。またアンチモン酸化ガス雰囲気は三塩化アンチモ
ン(SbCl3)の固体またはガスやアンチモン化水素
(SbH3)ガスなどを用いて作成してもよく、シランガ
ス雰囲気はジクロルシラン(SiH2Cl2)、エトキシシ
ラン((C2H5O)4Si)、四塩化ケイ素(SiC
l4)、クロルメチルシラン((CH3)2SiCl2)など
を用いて作成してもよい。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、酸化第2スズとオキシ塩化アンチモンと白金とをS
b/Sn=2〜8モル%、Pt/Sn=2〜10モル%の組
成比で混合したものを600〜850℃の空気雰囲気中
またはアンチモン酸化ガス雰囲気中で焼成し、さらにシ
ランガス雰囲気中からシラン化合物を分散担持させ、こ
の素子を空気中で200〜400℃に加熱して、その表
面にシリコン酸化物を不連続に担持させたので、シラン
系ガスに対し高い選択性を有し、かつ経時変化の良好な
ガス検出素子を提供することができる。
ば、酸化第2スズとオキシ塩化アンチモンと白金とをS
b/Sn=2〜8モル%、Pt/Sn=2〜10モル%の組
成比で混合したものを600〜850℃の空気雰囲気中
またはアンチモン酸化ガス雰囲気中で焼成し、さらにシ
ランガス雰囲気中からシラン化合物を分散担持させ、こ
の素子を空気中で200〜400℃に加熱して、その表
面にシリコン酸化物を不連続に担持させたので、シラン
系ガスに対し高い選択性を有し、かつ経時変化の良好な
ガス検出素子を提供することができる。
【図1】本発明の実施例によるシランガス検出素子のS
iH4ガス濃度対抵抗変化特性を示すグラフである。
iH4ガス濃度対抵抗変化特性を示すグラフである。
【図2】本発明の実施例1によるシランガス検出素子の
経時変化特性を示すグラフである。
経時変化特性を示すグラフである。
【図3】本発明の実施例2によるシランガス検出素子の
経時変化特性を示すグラフである。
経時変化特性を示すグラフである。
A:実施例1により製造した素子。 B:実施例2により製造した素子。 a:25℃の清浄空気中における抵抗値。 b:25℃の100ppmSiH4ガス中における抵抗値。
Claims (1)
- 【請求項1】酸化第2スズとオキシ塩化アンチモンと白
金との組成比がSb/Sn=2〜8モル%、Pt/Sn=2
〜10モル%であり、600〜800℃の温度で焼成し
た素子に、シラン系ガスからのシラン化合物を素子表面
に分散担持させ、この素子を空気中で200〜400℃
に加熱して、シリコン酸化物を不連続に担持したことを
特徴とするシランガス検出素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31813391A JPH061251B2 (ja) | 1983-08-31 | 1991-12-02 | シランガス検出素子 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58157931A JPS6050446A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | ガス検出素子とその製造方法 |
JP31813391A JPH061251B2 (ja) | 1983-08-31 | 1991-12-02 | シランガス検出素子 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58157931A Division JPS6050446A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | ガス検出素子とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05113422A true JPH05113422A (ja) | 1993-05-07 |
JPH061251B2 JPH061251B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=26485208
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31813391A Expired - Lifetime JPH061251B2 (ja) | 1983-08-31 | 1991-12-02 | シランガス検出素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH061251B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014202478A (ja) * | 2013-04-01 | 2014-10-27 | 理研計器株式会社 | ホスフィン検出用半導体ガスセンサ |
-
1991
- 1991-12-02 JP JP31813391A patent/JPH061251B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014202478A (ja) * | 2013-04-01 | 2014-10-27 | 理研計器株式会社 | ホスフィン検出用半導体ガスセンサ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH061251B2 (ja) | 1994-01-05 |
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