JPH05112837A - 溶融金属脱ガス炉の気泡分散装置 - Google Patents
溶融金属脱ガス炉の気泡分散装置Info
- Publication number
- JPH05112837A JPH05112837A JP29793691A JP29793691A JPH05112837A JP H05112837 A JPH05112837 A JP H05112837A JP 29793691 A JP29793691 A JP 29793691A JP 29793691 A JP29793691 A JP 29793691A JP H05112837 A JPH05112837 A JP H05112837A
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- Japan
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- molten metal
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来の溶融金属脱ガス炉は、波立ちが多くて
給湯自動化は困難であったところ、波立ちを少なくして
給湯自動化を可能ならしめる。 【構成】 軸心に不活性ガスの通路１８を形成した内軸
１４と該内軸１４の外周に設けた外軸１５よりなる内外
２重軸１３とし、前記内軸１４の下端は前記外軸１５の
下端より下方に長く突出させ、前記外軸１５の下端には
上側インペラ２０を前記内軸１４の下端には前記上側イ
ンペラ２０と同径か若しくは前記上側インペラ２０より
小径である下側インペラ２１を取付け、前記上側インペ
ラ２０には羽根２２を前記下側インペラ２１には羽根２
３をそれぞれ設け、前記上側インペラ２０は前記下側イ
ンペラ２１よりも遅い同方向若しくは異方向回転として
湯面の波立ち押さえるようにする。
給湯自動化は困難であったところ、波立ちを少なくして
給湯自動化を可能ならしめる。 【構成】 軸心に不活性ガスの通路１８を形成した内軸
１４と該内軸１４の外周に設けた外軸１５よりなる内外
２重軸１３とし、前記内軸１４の下端は前記外軸１５の
下端より下方に長く突出させ、前記外軸１５の下端には
上側インペラ２０を前記内軸１４の下端には前記上側イ
ンペラ２０と同径か若しくは前記上側インペラ２０より
小径である下側インペラ２１を取付け、前記上側インペ
ラ２０には羽根２２を前記下側インペラ２１には羽根２
３をそれぞれ設け、前記上側インペラ２０は前記下側イ
ンペラ２１よりも遅い同方向若しくは異方向回転として
湯面の波立ち押さえるようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、溶融金属脱ガス炉の気
泡分散装置に関するものである。
泡分散装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術】従来公知の、特開昭６３−３０３０１４号
公報、特開平２−１１５３２３号公報、特開平２−１１
５３２４号公報等には、金属溶湯を入湯口より脱ガス室
内に入湯させ、ヒータにより溶湯を加熱しつつ不活性ガ
ス発生機より不活性ガスを供給し、気泡分散装置で撹拌
して溶湯中の浮遊ガスや非金属介在物粒子と不活性ガス
とを結合させて上昇除去し、精製された溶湯を取出すよ
うにした溶融金属脱ガス炉の気泡分散装置が記載されて
いる。
公報、特開平２−１１５３２３号公報、特開平２−１１
５３２４号公報等には、金属溶湯を入湯口より脱ガス室
内に入湯させ、ヒータにより溶湯を加熱しつつ不活性ガ
ス発生機より不活性ガスを供給し、気泡分散装置で撹拌
して溶湯中の浮遊ガスや非金属介在物粒子と不活性ガス
とを結合させて上昇除去し、精製された溶湯を取出すよ
うにした溶融金属脱ガス炉の気泡分散装置が記載されて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記公知のものは、気
泡分散装置により撹拌することにより不活性ガスを分散
させているが、分散効果を充分にするため激しく撹拌す
るから湯面の波立ちも激しく、湯面位置を正確に測定で
きないので、溶湯の自動供給等の機械化に支障を来たし
ていた。湯面が波立つほど激しく撹拌しないと、不活性
ガスによる溶湯中の浮遊ガスや非金属介在物粒子の除去
が充分にできないので、インペラを毎分８００回も回転
させるから、激しく波立ちするのであるが、そこに課題
があった。
泡分散装置により撹拌することにより不活性ガスを分散
させているが、分散効果を充分にするため激しく撹拌す
るから湯面の波立ちも激しく、湯面位置を正確に測定で
きないので、溶湯の自動供給等の機械化に支障を来たし
ていた。湯面が波立つほど激しく撹拌しないと、不活性
ガスによる溶湯中の浮遊ガスや非金属介在物粒子の除去
が充分にできないので、インペラを毎分８００回も回転
させるから、激しく波立ちするのであるが、そこに課題
があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】よって、本発明は、軸心
に不活性ガスの通路１８を形成した内軸１４と該内軸１
４の外周に設けた外軸１５よりなる内外２重軸１３と
し、前記内軸１４の下端は前記外軸１５の下端より下方
に長く突出させ、前記外軸１５の下端には上側インペラ
２０を前記内軸１４の下端には前記上側インペラ２０と
同径か若しくは前記上側インペラ２０より小径である下
側インペラ２１を取付け、前記上側インペラ２０には羽
根２２を前記下側インペラ２１には羽根２３をそれぞれ
設け、前記上側インペラ２０は前記下側インペラ２１よ
りも遅い同方向若しくは異方向回転とした、上側インペ
ラ２０で湯面の波立ち押さえる溶融金属脱ガス炉の気泡
分散装置としたものである。
に不活性ガスの通路１８を形成した内軸１４と該内軸１
４の外周に設けた外軸１５よりなる内外２重軸１３と
し、前記内軸１４の下端は前記外軸１５の下端より下方
に長く突出させ、前記外軸１５の下端には上側インペラ
２０を前記内軸１４の下端には前記上側インペラ２０と
同径か若しくは前記上側インペラ２０より小径である下
側インペラ２１を取付け、前記上側インペラ２０には羽
根２２を前記下側インペラ２１には羽根２３をそれぞれ
設け、前記上側インペラ２０は前記下側インペラ２１よ
りも遅い同方向若しくは異方向回転とした、上側インペ
ラ２０で湯面の波立ち押さえる溶融金属脱ガス炉の気泡
分散装置としたものである。
【０００５】
【実施例】本発明の具体的構造の一実施例を図面により
説明すると、通常は脱ガス室のみに使用するのが多いの
であるが、脱ガス室と濾過室を並設したものにでも使用
可能であるから、図１には、脱ガス室と濾過室とを並設
した例を図示した。図１において、１は脱ガス室、２は
濾過室、３は前記脱ガス室１の入湯口、４は前記脱ガス
室１から前記濾過室２に至る連通孔、５は前記脱ガス室
１内に垂設した数本のヒータ、６は前記濾過室２内に設
けた濾過ユニット、７は出湯口である。前記濾過ユニッ
ト６は、入湯側鏡板８と出湯側鏡板９との間に数本の濾
過チューブ１０を横設した構造であり、該濾過チューブ
１０により濾過した精製湯は最高級品として出湯口７よ
り取出される。
説明すると、通常は脱ガス室のみに使用するのが多いの
であるが、脱ガス室と濾過室を並設したものにでも使用
可能であるから、図１には、脱ガス室と濾過室とを並設
した例を図示した。図１において、１は脱ガス室、２は
濾過室、３は前記脱ガス室１の入湯口、４は前記脱ガス
室１から前記濾過室２に至る連通孔、５は前記脱ガス室
１内に垂設した数本のヒータ、６は前記濾過室２内に設
けた濾過ユニット、７は出湯口である。前記濾過ユニッ
ト６は、入湯側鏡板８と出湯側鏡板９との間に数本の濾
過チューブ１０を横設した構造であり、該濾過チューブ
１０により濾過した精製湯は最高級品として出湯口７よ
り取出される。
【０００６】しかして、前記脱ガス室１内には１〜複数
の気泡分散装置１１（図では２個）を設ける。気泡分散
装置１１は、脱ガス室１の蓋体１２より脱ガス室１内に
垂設され、内外２重軸１３であって、１４は内軸、１５
は外軸である。内軸１４、外軸１５とも蓋体１２より上
方に突き出しており、上方突出部分にプーリ１６、プー
リ１７をそれぞれ固定する。内軸１４は中空軸であり、
中心に窒素ガスまたはアルゴンガス等の不活性ガスの通
路１８を設け、通路１８に不活性ガスの発生機１９を接
続する。外軸１５の下端には上下二重インペラのうちの
上側インペラ２０を螺合する。内軸１４の下端は上側イ
ンペラ２０を突抜けて下降し、その下端に下側インペラ
２１を螺合する。下側インペラ２１は上側インペラ２０
より小径の場合と、下側インペラ２１と上側インペラ２
０を同径にするときとある。上側インペラ２０の上面側
は平坦に形成されるが、下面側には羽根２２を設ける。
下側インペラ２０も実施例では上面側は平坦に形成さ
れ、下面側にだけ羽根２３を設けているが、上面に羽根
２３を設けることがある。上側インペラ２０と下側イン
ペラ２１は、同方向または異方向回転にするが、上側イ
ンペラ２０の方が下側インペラ２１より遅く回転する。
の気泡分散装置１１（図では２個）を設ける。気泡分散
装置１１は、脱ガス室１の蓋体１２より脱ガス室１内に
垂設され、内外２重軸１３であって、１４は内軸、１５
は外軸である。内軸１４、外軸１５とも蓋体１２より上
方に突き出しており、上方突出部分にプーリ１６、プー
リ１７をそれぞれ固定する。内軸１４は中空軸であり、
中心に窒素ガスまたはアルゴンガス等の不活性ガスの通
路１８を設け、通路１８に不活性ガスの発生機１９を接
続する。外軸１５の下端には上下二重インペラのうちの
上側インペラ２０を螺合する。内軸１４の下端は上側イ
ンペラ２０を突抜けて下降し、その下端に下側インペラ
２１を螺合する。下側インペラ２１は上側インペラ２０
より小径の場合と、下側インペラ２１と上側インペラ２
０を同径にするときとある。上側インペラ２０の上面側
は平坦に形成されるが、下面側には羽根２２を設ける。
下側インペラ２０も実施例では上面側は平坦に形成さ
れ、下面側にだけ羽根２３を設けているが、上面に羽根
２３を設けることがある。上側インペラ２０と下側イン
ペラ２１は、同方向または異方向回転にするが、上側イ
ンペラ２０の方が下側インペラ２１より遅く回転する。
【０００７】
【作用】次に作用を述べる。 （全体の作用）金属溶湯を入湯口３より脱ガス室１内に
入湯させ、ヒータ５により加熱しつつ不活性ガスの発生
機１９より不活性ガスを供給し、気泡分散装置１１で撹
拌すると、不活性ガスは分散して溶湯中の浮遊ガスや非
金属介在物粒子と結合して上昇し脱ガス室１の上面一隅
に堆積する。脱ガスされた溶湯は連通孔４より濾過室２
内に入湯し、濾過チューブ１０により濾過されて出湯口
７より出湯する。なお、脱ガス室１のみで濾過室２のな
い場合は、脱ガス溶湯を脱ガス室１よりそのまま取出
す。
入湯させ、ヒータ５により加熱しつつ不活性ガスの発生
機１９より不活性ガスを供給し、気泡分散装置１１で撹
拌すると、不活性ガスは分散して溶湯中の浮遊ガスや非
金属介在物粒子と結合して上昇し脱ガス室１の上面一隅
に堆積する。脱ガスされた溶湯は連通孔４より濾過室２
内に入湯し、濾過チューブ１０により濾過されて出湯口
７より出湯する。なお、脱ガス室１のみで濾過室２のな
い場合は、脱ガス溶湯を脱ガス室１よりそのまま取出
す。
【０００８】（本発明の独特の作用）前記の場合、気泡
分散装置１１により溶湯を撹拌すると、大きな泡が多量
に生じて湯面が激しく波立ち、湯面の高さ位置を正確に
測定することが難かしく、溶湯の自動供給の機械化に支
障を来たすが、本発明では、気泡分散装置１１を長い内
軸１４と短かい外軸１５よりなる内外２重軸１３とし、
短かい外軸１５の下端には上側インペラ２０を取付け、
長い内軸１４の下端には上側インペラ２０と同径または
小径の下側インペラ２１を取付け、上側インペラ２０の
下面に羽根２２を下側インペラ２１の下面に羽根２３を
それぞれ形成し、上側インペラ２０と下側インペラ２１
とは同方向または異方向に、上側インペラ２０の方が下
側インペラ２１より遅く回転するようにしたので、内軸
１４の通路１８を通った不活性ガスは回転する下側イン
ペラ２１の羽根２３により撹拌されて分散して上昇する
とき、遅く回転する上側インペラ２０の羽根２２により
押さえられるので、湯面の波立ちは少ない。また、上側
インペラ２０より下側インペラ２１を小径にした実施例
では矢印イのように上昇した気泡が上側インペラ２０に
衝突するので、一層効果的である。
分散装置１１により溶湯を撹拌すると、大きな泡が多量
に生じて湯面が激しく波立ち、湯面の高さ位置を正確に
測定することが難かしく、溶湯の自動供給の機械化に支
障を来たすが、本発明では、気泡分散装置１１を長い内
軸１４と短かい外軸１５よりなる内外２重軸１３とし、
短かい外軸１５の下端には上側インペラ２０を取付け、
長い内軸１４の下端には上側インペラ２０と同径または
小径の下側インペラ２１を取付け、上側インペラ２０の
下面に羽根２２を下側インペラ２１の下面に羽根２３を
それぞれ形成し、上側インペラ２０と下側インペラ２１
とは同方向または異方向に、上側インペラ２０の方が下
側インペラ２１より遅く回転するようにしたので、内軸
１４の通路１８を通った不活性ガスは回転する下側イン
ペラ２１の羽根２３により撹拌されて分散して上昇する
とき、遅く回転する上側インペラ２０の羽根２２により
押さえられるので、湯面の波立ちは少ない。また、上側
インペラ２０より下側インペラ２１を小径にした実施例
では矢印イのように上昇した気泡が上側インペラ２０に
衝突するので、一層効果的である。
【０００９】
【発明の効果】前記公知のものは、気泡分散装置により
撹拌することにより不活性ガスを分散させているが、分
散効果を充分にするため激しく撹拌するから湯面の波立
ちも激しく、湯面位置を正確に測定できないので、溶湯
の自動供給等の機械化に支障を来たしていた。湯面が波
立つほど激しく撹拌しないと、不活性ガスによる溶湯中
の浮遊ガスや非金属介在物粒子の除去が充分にできない
ので、インペラを毎分８００回も回転させるから、激し
く波立ちするのであるが、そこに課題があった。しかる
に、本発明は、軸心に不活性ガスの通路１８を形成した
内軸１４と該内軸１４の外周に設けた外軸１５よりなる
内外２重軸１３とし、前記内軸１４の下端は前記外軸１
５の下端より下方に長く突出させ、前記外軸１５の下端
には上側インペラ２０を前記内軸１４の下端には前記上
側インペラ２０と同径か若しくは前記上側インペラ２０
より小径である下側インペラ２１を取付け、前記上側イ
ンペラ２０には羽根２２を前記下側インペラ２１には羽
根２３をそれぞれ設け、前記上側インペラ２０は前記下
側インペラ２１よりも遅い同方向若しくは異方向回転と
した、上側インペラ２０で湯面の波立ち押さえる溶融金
属脱ガス炉の気泡分散装置としたものであるから、内軸
１４の通路１８を通った不活性ガスは高速回転する下側
インペラ２１の羽根２３により充分撹拌されて分散して
上昇するが、遅く回転する上側インペラ２０の羽根２２
により押さえられるので、湯面の波立ちは少ない効果を
奏する。また、上側インペラ２０より下側インペラ２１
を小径にした実施例では矢印イのように上昇した気泡が
上側インペラ２０に衝突するので、一層効果的である。
撹拌することにより不活性ガスを分散させているが、分
散効果を充分にするため激しく撹拌するから湯面の波立
ちも激しく、湯面位置を正確に測定できないので、溶湯
の自動供給等の機械化に支障を来たしていた。湯面が波
立つほど激しく撹拌しないと、不活性ガスによる溶湯中
の浮遊ガスや非金属介在物粒子の除去が充分にできない
ので、インペラを毎分８００回も回転させるから、激し
く波立ちするのであるが、そこに課題があった。しかる
に、本発明は、軸心に不活性ガスの通路１８を形成した
内軸１４と該内軸１４の外周に設けた外軸１５よりなる
内外２重軸１３とし、前記内軸１４の下端は前記外軸１
５の下端より下方に長く突出させ、前記外軸１５の下端
には上側インペラ２０を前記内軸１４の下端には前記上
側インペラ２０と同径か若しくは前記上側インペラ２０
より小径である下側インペラ２１を取付け、前記上側イ
ンペラ２０には羽根２２を前記下側インペラ２１には羽
根２３をそれぞれ設け、前記上側インペラ２０は前記下
側インペラ２１よりも遅い同方向若しくは異方向回転と
した、上側インペラ２０で湯面の波立ち押さえる溶融金
属脱ガス炉の気泡分散装置としたものであるから、内軸
１４の通路１８を通った不活性ガスは高速回転する下側
インペラ２１の羽根２３により充分撹拌されて分散して
上昇するが、遅く回転する上側インペラ２０の羽根２２
により押さえられるので、湯面の波立ちは少ない効果を
奏する。また、上側インペラ２０より下側インペラ２１
を小径にした実施例では矢印イのように上昇した気泡が
上側インペラ２０に衝突するので、一層効果的である。
【図１】脱ガス炉と濾過槽の横断平面図。
【図２】垂直複数段インペラの縦断面図。
【図３】垂直複数段インペラの第２実施例縦断面図。
１…脱ガス室、２…濾過室、３…入湯口、４…脱ガス室
と濾過室の連通孔、５…ヒータ、６…濾過ユニット、７
…出湯口、８…入湯側鏡板、９…出湯側鏡板、１０…濾
過チューブ、１１…気泡分散装置、１２…蓋体、１３…
内外２重軸、１４…内軸、１５…外軸、１６…プーリ、
１７…プーリ、１８…通路、１９…ガス発生機、２０…
上側インペラ、２１…下側インペラ、２２、２３…羽
根。
と濾過室の連通孔、５…ヒータ、６…濾過ユニット、７
…出湯口、８…入湯側鏡板、９…出湯側鏡板、１０…濾
過チューブ、１１…気泡分散装置、１２…蓋体、１３…
内外２重軸、１４…内軸、１５…外軸、１６…プーリ、
１７…プーリ、１８…通路、１９…ガス発生機、２０…
上側インペラ、２１…下側インペラ、２２、２３…羽
根。
Claims (1)
- 【請求項１】 軸心に不活性ガスの通路１８を形成した
内軸１４と該内軸１４の外周に設けた外軸１５よりなる
内外２重軸１３とし、前記内軸１４の下端は前記外軸１
５の下端より下方に長く突出させ、前記外軸１５の下端
には上側インペラ２０を前記内軸１４の下端には前記上
側インペラ２０と同径か若しくは前記上側インペラ２０
より小径である下側インペラ２１を取付け、前記上側イ
ンペラ２０には羽根２２を前記下側インペラ２１には羽
根２３をそれぞれ設け、前記上側インペラ２０は前記下
側インペラ２１よりも遅い同方向若しくは異方向回転と
した、上側インペラ２０で湯面の波立ち押さえる溶融金
属脱ガス炉の気泡分散装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29793691A JPH05112837A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 溶融金属脱ガス炉の気泡分散装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29793691A JPH05112837A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 溶融金属脱ガス炉の気泡分散装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05112837A true JPH05112837A (ja) | 1993-05-07 |
Family
ID=17853015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29793691A Withdrawn JPH05112837A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 溶融金属脱ガス炉の気泡分散装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05112837A (ja) |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1991
- 1991-10-18 JP JP29793691A patent/JPH05112837A/ja not_active Withdrawn
Cited By (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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