JPH05101072A - エンジニアリング変更の管理を制御する方法とシステム - Google Patents

エンジニアリング変更の管理を制御する方法とシステム

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JPH05101072A
JPH05101072A JP16053191A JP16053191A JPH05101072A JP H05101072 A JPH05101072 A JP H05101072A JP 16053191 A JP16053191 A JP 16053191A JP 16053191 A JP16053191 A JP 16053191A JP H05101072 A JPH05101072 A JP H05101072A
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JP16053191A
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William M Orr
ウイリアム・エム・オアー
Badari N Panuganti
バダリ・エヌ・パヌガンテイ
J Sambataro George
ジヨージ・ジエイ・サムバタロ
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International Business Machines Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 エンジニアリング及び製造上の変更を制御、
モニタかつ統合することにより、多数の製造ラインから
の「アズビルト」の製品を設計センタからの「アズデザ
インド」の製品と調整するよう作用する情報システムを
提供する。 【構成】 エンジニアリング変更の状態と、エンジニア
リング変更により影響を受ける項目の状態とが中央デー
タ処理設備において動作しているエンジニアリング変更
制御マネージャアプリケーション３５によりモニタされ
る。エンジニアリング変更と、その変更によって影響を
受ける項目の設計あるいは修正とは、１つ以上の製造場
所７０，８０に開示され、そこで局所での製造能力に適
合させるように付加的な設計変更がなされる。各々の製
造場所では、エンジニアリング変更の実行を進めうる状
態となると、エンジニアリング変更と、対応する被影響
項目とを受け入れる。被影響項目は、その被影響項目を
その工場で生産に移行させる有効状態まで製造場所にお
いて局所的に進展される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、一般的にはコンピュー
タ統合製造（ＣＩＭ）システムに関し、特に製造業にお
けるエンジニアリングおよび製造上の変更を管理し、モ
ニタし、かつ統合する方法とシステムとに関する。
【０００２】
【従来の技術】典型的な製造業においては、研究室の設
計エンジニアが、製品あるいはその構成要素のいずれか
に対する変更が必要とされる場合設計変更書類を作成す
る。設計変更は、ある項目のデータ変更、材料表の変更
あるいは基準文書の変更を含みうる。変更が完了する
と、設計変更文書は、ある項目の実際の変更や材料表の
変更と共に各々の製造場所まで送られ、そこではその変
更項目を最終製品あるいは最終製品の一構成要素のいず
れかとして用いる。製造場所においては、特定の工場に
おいてその項目の担当製造エンジニアがその設計変更を
分析し、適宜その設計変更に対して修正し、その工場に
おける製造工程に適合させる。これらの変更は、実際の
製造のために作業現場へ送られる。
【０００３】計算機援用システムは、製造業の全てでは
ないとしても殆んどの機能的領域において広く使用され
ているけれども、伝統的な方法は、数個のデータベース
を用いることであり、隔離された機能領域に対しては提
供される能力に限度があった。種々のデータベースと共
に、各々の機能領域が情報を入力し、変更を追跡する種
々の方法を用いることが一般的である。特に、エンジニ
アリングと製造部門とは情報の共用についてはこれまで
統合されていなかった。このように、エンジニアリング
と製造機能との間で技術情報を転送するのに手作業によ
る介入が必要とされた。
【０００４】開示された設計や製造変更を実際の生産ま
で伝えるのに係わる全ての仕事が効率的に実行されるよ
うに、設計と製造の双方のエンジニアに対して十分な機
能性を提供する統合製造システムに対する要請がある。
このことは、「アズビルト（ａｓ ｂｕｉｌｔ）」の製
品は局所的な製造能力の差異によって製造場所の各々に
おいて異なりうるので、「アズビルト」の製品を十分追
跡することを要する。また、設計センター、および製造
場所、あるいはこれら両方における所定の設計変更をモ
ニタでき、そのため集中化した設計部門と局所的な製造
部門との間でのインタフェースを効果的に制御できる統
合製造システムに対する要請もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、エン
ジニアリングおよび製造上の変更を制御し、モニタし、
かつ統合することにより、多数の製造ラインからの「ア
ズビルト」の製品を設計センタからの「アズデザインド
（ａｓ ｄｅｓｉｇｎｅｄ）」の製品と調整するよう作
用するエンジニアリングおよび製造情報システムを提供
することである。本発明の別の目的は、全ての設計変更
の状態に関する最新の情報を提供するために全ての設計
変更をチャンネルで送る独特の集中制御機構を提供する
ことである。
【０００６】本発明のさらに別の目的は、製造場所にお
ける実行を通して設計センタにおける最初からの設計変
更の進展を制御し、かつモニタする方法を提供すること
である。
【０００７】
【発明の概要】これらおよびその他の目的並びに利点
は、本発明の目的に対して指向する方法が主項目データ
ベースにおけるエンジニアリングの変更と項目との間の
多数間関係を設定するために使用される本発明により達
成される。ある企業において設計エンジニアリング変更
（ＥＣ）を行う必要がある場合、設計エンジニアは、変
更制御機構の属性と機能とを含む「ＥＣ」対象物を作成
する。各々の「ＥＣ」対象物には、エンジニアリング変
更に係わる全ての設計変更がこの「ＥＣ」対象物を追跡
しやすくするために所持すべき対象物ｉｄと称される独
特の識別子が与えられる。「ＥＣ」対象物は、変更を行
う設計者およびその変更の理由のようなエンジニアリン
グ変更に関する管理情報を含む。同様に、製造エンジニ
アが、自分の製造場所において設計変更したいとき、あ
るいは自分の場所においてある変更を実行するために新
しい項目を作りたいとき、製造エンジニアリング変更に
対して「ＭＥＣ」と称する「ＥＣ」対象物を作る。
【０００８】設計エンジニアが、「主項目」と称される
対象物として網羅される項目を変更あるいは作る必要の
ある場合、項目とＥＣとの間の関係を示すデータを定義
する。これは、外部の識別子の対、即ち項目の番号とＥ
Ｃ番号とにより識別される「被影響項目（ＡＩ）」と称
される対象物として言及される。「被影響項目（Ａ
Ｉ）」対象物は、所期の作用あるいは計画有効性のよう
な制御情報を含む。この対象物におけるデータは、影響
された項目のエンジニアリング制御データとして見做す
ことができる。各々の主項目は、多様レベルの設計エン
ジニアリング変更を有し、かつ各エンジニアリング変更
が多くの主項目に影響しうるので、「ＡＩ」対象物は、
２個の項目の間の多数関係を表わす。「ＡＩ」対象物
は、ＥＣ対象物ＩＤと主項目対象物ＩＤの組合せにより
独特の要領で表わされる。
【０００９】被影響項目を追加した後、設計エンジニア
は、項目データ、ＢＯＭデータおよび図面データにおい
て必要な設計変更を行い、変更を実行すべきであると判
断する。このため、図面の広義の概念から生産工場での
実行まで設計変更の状態を漸次進行させる。この進行
は、設計研究所での予備開示から開示まで、続いて受け
入れられ、さらに設計変更を有効にし、最終的に製造工
場で設計変更を終了するまでである。
【００１０】被影響項目の対象物が設計変更に加えられ
ると、それはＰＲＥ−ＲＥＬＥＡＳＥ（予備開示）の状
態で作られる。設計エンジニアが被影響項目の設計を完
了すると、該設計エンジニアは、その項目を、それを製
造する全ての場所に開示する。開示時、被影響項目の状
態は、ＲＥＬＥＡＳＥ（開示）に変えられる。その項目
を製造する各場所にはその項目に対する新規の開示があ
ることが知らされている。この通知により、製造エンジ
ニアは、局所での生産に対する修正の可能性に対して送
入されてくる開示を分析するように促がされる。
【００１１】各場所における、製造エンジニアは、被影
響項目の状態をＡＣＣＥＰＴ状態まで促進することによ
りエンジニアリング変更の処理を開始する。本システム
は、その場所で受け取られた被影響項目対象物を「場所
被影響項目（ＬＡＩ）」と称される別の対象物にコピー
する。ＬＡＩは場所に依存する。この対象物におけるデ
ータは、特定場所での被影響項目の製造制御データと見
做すことができる。各場所は、局所的に可視性の製造場
所データに対して変更を行うことができる。所定の場所
で行われた変更は、その工場のデータの見解に適用でき
るのみである。設計研究所およびその他の製造工場はこ
れらの変更から遮断されている。場所被影響項目の状態
はＡＣＣＥＰＴとして開始される。製造エンジニアは、
ＬＡＩ対象物において提供された管理データを変更し
て、特定の工場の要件に合わせる。例えば、ある項目の
計画された処理あるいは計画された有効性のデータは変
更することができる。製造エンジニアはまた、製造デー
タをその項目の生産高、特定のルーチング、あるいは購
買データとして入力する。
【００１２】必要な製造データが得られると、製造エン
ジニアは、工場においてこれらの場所被影響項目の各々
をＥＦＦＥＣＴＩＶＥ状態まで進展させ、材料要求計
画、生産スケジュール、在庫品、半製品およびその他の
用途に対して可視状態とする。一般的には、製造エンジ
ニアは、諸項目をその工場での生産に対して開示する。
被影響項目の状態は、製造エンジニアが被影響項目に対
するそれ以上の変更がその工場では許されないと判断す
るとＣＬＯＳＥＤに変えられる。
【００１３】エンジニアリング変更の状態および被影響
項目の状態とは、被影響項目を利用している製造工場の
いずれかにおいて、場所被影響項目の状態に変更されれ
ばいつでも必要に応じて自動的に更新される。このた
め、被影響項目の状態を、いずれかの工場において項目
の少なくとも前進した状態に保つことが可能となる。同
様に、エンジニアリング変更の状態は、いずれかの工場
においてエンジニアリング変更に関する被影響項目のい
ずれかの少なくとも前進した状態において保たれる。
【００１４】
【実施例】本発明の前述の特徴並びに利点を添付図面に
関連して以下説明する。
【００１５】エンジニアリング変更制御管理システム１
０の実施例を図１に示す。該実施例は、単一の設計セン
タ６０と、２個所の個別の製造設備７０，８０とを有す
るホストプロセッサ即ち中央データ処理システム２５を
示す。コンピュータ援用製造情報システムの技術分野の
専門家は、本明細書で述べる概念を集中並びに分散の双
方の処理アーキテクチャに直ちに適用できる。
【００１６】ホストプロセッサ２５でエンジニアリング
変更制御管理手段（以下「エンジニアリング変更制御マ
ネージャ」という）３５が動作している。設計場所ある
いは製造場所におけるユーザは、ユーザインタフェース
４５を介してエンジニアリング変更制御マネージャ３５
と対話する。ホストプロセッサ２５は直接アクセス記憶
装置（ＤＡＳＤ）１５とアクセスする。ＤＡＳＤ１５
は、主項目テーブル２０、ＥＣ／ＭＥＣテーブル１２、
被影響項目（ＡＩ）のテーブル１４、場所被影響項目
（ＬＡＩ）テーブル１６、材料表テーブル１９および場
所利用テーブル２１を含むＣＩＭデータ・レポジトリ
（ｒｅｐｏｓｉｔｏｒｙ）を包含している。
【００１７】設計センタ６０は、参照番号６２，６４，
６６で示す複数の個別のワークステーションＤＷＳ１，
ＤＷＳ２，……ＤＷＳＭを含む。これらのワークステー
ションは、エンジニアリング変更の担当設計エンジニア
がエンジニアリング変更制御マネージャ３５と対話でき
るようにする。同様に、参照番号７０で示す製造場所Ｍ
ＦＧ１において、製造エンジニアは、参照番号７２，７
４，７６で示すワークステーションＬＷＳ１，ＬＷＳ
２，……ＬＷＳＮを用いてエンジニアリング変更制御マ
ネージャ３５と対話する。また、参照番号８０で示す別
の製造場所ＭＦＧ２も図１に示されている。ワークステ
ーションＭＷＳ１，ＭＷＳ２，……ＭＷＳＰ（参照番号
８２，８４，８６）はこの場所における製造エンジニア
が使用する。
【００１８】ＥＣ／ＭＥＣ対象物テーブル１２、被影響
項目テーブル１４、および場所被影響項目（ＬＡＩ）テ
ーブル１６の詳細要素が図２に示されている。これらの
テーブルは、エンジニアリング変更制御マネージャ３５
により作成され、更新される。これらの３個のテーブル
の全てはＤＡＳＤ１５のＣＩＭデータ・レポジトリに記
憶されている。ＥＣ／ＭＥＣ対象物テーブル１２は、設
計エンジニアあるいは製造エンジニアにより作られる各
対象物に１組の設計変更を関連づけるものである。ＥＣ
／ＭＥＣ対象物テーブル１２は、所定の企業で作られた
全てのＥＣあるいはＭＥＣを包含する。該テーブルの各
列は、ＥＣあるいはＭＥＣを示し、欄は対象物の事実
（発生）の属性を示す。第１の欄は、企業全体にわたる
対象物の各事実に対する独特の内部識別子であるＥＣ対
象物ＩＤ２２を含む。企業における各対象物はこの属性
を有し、この属性は追跡に使用される内部属性である。
次の欄は、ＥＣあるいはＭＥＣ ＩＤ３０を含み、企業
において作り出される各設計変更に対する外部企業の識
別を表わす。設計についてのいずれの変更もこの識別を
反映し、そのため特定のエンジニアリング変更を追跡す
ることができる。ＥＣの状態の欄３４は、開示に向けて
の変更の進展と製造工場におけるその実行についてのＥ
Ｃの状態を含む。その他の属性の欄３６は、例えば日付
や担当者のようなＥＣの管理属性を含む。
【００１９】被影響項目（ＡＩ）テーブル１４は、全て
の設計変更が関係する対象物を含む。被影響項目の対象
物は、ＥＣあるいはＭＥＣがある項目に影響を与えれば
常に創出される。各列は、ＥＣ（ＭＥＣ）対象物ＩＤと
主項目対象物ＩＤとの組み合わせにより創出される。主
項目テーブルは、企業の全ゆる部分を包含する物理的デ
ータベース１５の個別部分である。ＡＩテーブル１４
は、ＥＣ／ＭＥＣテーブル１２の事例と主項目テーブル
２０の事例との間の多数関係を表わす。ＥＣ／ＭＥＣ対
象物ＩＤ２２と主項目対象物ＩＤ２６とを組み合わせた
ものが独特の要領で被影響項目を示す。ＡＩテーブル１
４におけるデータは被影響項目に対する制御データと見
做される。
【００２０】最初の欄は、対象物の各々の発生に対する
独特の内部識別子であるＡＩ対象物ＩＤ２３を含む。第
２の欄は、ある項目に関連したＥＣまたはＭＥＣに対す
る独特の識別子であるＥＣ（ＭＥＣ）対象物ＩＤ２２を
含む。被影響項目は何ら直接の外部の識別を有さない。
その代りに、それは、ＥＣ対象物ＩＤと主項目の対象物
ＩＤとの組合せにより識別される。主項目の対象物ＩＤ
の欄２６は、ＥＣ／ＭＥＣにより影響された主項目のた
めの独特の識別子を含む。被影響項目の状態の欄３８
は、被影響項目が閉鎖に向かってどの位進行するかを示
す。種々の状態を追って順次記載する。アクションコー
ドの欄４０は、主項目がエンジニアリングの変更により
影響を受ける理由を示す。典型的な理由としては、新し
い部品の導入、既存部品の変更、あるいは新しい場所へ
の発行がある。計画処置の欄４２は、新しい変更を導入
した結果諸工場での部品の既存在庫に対して採るべき行
動を示す。典型的な処置にはスクラップあるいは仕直し
がある。計画有効性の欄４４は、被影響項目を介して導
入された変更が有効とされるべき時期を示し、実際にそ
の項目を生産に導入するときである。
【００２１】設計シーケンス番号の欄４６は、種々のＥ
Ｃによって主項目に変更が導入される順序を示す。この
番号は、特定の主項目の種々バージョンが種々のＥＣ／
ＭＥＣにより創成された順序、あるいはエンジニアリン
グ変更が開示された順序のいずれかを示す。
【００２２】場所被影響項目（ＬＡＩ）テーブル１６
は、場所によって変わる被影響項目に関する情報を含
む。設計エンジニアにより開示さた後、あるいはＭＥＣ
が被影響項目を追加した後、ＥＣ被影響項目が製造場所
で受け入れられれば常に場所特定データの事例が創出さ
れ、ＬＡＩテーブルに記憶される。テーブルにおけるデ
ータに対する独特の識別は、場所対象物ＩＤ２８、ＥＣ
対象物ＩＤ２２、および主項目対象物ＩＤ２６の組合せ
により提供される。ＬＡＩテーブル１６におけるデータ
は、特定の製造工場における被影響項目の製造見解を表
わす。各工場は、ＡＩテーブル１４における制御データ
を変更することなく、ＬＡＩテーブル１６に含まれた製
造データを扱うことができる。特定の工場で行われた変
更のみは、被影響項目データのその場所の見解に反映さ
れる。設計研究所やその他の製造工場は、これらの局所
的な変更とは遮断されている。
【００２３】ＬＡＩ対象物ＩＤの欄２４は、ＬＡＩテー
ブル１６における最初の欄であって、全体のデータベー
スにわたってこのテーブルの各列に対する独特の識別子
を提供する。場所対象物ＩＤ２８は特定の製造場所に対
する独特の識別子である。ある場所におけるある被影響
項目に対するいずれかの変更は、この識別子を用いて記
憶される。被影響項目対象物ＩＤ２３は、この列により
表わされるＡＩテーブル１４における被影響項目の独特
の内部識別子である。場所被影響項目は、場所対象物Ｉ
Ｄ２８と被影響項目対象物ＩＤ２３との組合せにより識
別される。ＥＣあるいはＭＥＣ対象物ＩＤ２２は、場所
被影響項目に対応するＥＣあるいはＭＥＣに対する独特
の内部識別子である。主項目対象物ＩＤ２６は、ＥＣ／
ＭＥＣにより影響される主項目に対する独特の内部識別
子である。基準変更対象物ＩＤ３２は、ＥＣ変更レベル
を対応する有効ＭＥＣに相関させる内部識別子である。
【００２４】場所被影響項目の状態の欄４８は、特定の
工場におけるいずれかの時の場所被影響項目の状態を示
す。計画処置の欄５０は、エンジニアリング変更を導入
した結果として製造工場における被影響部品の既存在庫
に対して採るべき行動（アクション）を示す。設計変更
が工場に開示されると、計画処置は設計部門により提示
される。しかしながら、各々の局地の工場はこの処置を
適宜変更することができる。計画有効性の欄５２は、被
影響項目を介して導入されつつある変更が有効となるべ
き、即ち生産に移される時期を指示する。製造シーケン
ス番号の欄５４は、特定の場所において種々のＥＣＳに
より主項目に変更が導入される順序を示す。製造シーケ
ンス番号は、種々のＥＣ／ＭＥＣにより創出された特定
の主項目の種々のバージョンがその場所において受け入
れられた順序、あるいはこれらの変更がその場所で有効
とされた順序を識別する。
【００２５】設計研究所あるいは製造工場に介在してい
るか否かに関係なく被影響項目の状態は、その被影響項
目に付された組の設計変更が進行して次の状態まで展開
するにつれて変更し続ける。前記の進行は、設計研究所
における被影響項目と比較されると製造工場における被
影響項目に対しては変動する。
【００２６】設計研究所における被影響項目の状態は、
グローバル的に可変であって、問合せを行う場所（設計
研究所あるいは製造工場を問わず）とは独立している。
被影響項目に対して可能性のある状態とは、ＰＲＥ−Ｒ
ＥＬＥＡＳＥ（予備開示）、ＲＥＬＥＡＳＥ（開示）、
ＡＣＣＥＰＴ（受入れ）、ＥＦＦＥＣＴＩＶＥ（有効）
およびＣＬＯＳＥＤ（閉鎖）である。エンジニアリング
変更が開始すると、被影響項目がＰＲＥ−ＲＥＬＥＡＳ
Ｅ状態において創出される。被影響項目の状態は、ＥＣ
に付された組の設計変更が少なくとも１個所の製造工場
に対して開示されるとＲＥＬＥＡＳＥに変えられる。被
影響項目の状態は、その項目を使用している全ての製造
工場がこの被影響項目を受け入れるとＲＥＬＥＡＳＥか
らＡＣＣＥＰＴに進展する。被影響項目の次の状態変化
は、その項目を使用している全ての工場がその項目をＥ
ＦＦＥＣＴＩＶＥとしたときに発生する。その状態変化
が起こると、被影響項目のグローバルな状態もＥＦＦＥ
ＣＴＩＶＥに変わる。最後に、その項目を使用している
全ての工場が被影響項目を閉じると、その被影響項目の
グローバルな状態もＣＬＯＳＥＤに変わる。
【００２７】製造工場における被影響項目の可能な状態
の進展は、ＡＣＣＥＰＴ，ＥＦＦＥＣＴＩＶＥおよびＣ
ＬＯＳＥＤである。ある工場における被影響項目の状態
はその場所特有のものであるので、被影響項目は場所被
影響項目と称する。その項目を使用している製造工場が
それを局所的に受け入れると、場所被影響項目（ＬＡ
Ｉ）の状態がＡＣＣＥＰＴとして開始される。この状態
は、場所被影響項目がその工場において有効となる（即
ち生産に移される）とＥＦＦＥＣＴＩＶＥに変わる。こ
の状態は、該工場が場所被影響項目を閉じるとＣＬＯＳ
ＥＤに変えられることによりそれ以上の変更は阻止され
る。
【００２８】ユーザインタフェース４５によりユーザに
提供されるスクリーン・ウインドウ・ディスプレイを図
３に示す。図に示すように、エンジニアリング変更の開
始者は、このウインドウを用いてエンジニアリング変更
に関する管理情報を入力し、エンジニアリング変更の状
態を初期化する。設計エンジニアは、このウインドウを
用いてエンジニアリング変更の状態をＲＥＬＥＡＳＥま
で進展させる。設計エンジニアと製造エンジニアとがそ
れぞれ被影響項目と場所被影響項目の状態を進展できる
ように、同様のウインドウがユーザインタフェース４５
により提供される。
【００２９】図４は、被影響項目の状態をＰＲＥ−ＲＥ
ＬＥＡＳＥからＲＥＬＥＡＳＥまで進展させる上でエン
ジニアリング変更制御マネージャ３５が使用する処理論
理のフローチャートを示す。処理論理は、システムユー
ザが被影響項目を選択し、それをＲＥＬＥＡＳＥ状態ま
で進展させるための動作をとると起動される。論理ブロ
ック４００において、ユーザはＲＥＬＥＡＳＥまで進展
させるように被影響項目を選択（入力）する。論理ブロ
ック４１０において、被影響項目は、目標ＡＩと称され
る局所変数に割り当てられる。入力された被影響項目
は、ＥＣ対象物ＩＤと主項目対象物ＩＤとの組合せによ
り識別される。論理ブロック４２０において、入力され
た被影響項目に対応する列は、ＥＣ対象物ＩＤ２２と主
項目対象物ＩＤ２６とに基いてＡＩテーブル１４から選
択される。論理ブロック４３０において、被影響項目３
８はＲＥＬＥＡＳＥに変えられる。この時点において
は、場所被影響項目は存在していない。論理ブロック４
４０は、変更する必要があればＥＣ／ＭＥＣ対象物テー
ブル１２におけるＥＣの状態３４を更新する。対応する
被影響項目の最後のものが次の状態にまで進展すると、
グローバルなＥＣ状態は次の状態まで進行する。本発明
の代替実施例において、グローバルＥＣ状態は、対応す
る被影響項目のいずれかが次の状態まで進展しうる前
に、次の状態まで進行する。
【００３０】図５に示すフローチャートは、製造工場に
おいてＡＣＣＥＰＴ状態まで被影響項目を進展させる処
理論理を示す。エンジニアリング変更制御マネージャ３
５における処理論理は、ユーザが被影響項目を選択し、
それをＡＣＣＥＰＴ状態まで進展させるための動作を実
行する、論理ブロック５００において、ユーザ選択の被
影響項目、状態、場所、ＥＣ対象物ＩＤおよび主項目対
象物ＩＤが局所の変数に割当てられる。場所毎をベース
にしてＲＥＬＥＡＳＥ状態を越えて進展されるので、ユ
ーザは進展を行う必要のある場所を規定する必要があ
る。ユーザ選択の被影響項目は、論理ブロック５１０に
おいてＡＩテーブル１４から取り出される。その場所が
ある項目の全ての先行のバージョン（変更）を有してい
るか否かを判断ブロック５２０がテストする。ある場所
は、それが新しい変更を受け入れうるようになる前に全
ての先行のバージョンを有している必要がある。もしそ
の場所が先行するバージョンを何ら有していないとすれ
ば、全ての先行の被影響項目は、論理ブロック５３０に
おいて新しいバージョンをコピーする前にコピーされる
必要がある。さもなければ、論理ブロック５９０におい
て新しいバージョンのみをコピーする必要がある。
【００３１】論理ブロック５３０において、その項目の
先のバージョンが、その場所に対する場所被影響項目テ
ーブル１６にコピーされる。先のバージョンは、主項目
対象物ＩＤ２６上でＡＩテーブル１４を探索することに
より見出される。これは、その上の全てのエンジニアリ
ング変更を用いて同じ主項目の全てのバージョンを検索
する。新しい開示についてはまだコピーされていないの
で、このＥＣのバージョンは選択されていない。判断ブ
ロック５４０においては、ＡＩテーブル１４に主項目の
それ以上のバージョンがあるか否かを決定するようにテ
ストが行われる。全ての先のバージョンがコピーずみで
あるとすれば、論理ブロック５９０に示すように目標バ
ージョンがＡＩテーブル１４からＬＡＩテーブル１６ま
でコピーされる。さもなければ、被影響項目の先のバー
ジョンはＡＩテーブル１４からＬＡＩテーブル１６にコ
ピーされる。場所対象物ＩＤ２８は、ＥＣ対象物ＩＤ２
２と主項目対象物ＩＤ２６との論理的なキーの組合せに
付属して、ＬＡＩテーブル１６においてこの列を独特の
要領で識別する。
【００３２】次に、論理ブロック５６０は、ＬＡＩテー
ブル１６における場所被影響項目の状態をＡＣＣＥＰＴ
状態に変える。判断ブロック５７０において、ＡＩテー
ブル１４における被影響項目３８の状態がＬＡＩテーブ
ル１６における場所被影響項目４８の状態より大きいか
否かを判断するためにテストが行われる。被影響項目の
先のバージョンが、含意的にＡＣＣＥＰＴ状態に進展し
ているので、被影響項目の目標あるいは現在のバージョ
ンの状態は、もし先のバージョンの状態がＡＣＣＥＰＴ
より大きいとすればＡＣＣＥＰＴに変える必要がある。
さもなければ、被影響項目３８の状態はＡＣＣＥＰＴあ
るいはＲＥＬＥＡＳＥである。もしそれがＲＥＬＥＡＳ
Ｅであるとすれば、少なくとも１個の場所が被影響項目
を受け入れなかったということである。いずれの場合
も、被影響項目３８の状態に対するそれ以上の調整は何
ら必要ない。次にある先行バージョンが、論理ブロック
５３０にループバックすることにより検索される。論理
ブロック５８０において、先のバージョンの被影響項目
の状態３８がＡＣＣＥＰＴより大きかったので、その状
態はＡＩテーブル１４においてＡＣＣＥＰＴに下げる必
要がある。従って、対象物の状態は被影響項目の状態３
８に割当てられ、次いで論理ブロック５３０へのループ
バックが発生し次にある先のバージョンを取得する。
【００３３】論理ブロック５９０は、全ての先のバージ
ョンがコピーされた後目標即ち現在のバージョンをＬＡ
Ｉテーブル１６にコピーする。場所被影響項目４８の状
態はＡＣＣＥＰＴに変える必要がある。被影響項目の状
態を用いている場所の最後のものが次の状態に進展させ
るとき当該被影響項目の状態は変化するので、ＬＡＩが
進展した後、被影響項目の状態を変える必要があるか否
かのチェックを行う必要がある。図６に示すフローチャ
ートまで制御が進み、目標被影響項目、その状態、ＥＣ
対象物ＩＤおよび主項目対象物ＩＤを通す（論理ブロッ
ク５９５）。
【００３４】図６に示す論理フローチャートは、被影響
項目をＡＣＣＥＰＴからＥＦＦＥＣＴＩＶＥに、そして
ＥＦＦＥＣＴＩＶＥからＣＬＯＳＥＤまで進展させるた
めに、かつ被影響項目の対象物１４のグローバルな状態
を更新するためにエンジニアリング変更制御マネージャ
３５により使用される。ユーザが被影響項目を選択し、
それをＥＦＦＥＣＴＩＶＥあるいはＣＬＯＳＥＤまで進
展させる動作を実行するか、あるいは制御が図５のブロ
ック５９５から通されるときに、処理論理は起動され
る。各々の状況において、処理論理は同じである。
【００３５】論理ブロック６１０において、ユーザが選
択した被影響項目、進展が発生している場所、被影響項
目の属するＥＣ対象物ＩＤ、およびエンジニアリング変
更により影響される主項目は、局所の目標パラメータに
割当てられる。被影響項目は、場所対象物ＩＤ２８、Ｅ
Ｃ対象物ＩＤ２２および主項目対象物ＩＤ２６により提
供される独特のキーを用いてＬＡＩテーブル１６から選
択される（論理ブロック６２０）。場所被影響項目が進
展しているので、その状態４８は論理ブロック６３０の
目標状態にまで変更される。
【００３６】場所被影響項目の状態はＬＡＩテーブル１
６において変化したので、判断ブロック６３５は、被影
響項目のグローバル状態をＡＩテーブル１４において変
更する必要があるか否かをテストする。このことは、Ａ
Ｉ状態３８が（目標の状態と同じである）ＬＡＩ状態４
８より大きいか否かを決定することにより達成される。
もしそうであれば、ＡＩ状態３８は、論理ブロック６４
０における被影響項目に対する現在のＬＡＩ状態４８に
下げられる。被影響項目の状態が変更されれば常に、エ
ンジニアリング変更制御マネージャは、ＥＣ状態そのも
のを変更する必要があるか否かを決定する。エンジニア
リング変更は複数の被影響項目を含む。このように、論
理ブロック６４５は、パラメータとして目標ＥＣ対象物
ＩＤを用いる処理をさらに行うための図７への遷移を示
す。
【００３７】もし判断ブロック６３５において、ＡＩ状
態３８が現在のＬＡＩ状態４８より小さいことが判明す
れば、この被影響項目に対するＬＡＩ状態４８が少なく
とも全ての製造工場において同じであることを決定する
ため別のテストを行う必要がある。このように、論理ブ
ロック６５０において、被影響項目を用いる全ての場所
が、目標主項目対象物ＩＤを探索することにより場所利
用テーブル２１から検索される。テストすべき次の場所
は、論理ブロック６５５における場所利用テーブル２１
から得られ、それ以上の場所のテストは判断ブロック６
６０において行われる。被影響項目を用いる全ての位置
がテストされたとすれば、それらのいずれも、目標の状
態より小さいＬＡＩ状態４８における対応の場所被影響
項目を有していなかったことになる（即ち、現在の製造
工場に対する場所被影響項目が検出される）。このよう
に、ＡＩテーブル１４における被影響項目のグローバル
な状態を変更する必要がある。このことは、論理ブロッ
ク６４０における処理により、続いて論理ブロック６４
５において図７の処理論理へ転送することにより実施さ
れる。
【００３８】論理ブロック６６５においては、被影響項
目を用いる次の場所は、場所対象物ＩＤ２８、主項目対
象物ＩＤ２６、およびＥＣ対象物ＩＤ２２を探索するこ
とによりＬＡＩテーブル１６から選択される。もしＬＡ
Ｉテーブル１６における対応する列が判断ブロック６７
０において見出されないとすれば、その他のどの場所も
被影響項目を受け入れなかったことを示す。従って、被
影響項目のグローバル状態はＲＥＬＥＡＳＥのままであ
り、ＡＩテーブル１４における被影響項目のグローバル
な状態３８に対して、あるいはＥＣ／ＭＥＣ対象物テー
ブル１２におけるＥＣ３４の状態に対して、何ら変更は
なされない。この手順は単純に論理ブロック６８５にお
いて出ていく。
【００３９】もし判断ブロック６７０において列が見出
されるとすれば、それはＬＡＩが見出されたことを意味
する。従って、判断ブロック６７５においてＬＡＩの状
態４８のテストが行われる。もしＬＡＩ状態４８が目標
の状態より小さいことが判明すれば、被影響項目のグロ
ーバルな状態３８に対して、あるいはＥＣ３４の状態に
対して、何ら変更はなされない。この手順は論理ブロッ
ク６９０から出ていく。もし判断ブロック６７５におい
て、ＬＡＩ状態４８が目標の状態と等しいか、それより
大きいとすれば、処理論理は、論理ブロック６８０から
論理ブロック６５５へループバックし、次の場所を処理
する。被影響項目のグローバルな状態３８は、もしどの
場所もＬＡＩ状態４８が目標の状態より小さくなけれ
ば、（論理ブロック６４０において）更新される必要が
ある。
【００４０】図７は、ＥＣ／ＭＥＣテーブル１２におけ
るＥＣのグローバルな状態３４を更新するためにエンジ
ニアリング変更制御マネージャ３５が使用する処理論理
を示す。この手順は、被影響項目のグローバルな状態３
８がＥＣ状態３４も変更する必要があるか否かを決定す
るために変更されたときは常に呼び出される。制御は、
図４の論理ブロック４４０あるいは図６の論理ブロック
６４５のいずれかからこの図に示す論理に切り換えられ
る。
【００４１】論理ブロック７００において、目標ＥＣ識
別子には、その被影響項目が進展のためにユーザが元来
選択された入力ＥＣのＥＣ対象物ＩＤ２２が割当てられ
る。ＥＣ対象物はＥＣテーブル１２から検索され、その
状態３４はＣＬＯＳＥＤに変更される。この処理論理は
論理ブロック７１０により指示される。ＥＣ状態は、最
初は可能最高の状態（即ち、ＣＬＯＳＥＤ）にセットさ
れ、次いでその被影響項目のいずれかの最低状態にリセ
ットされる。この目的に対して、ＡＩテーブル１４がＥ
Ｃの全ての被影響項目に対して探索される（論理ブロッ
ク７２０）。このように、ＡＩテーブル１４は、このＥ
Ｃに関連したテーブルにおける全ての被影響項目を見出
すべく目標ＥＣ対象物ＩＤを用いて探索される。次の被
影響項目は次いで論理ブロック７３０において検索され
る。判断ブロック７４０は、ＥＣに関連したそれ以上の
被影響項目があるか否かを決定するためにテストする。
もしＥＣの全ての被影響項目が使い果されたとすれば、
処理手順は論理ブロック７８０で出ていく。判断ブロッ
ク７４０において別の被影響項目が見出されたとすれ
ば、その状態は判断ブロック７５０においてチェックさ
れ、該ブロック７５０においては、被影響項目の状態３
８がＥＣの状態３４より小さいか否かを決定するために
テストが行われる。もしＡＩ状態３８がＥＣの状態３４
より大きいか、あるいは等しいとすれば、ＥＣの状態は
変更されないままで、ＥＣの次の被影響項目が論理ブロ
ック７３０へのループバックにより検査される。他方、
もしＡＩ状態３８がＥＣ状態３４より小さいとすれば、
ＥＣの状態はこの被影響項目の状態に変える必要があ
る。この処理は論理ブロック７６０において実施され
る。この時点において、論理ブロック７７０は論理ブロ
ック７３０へ戻り、ＥＣと関連した次の被影響項目を検
索し、比較処理を繰り返す。全ての被影響項目が検査さ
れると、制御は論理ブロック７８０まで進みそのためこ
の処理手順から出ていく。
【００４２】エンジニアリングおよび製造変更制御管理
機構の動作を示す例が図８の（Ａ）と（Ｂ）とに提供さ
れている。ある会社が、構成要素Ｉ２，Ｉ３およびＩ４
から組み立てるべき部品番号Ｉ１を有する新しいタービ
ンの製造を決定したとする。これらの部品は、設計さ
れ、タービンの材料表に加えられる。タービンの設計
が、２個所の製造場所（ＭＦＧ１およびＭＦＧ２）に開
示され、そこで製造エンジニアはその設計を受け入れ、
必要な変更を行い、製造工場においてその設計をＥＦＦ
ＥＣＴＩＶＥとする。
【００４３】エンジニアリング変更コーディネータＢＰ
ＡＮＵに、外部識別子ＥＣ１のラベルが付され、かつ設
計エンジニアＷＭＯＲＲに割当てられたエンジニアリン
グ変更を、参照番号１００で示すデータベースのＥＣ対
象物テーブル１２にその変更を入力することにより、初
期化する。このエンジニアリング変更は、ＥＣ対象物Ｉ
Ｄ ＥＣＯＩＤ１により識別される。ＥＣ１はＰＲＥ−
ＲＥＬＥＡＳＥの状態において創生される。設計エンジ
ニアは、項目番号Ｉ１に関するデータを入力することに
より被影響項目（ＡＩ）テーブル１４に被影響項目を追
加する。エンジニアリング変更制御マネージャ３５は、
主項目テーブル２０を探索し、タービンが新しい項目で
あることを決定する。エンジニアリング変更制御マネー
ジャ３５は、項目Ｉ１を参照番号１２０で指示する主項
目テーブル２０に追加する。次いで、エンジニアリング
変更制御マネージャ３５は新しい被影響項目１３０をＡ
Ｉテーブル１４に追加する。被影響項目の状態はＰＲＥ
−ＲＥＬＥＡＳＥである。設計シーケンス番号は、被影
響項目に提供され、この例では１０，０００から始ま
る。この番号は、この項目に対してさらにエンジニアリ
ング変更がある都度自動的に増分される。
【００４４】設計エンジニアは、次にエンジニアリング
変更制御マネージャ３５を呼び出し、タービン即ち項目
Ｉ１の組立要素である項目Ｉ２，Ｉ３およびＩ４をＡＩ
テーブル１４に追加する。エンジニアリング変更制御マ
ネージャ３５は、Ｉ２，Ｉ３およびＩ４が新しい項目で
あることを決定しそれらを参照番号１２２，１２４およ
び１２６で示すように主項目テーブル２０に追加する。
次いで、これらの項目は、各々の状態をＰＲＥ−ＲＥＬ
ＥＡＳＥとして、１３２，１３４および１３６で示すよ
うにＡＩテーブル１４に追加される。
【００４５】設計エンジニアは、要素Ｉ２，Ｉ３および
Ｉ４を含む組立体Ｉ１の材料表を作成する。エンジニア
リング変更制御マネージャは１４０，１４２および１４
４で示す材料表を材料要素表テーブル１９に追加する。
挿入されたシーケンス番号の欄は、ＡＩテーブル１４に
おける対応の被影響項目の設計シーケンス番号を用いて
特定の要素を追加したエンジニアリング変更を示す。
【００４６】このようにＣＩＭデータベース１０に入力
された情報から、要素Ｉ２を組立体Ｉ１に追加した設計
変更のイニシエータは、項目Ｉ１に対する挿入シーケン
ス番号に注目し、整合した設計シーケンス番号を有する
全ての項目に対してＡＩテーブル１４を探索することに
より決定されうる。エンジニアリング変更制御マネージ
ャ３５は全ての整合した項目を検索し、問合せを出して
いる人はエンジニアリング変更を確認するためにＥＣ番
号の欄を検査できる。次いで、その人は、ＥＣテーブル
１２まで進み、設計変更のイニシエータを識別するＥＣ
１記録を検索する。
【００４７】全ての設計変更を終った後、設計エンジニ
アは、エンジニアリング変更を開示しうる前にどの製造
場所が実行のために設計変更を受け取るべきかを決め
る。設計エンジニアは、エンジニアリング変更制御マネ
ージャ３５を利用してＩ１，Ｉ２，Ｉ３およびＩ４の項
目に対して場所の利用を追加する。各項目は個々に採択
され、その項目を使用する各場所が特定される。エンジ
ニアリング変更制御マネージャ３５は、このデータを場
所利用テーブル２１に追加する。これらの追加は、参照
番号１５０〜１５７により指示されている。
【００４８】設計エンジニアは、一旦自分の設計に満足
し、必要な承認を得た後、エンジニアリング変更制御マ
ネージャ３５を用いてエンジニアリング変更を適当な製
造場所に開示する。エンジニアリング変更制御マネージ
ャは、ＥＣ１と被影響項目Ｉ１ないしＩ４とを選択し、
各々の被影響項目とその対応の材料データ表とを確認す
る。もしその確認が満足なものであれば、エンジニアリ
ング変更制御マネージャ３５はエンジニアリング変更を
開示する。このプロセスは以下のステップを含む。
【００４９】１．ＡＩテーブル１４における被影響項目
１３０，１３２，１３４および１３６の状態がＲＥＬＥ
ＡＳＥに変えられる。 ２．エンジニアリング変更により影響を受ける項目の各
々を使用している製造場所が、場所利用テーブル２１か
ら決定される。例えば、ＡＩテーブル１４における参照
番号１３０により識別される被影響項目ＡＩＯＩＤ１
は、それに項目番号Ｉ１を関連づけており、項目Ｉ１は
参照番号１５０および１５４により識別されるように場
所利用テーブル２１における工場ＭＦＧ１およびＭＦＧ
２と関連している。このステップは（参照番号１３２，
１３４，１３６でそれぞれ指示する）被影響項目ＡＩＯ
ＩＤ２，ＡＩＯＩＤ３およびＡＩＯＩＤ４（参照番号１
３２，１３４および１３６のそれぞれ）に対して繰り返
される。 ３．各被影響項目の開示場所を知らせるために各場所に
メッセージが送られる。 ４．ＥＣＯＩＤ１としてＥＣテーブル１２において識別
されているエンジニアリング変更の状態は、この時点に
おいて対応する被影響項目のいずれかの最低の状態であ
るＲＥＬＥＡＳＥに変更される。
【００５０】ＭＦＧ１の場所において、製造エンジニア
は、エンジニアリング変更番号ＥＣ１を用いて自分の場
所に項目Ｉ１，Ｉ２，Ｉ３およびＩ４が開示されたとの
通知を受け取る。製造エンジニアは、ＥＣ１と、それが
含む全ての設計変更とを検査し、ＭＦＧ１の工場におい
て組立体Ｉ１の製造を開始するか決定する。製造エンジ
ニアが本システムと対応して、ＥＣ１が含む設計変更を
受け入れると、エンジニアリング変更制御マネージャ３
５は以下のステップを実行する。
【００５１】１．ＥＣ１を選択し、それが製造場所で受
け入れうる状態にあるかチェックする。 ２．最初の被影響項目ＡＩＯＩＤ１、即ち項目Ｉ１に関
連したものを選択する。 ３．項目対象物識別子ＩＴＭＯＩＤ１と場所対象物識別
子ＭＦＧ１とを有するエントリについて場所利用テーブ
ル２１が探索される。参照番号１５０で識別する記録を
検索する。 ４．項目Ｉ１およびエンジニアリング変更ＥＣ１に対す
る場所ＭＦＧ１において場所被影響項目１６１が創成さ
れ、対象物識別子ＬＡＩＯＩＤ１と共にＬＡＩテーブル
１６に配置される。創成されたＬＡＩの状態はＡＣＣＥ
ＰＴである。 ５．ＬＡＩＯＩＤ１の状態をＡＣＣＥＰＴに変更させ
て、図６と図７とに示す論理が実行され、次いで対応す
る被影響項目ＡＩＯＩＤ１の状態並びにエンジニアリン
グ変更ＥＣＯＩＤ１の状態を更新する必要があるか否か
を決定する。
【００５２】対象物識別子ＩＴＭＯＩＤ１を有する場所
ＭＦＧ２における場所被影響項目に対してＡＩテーブル
１６でエントリにおいて探索が実行される。場所ＭＦＧ
２がまだ項目Ｉ１を受け入れていないので、エンジニア
リング変更制御マネージャ３５は、全ての製造場所にわ
たって項目Ｉ１が介在している最低の状態がＡＣＣＥＰ
Ｔであることを決定し、従って対応する被影響項目ＡＩ
ＯＩＤ１の状態をＡＣＣＥＰＴに変える。被影響項目の
状態が変更された後、ＥＣ状態も変える必要があるか否
かを決定するためチェックが行われる。ＥＣ１における
被影響項目のいずれかに対する最低状態は、被影響項目
ＡＩＯＩＤ２，ＡＩＯＩＤ３およびＡＩＯＩＤ４に対し
てＲＥＬＥＡＳＥである。この状態は現在のＥＣ状態と
比較され、それらが同じであるのでＥＣ状態は変更され
ないままとされる。
【００５３】場所ＭＦＧ１における前述のシーケンス
は、ＥＣ１の残りの被影響項目、即ちＡＩＯＩＤ２，Ａ
ＩＯＩＤ３およびＡＩＯＩＤ４に対して繰り返される。
この結果、ＭＦＧ１の場所において場所被影響項目ＬＡ
ＩＯＩＤ２，ＬＡＩＯＩＤ３およびＬＡＩＯＩＤ４がＡ
ＣＣＥＰＴ状態にされ、対応する被影響項目ＡＩＯＩＤ
２，ＡＩＯＩＤ３およびＡＩＯＩＤ４に対してもＡＣＣ
ＥＰＴの状態に変える。被影響項目の状態への各更新に
続いて、図７の論理が実行され、ＥＣ１の状態が変更を
要するか否かを決定する。ＡＩＯＩＤ４の状態がＡＣＣ
ＥＰＴに更新された後、ＥＣ１の状態はＡＣＣＥＰＴに
変えられる。
【００５４】この段階で、ＥＣ１の受け入れ過程は、場
所ＭＦＧ１において完了ずみとなる。製造エンジニア
は、この時点で場所被影響項目ＬＡＩＯＩＤ１をＥＦＦ
ＥＣＴＩＶＥに進展させることができる。エンジニアリ
ング変更制御マネージャは、ＬＡＩＯＩＤ１をＥＦＦＥ
ＣＴＩＶＥに進展させ、ＬＡＩＯＩＤ１の状態をＬＡＩ
テーブル１６においてＥＦＦＥＣＴＩＶＥに変更する。
次いで、その他の全ての場所をチェックして場所被影響
項目の最低状態を決定する。その他のどの場所もまだ受
け入れていないので、最低の状態はＥＦＦＥＣＴＩＶＥ
である。従って、対応する被影響項目ＡＩＯＩＤ１の状
態はＥＦＦＥＣＴＩＶＥに変更される。ＥＦＦＥＣＴＩ
ＶＥよりも下位の状態にあるその他の場所被影響項目が
場所ＭＦＧ１にあるので、図７の論理を実行した結果Ｅ
Ｃ１の状態は変えられない。
【００５５】ＬＡＩＯＩＤ１の設計は、それ以上の変更
を要さないことを決定した後、製造エンジニアは、ＬＡ
ＩＯＩＤ１をＣＬＯＳＥＤ状態に進展させることを決め
る。エンジニアリング変更制御マネージャ３５は、ＬＡ
ＩＯＩＤ１の状態をＣＬＯＳＥＤに変え、再びグローバ
ルな更新論理を経由してＡＩＯＩＤ１の状態をＣＬＯＳ
ＥＤに変える。しかしながら、ＡＩＯＩＤ２，ＡＩＯＩ
Ｄ３およびＡＩＯＩＤ４は依然としてＡＣＣＥＰＴ状態
にあるので、ＥＣ１の状態はＡＣＣＥＰＴの状態に留っ
ている。
【００５６】次に、場所ＭＦＧ２における製造エンジニ
アが、被影響項目ＡＩＯＩＤ１のみを受け入れ、ＥＣ１
のその他の被影響項目を受け入れなかったものと想定す
る。エンジニアリング変更制御マネージャ３５は、場所
ＭＦＧ２が項目Ｉ１（即ち被影響項目ＡＩＯＩＤ１）を
利用していることを確認する。次いで、被影響項目ＡＩ
ＯＩＤ１に対して場所ＭＦＧ２において場所被影響項目
ＬＡＩＯＩＤ１（参照番号１６２）が創成され、ＬＡＩ
ＯＩＤ１の状態はＡＣＣＥＰＴにセットされる。
【００５７】場所被影響項目の状態が変更されたので、
図６の論理が実行され、グローバルな状態ＡＩＯＩＤ１
を変更する必要があるか否かを決定する。場所ＭＦＧ１
におけるＬＡＩＯＩＤ１の状態はＣＬＯＳＥＤであり、
場所ＭＦＧ２におけるＬＡＩＯＩＤ１の状態はＡＣＣＥ
ＰＴであることが判明する。ＡＣＣＥＰＴはより下位の
状態であるので、対応する被影響項目ＡＩＯＩＤ１の状
態はＣＬＯＳＥＤからＡＣＣＥＰＴに変えられる。
【００５８】ＥＣ１の全ての被影響項目が受け入れら
れ、場所ＭＦＧ１とＭＦＧ２とにおいて有効とされるま
で前述のように処理過程は継続する。最後の場所被影響
項目がＥＦＦＥＣＴＩＶＥに進展すると、最終の被影響
項目（例えば、ＡＩＯＩＤ４）のグローバルな状態は、
図６の論理を最後に１回実行することによりＥＦＦＥＣ
ＴＩＶＥに変えられる。ＥＣ１の全ての被影響項目がＥ
ＦＦＥＣＴＩＶＥの状態を有すると、ＥＣ１の状態もＥ
ＦＦＥＣＴＩＶＥに進展する。次いで、エンジニアリン
グ変更をＣＬＯＳＥＤの状態まで進展させるよう同じ手
順が実行される。本発明を特定実施例に関し特に図示
し、かつ説明してきたが、当該技術分野の専門家には本
発明の精神と範囲とから逸脱することなく形態や詳細に
おいて種々の変更が可能なることが理解される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のエンジニアリング変更制御マネージャ
・システムの実施例を示すブロック線図。
【図２】エンジニアリング変更制御マネージャにより作
成されるＥＣ／ＭＥＣ対象物テーブル、被影響項目テー
ブルおよび場所被影響項目テーブルを示す図。
【図３】エンジニアリング変更制御マネージャと対話す
るためのユーザインタフェース・スクリーンディスプレ
イを示す図。
【図４】ＰＲＥ−ＲＥＬＥＡＳＥからＲＥＬＥＡＳＥ状
態まで被影響項目を進展させるために使用する処理論理
を示す図。
【図５】被影響項目をＡＣＣＥＰＴ状態に進展させる処
理論理を示す図。
【図６】被影響項目テーブルにおける被影響項目のグロ
ーバルな状態を更新するための処理論理を示す図。
【図７】ＥＣ／ＭＥＣテーブルにおけるエンジニアリン
グ変更のグローバルな状態を更新するための処理論理を
示す図。
【図８】（Ａ）と（Ｂ）とは、本発明の動作を示すデー
タベースのエントリを示す図。
【符号の説明】
１０：エンジニアリング変更制御マネージャ・システ
ム、６２，６４，６６，７２，７４，７６，８２，８
４，８６：ワークステーション、７０，８０：製造場
所。
【手続補正書】
【提出日】平成４年１０月３０日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
フロントページの続き (72)発明者 バダリ・エヌ・パヌガンテイ アメリカ合衆国30059、ジヨージア州 メ イブルトン、ブライアーレイー・チエイス 4904番地 (72)発明者 ジヨージ・ジエイ・サムバタロ アメリカ合衆国30067、ジヨージア州 マ リエツタ、イースト・ブラツクランド・コ ート 145番地

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 中央処理設備を用いて、製造される生産
    品に対するエンジニアリング変更の管理を制御する方法
    において、 エンジニアリング変更により影響を受ける、生産品にお
    ける各項目を識別し、 エンジニアリング変更と、エンジニアリング変更により
    影響を受ける各項目に対する改訂設計とを製造場所に開
    示し、 該製造場所において開示されたエンジニアリング変更を
    調べ、必要に応じて前記製造場所における生産上の制約
    に基いて被影響項目に対する改訂設計を修正し、 エンジニアリング変更と、エンジニアリング変更により
    影響を受ける各項目の状態とを前記中央処理設備におい
    て追跡することを備えるエンジニアリング変更の管理を
    制御する方法。
  2. 【請求項２】 前記エンジニアリング変更と、エンジニ
    アリング変更により影響を受ける各項目の状態とを追跡
    するステップは、エンジニアリング変更制御アプリケー
    ションがエンジニアリング変更テーブル、被影響項目テ
    ーブル、および場所被影響項目テーブルにおける対応す
    る状態のエントリをその状態の各変更を反映するように
    自動更新させることを含む請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】 前記エンジニアリング変更テーブル、前
    記被影響項目テーブル、および前記場所被影響項目テー
    ブルが、中央のデータベースシステムに記憶され、かつ
    コンピュータ統合製造データ・レポジトリの一部を構成
    している請求項２に記載の方法。
  4. 【請求項４】 エンジニアリング変更が設計場所で処理
    され、製造変更が製造場所で処理されている企業におい
    てエンジニアリングおよび製造変更を制御しかつモニタ
    する方法において、 前記エンジニアリング変更により修正される複数の項目
    が被影響項目として識別されるエンジニアリング変更を
    発生させ、前記エンジニアリング変更と前記複数の被影
    響項目の各々とを予備開示の状態に置き、 前記被影響項目の全てに対する設計変更が完了すると前
    記エンジニアリング変更および各被影響項目を開示状態
    まで進展させ、 製造場所において各々の被影響項目を受け入れ、受け入
    れの状態で、各々の被影響項目についての製造場所の見
    解を表わす対応の場所被影響項目を創成し、 製造に関連のデータが前記場所被影響項目に付与された
    後、各々の場所被影響項目を有効状態に進展させ、 前記エンジニアリング変更が開示された各製造場所で該
    エンジニアリング変更が完全に実行されるまで、エンジ
    ニアリング変更と、各々の対応する被影響項目と、各々
    の対応する場所被影響項目との状態をモニタすることを
    備えるエンジニアリングおよび製造変更を制御しかつモ
    ニタする方法。
  5. 【請求項５】 少なくともエンジニアリング変更テーブ
    ルと、被影響項目テーブルと、場所被影響項目テーブル
    とを有する中央データベースの貯留を実行し、前記エン
    ジニアリング変更テーブルと、前記被影響項目テーブル
    と、前記場所被影響項目テーブルとにおけるエントリの
    状態の変化を自動的に記録するステップを含む請求項４
    に記載の方法。
  6. 【請求項６】 製造場所においてエンジニアリングの変
    更と、対応する複数の被影響項目の設計とを検討し、局
    所的な製造上の制約に基き被影響項目に対してさらに変
    更が必要とされれば製造変更を創成するステップを含む
    請求項４に記載の方法。
  7. 【請求項７】 前記のエンジニアリング変更と、各被影
    響項目とを開示状態まで進展させるステップが、 エンジニアリング変更に関連したデータベースにおける
    各々の被影響項目の状態を開示状態に変え、 データベースを探索し、エンジニアリング変更と関連し
    た各々の被影響項目を使用する各々の製造場所を識別
    し、 識別された各製造場所へメッセージを送り、各々の識別
    された場所に対してエンジニアリング変更と関連した被
    影響項目の開示を知らせ、 データベースにおけるエンジニアリング変更の状態を開
    示に変えることを含む請求項４に記載の方法。
  8. 【請求項８】 前記製造場所において各々の被影響項目
    を受け入れるステップが、 エンジニアリング変更の状態をチェックし、製造場所に
    おいてエンジニアリング変更が受け入れられうることを
    確認し、 エンジニアリング変更と関連の各々の被影響項目に対し
    てデータベースを探索し、被影響項目が製造場所で使用
    されているか否かを決定し、 各々の被影響項目の状態並びに関連のエンジニアリング
    変更の状態を更新する必要があるか否かを決定すること
    を含む請求項４に記載の方法。
  9. 【請求項９】 前記の各々の場所被影響項目を有効状態
    に進展させるステップが、 エンジニアリング変更と関連したデータベースにおける
    各々の場所被影響項目の状態をその場所で有効状態に変
    え、 対応する被影響項目の状態あるいは関連のエンジニアリ
    ング変更の状態が更新される必要があるか否かを決定す
    ることを含む請求項４に記載の方法。
  10. 【請求項１０】 エンジニアリング変更および関連の被
    影響項目に対する状態変化の進展が、最下位から最上位
    の状態、即ちＰＲＥ−ＲＥＬＥＡＳＥ，ＲＥＬＥＡＳ
    Ｅ，ＡＣＣＥＰＴ，ＥＦＦＥＣＴＩＶＥおよびＣＬＯＳ
    ＥＤと上昇シーケンスにてなされる請求項４に記載の方
    法。
  11. 【請求項１１】 エンジニアリング変更に関連する各々
    の場所被影響項目に対する状態の変化の進展が、最下位
    から最上位の状態、即ちＡＣＣＥＰＴ，ＥＦＦＥＣＴＩ
    ＶＥ，ＣＬＯＳＥＤと上昇シーケンスにてなされる請求
    項４に記載の方法。
  12. 【請求項１２】 前記の各々の被影響項目の状態を更新
    する必要があるか否かを決定するステップが、各々の識
    別された場所において各々の対応する場所被影響項目の
    状態をチェックし、各々の被影響項目の状態を、前記チ
    ェックの間に判明する各々の対応する場所被影響項目の
    最下位の状態にセットすることを含む請求項８に記載の
    方法。
  13. 【請求項１３】 前記のエンジニアリング変更の状態を
    更新する必要があるか否かを決定するステップが、関連
    の被影響項目のいずれかへの更新に続くエンジニアリン
    グ変更と関連の各被影響項目の状態をチェックし、エン
    ジニアリング変更の状態を前記チェックの間に判明する
    最下位の状態にセットすることを含む請求項８に記載の
    方法。
  14. 【請求項１４】 ある企業により製造される生産品に対
    するエンジニアリング変更の管理を自動的に制御し、中
    央処理設備における少なくとも１つのデータプロセッサ
    と、少なくとも１つの直接アクセス記憶装置と、前記デ
    ータプロセッサに電気的に接続されている複数のワーク
    ステーションとを有するシステムにおいて、 エンジニアリング変更と、該エンジニアリング変更によ
    り影響された関連の項目との状態を自動的に追跡する、
    前記データプロセッサで動作する論理手段と、 エンジニアリング変更の状態と、該エンジニアリング変
    更によって影響される関連項目との状態の変更を開始す
    るインタフェース手段であって、前記複数のワークステ
    ーションの各々と協働するインタフェース手段とを備え
    るエンジニアリング変更の管理を自動的に制御するシス
    テム。
  15. 【請求項１５】 前記直接アクセス記憶装置に記憶され
    たデータ・レポジトリに含まれ、前記企業における全て
    のエンジニアリング変更の状態を自動的に追跡するため
    に使用されるエンジニアリング変更対象物テーブルを含
    む請求項１４に記載のシステム。
  16. 【請求項１６】 前記直接アクセス記憶装置に記憶され
    たデータ・レポジトリに含まれ、前記企業における各エ
    ンジニアリング変更に関連の全ての被影響項目の状態を
    自動的に追跡するために使用される被影響項目テーブル
    を含む請求項１４に記載のシステム。
  17. 【請求項１７】 前記直接アクセス記憶装置に記憶され
    たデータ・レポジトリに含まれ、前記企業での各エンジ
    ニアリング変更に関連の全ての場所被影響項目の状態を
    自動的に追跡するために使用される場所被影響項目テー
    ブルを含む請求項１４に記載のシステム。
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