JPH05102288A - 冷却クランプ装置 - Google Patents
冷却クランプ装置Info
- Publication number
- JPH05102288A JPH05102288A JP28953591A JP28953591A JPH05102288A JP H05102288 A JPH05102288 A JP H05102288A JP 28953591 A JP28953591 A JP 28953591A JP 28953591 A JP28953591 A JP 28953591A JP H05102288 A JPH05102288 A JP H05102288A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clamp arm
- bellows
- cooling stage
- board
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 クランプアーム操作機構に基板押し付け力の
調整機能を持たせ、構造を簡素化すること。 【構成】 被処理基板１を冷却ステージ２に固定するク
ランプアーム３は、流体シリンダ装置１２で操作され
る。シリンダ装置のハウジング１３内に二重のベローズ
１４1、１４2を設け、各ベローズの端部は、クランプア
ーム操作シャフト５が結合されている受圧板１５に取り
付ける。空気を導入孔１７から両ベローズ内に供給する
とベローズは伸び、クランプアームは基板を冷却ステー
ジに固定する。空気圧の調整により基板の押し付け力を
制御でき、冷却ステージへの熱伝達を良好にすることが
できる。導入口１８から空気を供給することにより、基
板の固定を解除する。
調整機能を持たせ、構造を簡素化すること。 【構成】 被処理基板１を冷却ステージ２に固定するク
ランプアーム３は、流体シリンダ装置１２で操作され
る。シリンダ装置のハウジング１３内に二重のベローズ
１４1、１４2を設け、各ベローズの端部は、クランプア
ーム操作シャフト５が結合されている受圧板１５に取り
付ける。空気を導入孔１７から両ベローズ内に供給する
とベローズは伸び、クランプアームは基板を冷却ステー
ジに固定する。空気圧の調整により基板の押し付け力を
制御でき、冷却ステージへの熱伝達を良好にすることが
できる。導入口１８から空気を供給することにより、基
板の固定を解除する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体関連製造装置に
おける被処理基板の冷却クランプ装置に関する。
おける被処理基板の冷却クランプ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は、半導体製造装置、例えばイオン
ビ−ム・エッチング装置における被エッチング基板の冷
却クランプ装置について従来の構成図を示し、真空室内
でエッチングされる基板１は冷却ステージ２上にクラン
プアーム３で固定するように構成されており、クランプ
アーム３は通常２ないし３個設けられて基板１の周辺部
を固定する。冷却ステージ２の内部には冷却媒体路４が
設けられ、冷却水が通流している。クランプアーム３に
固定された操作シャフト５は、真空室壁６に設けられた
Ｏリングによる真空シール軸受部７と操作シャフト５が
回転しないように支持案内するスプライン機構によるガ
イド８を通り大気側に延出している。大気側には操作モ
ータ９が設けられており、モ−タ９の軸１０には雌ネジ
部が形成された伝動部材１１が結合してあり、この伝動
部材の雌ネジ部に操作シャフト５の端部に形成された雄
ネジ部が螺合している。操作モ−タ９を正、逆転駆動す
ることにより、操作シャフト５を上下方向に直線駆動
し、クランプアーム３は基板１の固定、解除の方向に操
作される。
ビ−ム・エッチング装置における被エッチング基板の冷
却クランプ装置について従来の構成図を示し、真空室内
でエッチングされる基板１は冷却ステージ２上にクラン
プアーム３で固定するように構成されており、クランプ
アーム３は通常２ないし３個設けられて基板１の周辺部
を固定する。冷却ステージ２の内部には冷却媒体路４が
設けられ、冷却水が通流している。クランプアーム３に
固定された操作シャフト５は、真空室壁６に設けられた
Ｏリングによる真空シール軸受部７と操作シャフト５が
回転しないように支持案内するスプライン機構によるガ
イド８を通り大気側に延出している。大気側には操作モ
ータ９が設けられており、モ−タ９の軸１０には雌ネジ
部が形成された伝動部材１１が結合してあり、この伝動
部材の雌ネジ部に操作シャフト５の端部に形成された雄
ネジ部が螺合している。操作モ−タ９を正、逆転駆動す
ることにより、操作シャフト５を上下方向に直線駆動
し、クランプアーム３は基板１の固定、解除の方向に操
作される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】エッチング処理時、基
板１は発熱し、温度が上昇する。基板１はクランプアー
ム３によって冷却ステージ２に固定されているが、単に
固定するだけでは基板１から冷却ステージ２への熱伝達
が充分に行えない。基板１の温度を下げるためには、基
板１を一定の力で冷却ステージ２に押し付けて固定しな
ければならないが、上述のクランプ装置にあっては、操
作モ−タ９の回転をネジ伝動機構により直線運動に変換
しクランプアーム３を操作しているため、基板１を冷却
ステージ２に押し付ける力の調節が困難であり、また、
大気側の機構も大きくなりコンパクトに構成することが
できない。
板１は発熱し、温度が上昇する。基板１はクランプアー
ム３によって冷却ステージ２に固定されているが、単に
固定するだけでは基板１から冷却ステージ２への熱伝達
が充分に行えない。基板１の温度を下げるためには、基
板１を一定の力で冷却ステージ２に押し付けて固定しな
ければならないが、上述のクランプ装置にあっては、操
作モ−タ９の回転をネジ伝動機構により直線運動に変換
しクランプアーム３を操作しているため、基板１を冷却
ステージ２に押し付ける力の調節が困難であり、また、
大気側の機構も大きくなりコンパクトに構成することが
できない。
【０００４】本発明は、冷却ステージへの基板の押し付
け力を容易に制御することができ、大気側の機構を必要
としないクランプアーム操作機構を備えた冷却クランプ
装置を提供することを目的とするものである。
け力を容易に制御することができ、大気側の機構を必要
としないクランプアーム操作機構を備えた冷却クランプ
装置を提供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、被処理基板を
冷却ステージにクランプする冷却クランプ装置におい
て、クランプアームと、このクランプアームの操作シャ
フトを駆動する装置であって、ハウジングと、このハウ
ジング内に設けられて前記操作シャフトに結合した二重
のベローズとを有し、この二重のベローズ内及び前記ハ
ウジング内に流体が供給される流体シリンダ装置とを備
えたことを特徴とするものである。
冷却ステージにクランプする冷却クランプ装置におい
て、クランプアームと、このクランプアームの操作シャ
フトを駆動する装置であって、ハウジングと、このハウ
ジング内に設けられて前記操作シャフトに結合した二重
のベローズとを有し、この二重のベローズ内及び前記ハ
ウジング内に流体が供給される流体シリンダ装置とを備
えたことを特徴とするものである。
【０００６】
【作用】流体シリンダ装置の二重のベローズ内に流体例
えば空気を供給すると、同ベローズは伸び、クランプア
ームは操作シャフトを介して駆動されて基板を冷却ステ
ージに押し付ける。ハウジング内に空気を供給すると、
二重のベローズは縮み、基板のクランプを解除する。二
重のベローズに供給する空気の圧力を制御することによ
り、基板の冷却ステージへの押し付け力を調整すること
ができる。
えば空気を供給すると、同ベローズは伸び、クランプア
ームは操作シャフトを介して駆動されて基板を冷却ステ
ージに押し付ける。ハウジング内に空気を供給すると、
二重のベローズは縮み、基板のクランプを解除する。二
重のベローズに供給する空気の圧力を制御することによ
り、基板の冷却ステージへの押し付け力を調整すること
ができる。
【０００７】
【実施例】本発明の実施例について図面を参照して説明
する。図１は一実施例の構成図を示し、図２と同一符号
は同等部分を示す。基板１は冷却ステージ２上に載置さ
れ、その周辺部において２ないし３個のクランプアーム
３でクランプされる。クランプアーム３の操作シャフト
５は真空室内に設けられた流体シリンダ装置１２によっ
て操作される。流体シリンダ装置１２のハウジング１３
内に二重のベローズ１４1、１４2が設けられ、各ベロー
ズの端部はハウジング１３の上部内面部及び受圧板１５
に固定されている。クランプアーム３の操作シャフト５
はスプライン機構のガイド１６で軸支されて受圧板１５
に取り付けられている。ハウジング１３の上部及び下部
には空気圧導入孔１７、同１８が形成されており、図示
しない空気圧源に連通している。
する。図１は一実施例の構成図を示し、図２と同一符号
は同等部分を示す。基板１は冷却ステージ２上に載置さ
れ、その周辺部において２ないし３個のクランプアーム
３でクランプされる。クランプアーム３の操作シャフト
５は真空室内に設けられた流体シリンダ装置１２によっ
て操作される。流体シリンダ装置１２のハウジング１３
内に二重のベローズ１４1、１４2が設けられ、各ベロー
ズの端部はハウジング１３の上部内面部及び受圧板１５
に固定されている。クランプアーム３の操作シャフト５
はスプライン機構のガイド１６で軸支されて受圧板１５
に取り付けられている。ハウジング１３の上部及び下部
には空気圧導入孔１７、同１８が形成されており、図示
しない空気圧源に連通している。
【０００８】基板１のクランプ時、空気圧導入孔１７か
ら二重のベローズ１４1と同１４2で形成されるベローズ
室内に空気が供給される。二重のベローズ１４1、１４2
は伸び、操作シャフト５を介してクランプアーム３は下
方に駆動され、基板１を冷却ステージ２に押し付ける。
二重のベローズ１４1と同１４2で形成されるベローズ室
内に供給される空気の圧力を制御することにより基板１
の冷却ステージ２への押し付け力を調整することができ
る。クランプ解除時、空気圧導入孔１８からハウジング
１３内に空気を供給する。受圧板１５に空気圧が作用し
ベローズの弾性と相俟って二重のベローズ１４1、１４2
は縮み、クランクアーム３を上方に駆動する。
ら二重のベローズ１４1と同１４2で形成されるベローズ
室内に空気が供給される。二重のベローズ１４1、１４2
は伸び、操作シャフト５を介してクランプアーム３は下
方に駆動され、基板１を冷却ステージ２に押し付ける。
二重のベローズ１４1と同１４2で形成されるベローズ室
内に供給される空気の圧力を制御することにより基板１
の冷却ステージ２への押し付け力を調整することができ
る。クランプ解除時、空気圧導入孔１８からハウジング
１３内に空気を供給する。受圧板１５に空気圧が作用し
ベローズの弾性と相俟って二重のベローズ１４1、１４2
は縮み、クランクアーム３を上方に駆動する。
【０００９】クランプアーム３を２ないし３個設ける場
合、各クランプアーム３の流体シリンダ装置１２への空
気供給管路をシリーズに接続することにより、全てのク
ランプアーム３は同じ力で基板１を冷却ステージ２に押
し付けることができる。この場合、流体シリンダ装置１
２には点線で示すように空気圧接続孔１９、同２０が設
けられ、各接続孔は次段の流体シリンダ装置の空気圧導
入孔１７、同１８に管路で順次接続される。
合、各クランプアーム３の流体シリンダ装置１２への空
気供給管路をシリーズに接続することにより、全てのク
ランプアーム３は同じ力で基板１を冷却ステージ２に押
し付けることができる。この場合、流体シリンダ装置１
２には点線で示すように空気圧接続孔１９、同２０が設
けられ、各接続孔は次段の流体シリンダ装置の空気圧導
入孔１７、同１８に管路で順次接続される。
【００１０】
【発明の効果】本発明は以上説明したように構成したの
で、流体シリンダ装置の二重のベローズ内に供給する流
体例えば空気の圧力を調整することにより、クランプア
ームは被処理基板を一定の力で冷却ステージに容易に押
し付けることができるから、基板の発熱を冷却ステージ
に良好に伝達することができ、基板の温度上昇を抑える
ことができる。
で、流体シリンダ装置の二重のベローズ内に供給する流
体例えば空気の圧力を調整することにより、クランプア
ームは被処理基板を一定の力で冷却ステージに容易に押
し付けることができるから、基板の発熱を冷却ステージ
に良好に伝達することができ、基板の温度上昇を抑える
ことができる。
【００１１】流体シリンダ装置のベローズ部は二重構造
のものであるから、流体例えば空気の洩れがない。そし
て、大気側からは空気を供給するだけでよいから（空気
圧源自体は大気側の任意の場所に設けることができ
る）、大気側の機構がなくなり、省スペースを実現する
ことができ、冷却クランプ装置をコンパクトに構成する
ことができる。
のものであるから、流体例えば空気の洩れがない。そし
て、大気側からは空気を供給するだけでよいから（空気
圧源自体は大気側の任意の場所に設けることができ
る）、大気側の機構がなくなり、省スペースを実現する
ことができ、冷却クランプ装置をコンパクトに構成する
ことができる。
【図１】本発明の一実施例の構成図である。
【図２】従来例の構成図である。
1 被処理基板 2 冷却ステージ 3 クランプアーム 5 操作シャフト 12 流体シリンダ装置 13 ハウジング 141、142 ベローズ 15 受圧板 16 ガイド 17、18 空気圧導入孔
Claims (1)
- 【請求項１】 被処理基板を冷却ステージにクランプす
る冷却クランプ装置において、クランプアームと、この
クランプアームの操作シャフトを駆動する装置であっ
て、ハウジングと、このハウジング内に設けられて前記
操作シャフトに結合した二重のベローズとを有し、この
二重のベローズ内及び前記ハウジング内に流体が供給さ
れる流体シリンダ装置とを備えたことを特徴とする冷却
クランプ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28953591A JPH05102288A (ja) | 1991-10-09 | 1991-10-09 | 冷却クランプ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28953591A JPH05102288A (ja) | 1991-10-09 | 1991-10-09 | 冷却クランプ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05102288A true JPH05102288A (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=17744507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28953591A Pending JPH05102288A (ja) | 1991-10-09 | 1991-10-09 | 冷却クランプ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05102288A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017028248A (ja) * | 2015-07-27 | 2017-02-02 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 基板リフトピンアクチュエータ |
-
1991
- 1991-10-09 JP JP28953591A patent/JPH05102288A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017028248A (ja) * | 2015-07-27 | 2017-02-02 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 基板リフトピンアクチュエータ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI664694B (zh) | Holding device | |
| US5489192A (en) | Heat resisting robot hand apparatus | |
| JPS60239039A (ja) | 半導体ウエハ−の保持装置および保持方法 | |
| US11215186B2 (en) | Vacuum pump control apparatus and vacuum pump, and assembly method of vacuum pump control apparatus | |
| KR20050109547A (ko) | 기판 지지 리프트 메커니즘 | |
| JP2008047841A (ja) | 保持冶具 | |
| KR940020484A (ko) | 이시알 장비 | |
| WO2001037326A1 (en) | Processing apparatus for microelectronic devices in which polymeric bellows are used to help accomplish substrate transport inside of the apparatus | |
| US6207006B1 (en) | Vacuum processing apparatus | |
| JPH05102288A (ja) | 冷却クランプ装置 | |
| JP2006190805A (ja) | 基板保持装置 | |
| JP3716890B2 (ja) | 真空用モ−タの冷却装置 | |
| US20090268180A1 (en) | Lithographic apparatus and a vacuum chamber | |
| JPH0363218B2 (ja) | ||
| KR20010080561A (ko) | 자가 정렬 선형 액츄에이터를 위한 유니버셜 커플러 | |
| CN214012909U (zh) | 反应炉 | |
| CN110767568B (zh) | 压力调节组件、下电极装置、工艺腔室和半导体处理设备 | |
| CN115682496A (zh) | 一种用于真空运动系统的水冷系统 | |
| CN212692648U (zh) | 一种非紧固安装结构的散热器 | |
| KR200158411Y1 (ko) | 웨이퍼 에칭챔버의 웨이퍼 클램핑력 조절장치 | |
| JP4314648B2 (ja) | ステージ装置およびそれを備えた光学装置 | |
| JPH0294514A (ja) | 半導体製造装置 | |
| CN214545352U (zh) | 贴片系统 | |
| JP2000353773A (ja) | 冷却部品取付方法及びモジュール封止方法 | |
| JPH04122045A (ja) | ウエーハのクランプ装置及びクランプ方法 |