JPH0496964A - 封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
封止用エポキシ樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH0496964A JPH0496964A JP21273090A JP21273090A JPH0496964A JP H0496964 A JPH0496964 A JP H0496964A JP 21273090 A JP21273090 A JP 21273090A JP 21273090 A JP21273090 A JP 21273090A JP H0496964 A JPH0496964 A JP H0496964A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- resin composition
- silica
- particle diameter
- thermal conductivity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 32
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 25
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 13
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 claims description 14
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 6
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 abstract description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000012778 molding material Substances 0.000 abstract description 4
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 abstract 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 abstract 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 2
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
に高熱伝導性に優れた半導体用成形材料樹脂組成物に関
するものである。
デバイスの高耐久性、高信顛性を図るために、熱抵抗の
小さなパッケージが求められている。マイカレス仕様の
TO220やTO3のフルモールドタイプのパッケージ
においては、リードフレムの放熱部を覆う封止樹脂成形
品の肉厚は、熱放散性を良くして熱抵抗を小さくするた
めにますます薄肉化の傾向にあるが、成形品の肉厚の薄
肉化はパッケージの耐ヒートサイクル性を低下させる問
題を有していた。他方、自動車用レギュレータ、音響・
映像機器の出力回路、電源回路など高電圧、高電力、高
周波用のデバイスのハイブリッドIC化により、ますま
すデバイスは高密度に実装されてきている。デバイスが
実装されるセラミ・2り基板と封止樹脂成形品でなるデ
バイスのパンケシの熱による寸法変化の違いから、セラ
ミック基板が割れたり、実装されたデバイスがはずれる
などの問題を有していた。 かがる、問題の解決方法と
して、これまでは、高熱伝導性でヒートサイクル性の良
好なエポキシ樹脂組成物を得るためには、無機充填材と
し結晶シリカを、しかも充填量多く用い、可撓剤として
ブタジェン系ラバーやオルガノポリシロキサンを用いた
ものが一般的であった。しかし、結晶シリカは熱膨張率
が太き(しかも、高熱伝導率を得ようとすると充填量を
多く用いるために、可撓剤の効果が減じられ、結局高熱
伝導率を維持してエポキシ樹脂組成物を低応力化し、十
分なと一トサイクル性を得ることは困難であった。
たエポキシ樹脂組成物を提供することにある。
、その特徴は、無機充填材として平均粒径が10〜40
μmの結晶シリカと平均粒径が10μm以下の熔融シリ
カを含むエポキシ樹脂組成物にある。
合量が3重量%、溶融シリカの配合量が5重量%とじた
場合に 70 <a 十 b (90, 0,02<b/a <O42 この2つの弐が成立する封止用エポキシ樹脂組成である
ことと、前記溶融シリカの形状が球状のエポキシ樹脂組
成物である。
材として、結晶シリカは平均粒径が10〜40μmの範
囲のもので、溶融シリカは平均粒径10μm以下のもの
にそれぞれ限定して用いる必要がある。このように二種
類のシリカの平均粒径を上記範囲を限定することによっ
て成形品になったとき最密充填の構造をとり易く、バイ
ンダー樹脂より熱伝導率が桁違いに優れたシリカ同士の
隣接距離が短かくなり直熱伝導性が確保できるからであ
る。したがって、108mを超えた溶融シリカを用いる
と最密充填構造を形成しにくくなるので高熱伝導率が得
られなくなる。さらに、結晶シリカの平均粒径が10μ
m未満では溶融時の粘度が高くなり、成形性が悪くなり
充填不良などが発生し易くなるからであり、平均粒径が
40μmを超えてものでは、成形材料が金型のゲートに
詰まる問題を発生するからである。
、溶融シリカの配合量を5重量%とじ、a+bが70%
未満の場合には熱伝導率が桁違いに良いシリカの配合量
が少ないために熱伝導率が小さくパワーデバイス用途に
は使用できなく、a+bが90を超えた場合はシリカの
配合量が多くなり樹脂量が少なくなるために樹脂が高粘
度となり成形性が悪くなるので好ましくないのである。
さく良好な溶融シリカの割合が小さいために低線膨張率
化の程度が小さくヒートサイクル性向上に効果がなく、
b / aが0.2を超えた場合は熱伝導率の良い結晶
シリカの割合が小さいために熱伝導率が小さくなり熱放
散性が悪くなるので好ましくないのである。
状のものを用いると、エポキシ樹脂組成物の溶融時の粘
度が低下し、成形性が良好となり、成形品に未充填やボ
イドの発生がなくなり、ヒートサイクル性に一層効果が
ある。
ルミナ、珪酸カルシュラム、炭酸力ルシュウム、水酸化
アルミニウム、クレー、窒化硅素などの粉末などを用い
ることができる。
適宜使用することができる。このようなエポキシ樹脂と
しては、その分子中にエポキシ基を少なくとも2個以上
有する化合物が好ましく、分子構造、分子量などに特に
制限されることなく、たとえば、フェノールノボラック
型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
、ビスフェノールA型エポキシ樹脂または、これらのハ
ロケン化エポキシ樹脂などである。
リル樹脂、イソンアネート樹脂などを用いることができ
、特に、フェノール樹脂としては、フェノールノボラッ
ク樹脂、クレゾールノボランク樹脂、レゾール樹脂など
があげられ例えば、その中でも1分子中に2個以上の水
酸基をもつフェノール樹脂であり、水酸基当量80〜1
20、軟化点60〜120°Cのものを単独、もしくは
他のものと組み合わせて用いることができる。
リアミン、ポリアミド樹脂、芳香族ジアミンなどのアミ
ン系硬化剤、酸無水物硬化剤、ルイス酸錯化合物などを
用いることができる。
系及び又は3級アミン系硬化促進剤を用いることができ
る。
、以上の他に、離型剤、着色剤、力、プリング剤などに
ついては、通常用いられているものを必要に応して配合
して用いることができる。
は、配合成分を均一に混合し、加熱熔融、冷却、粉砕の
通常のプロセスで製造することができ、この際に使用さ
れる装置も通常使用されるものをそのまま適用すること
ができる。
。
は、無機充填材は第1表の上段の配合成分欄に結晶シリ
カと溶融シリカの平均粒径と形状係数を変えて示したも
のを、その他の配合成分は下記のものをそれぞれの量で
用いた。
0°Cのオルソークレゾールノボラックエポキシ樹脂を
10重量部、フェノール樹脂としては、水酸基当量10
5、軟化点100°Cのフェノルツボラック樹脂を5重
量部、硬化促進剤としては、2メチルイミダヅール0.
1重量部、着色剤としては、カーボンブランクを5重
量部、カップリング剤としては、エポキシシランを0.
5重量部、離型剤としては、カルナバワックスを0゜4
重量部、可撓剤としては、ポリオルガノシロキサンゲル
を2重量部をそれぞれ用いた。
溶融シリカの表面をカンプリング剤のエポキシシランで
処理し、上記の配合成分をミキサーで均一に混合分散し
、ロール温度100〜120″Cのミキシングロールで
加熱、溶融、混練した。この混練物を、冷却し、粉砕し
て各エポキシ樹脂組成物を得た。
成形機で成形した各試験片を用いて、線膨張率係数、曲
げ弾性率、曲げ強度、熱伝導率の物性を測定し、その結
果を第1表の下段の評価の欄に示した。
性率、曲げ強度の測定は、JIS法で1、熱伝導率の測
定は、昭和電工型の迅速熱伝導率針QTM−02を使い
常態線法で行い、その試験片は各エポキシ樹脂組成物か
ら作ったφ100mm、厚さ30aanの円板の成形品
を用いた。
成形機に160IP成形品の40個取り金型を取付け、
14X3.2 mmの大きさのヒートサイクル性評価用
のシリコンチップを内蔵する16DIP成形品として、
金型温度180°C3成形時間60秒で成形した。この
16DIP成形品を一65°Cで30分と150 ’C
で30分を1サイクルとするヒートサイクルを200サ
イクル行った後、パンケージクラックの発生を30倍顕
微鏡で検査を行いその個数を計測した。この結果を第1
表の下段の評価欄にヒートサイクル不良率として示した
。
施例の配合のエポキシ樹脂組成物は線膨張率係数、曲げ
弾性率、曲げ強度、熱伝導率いずれにおいても比較例1
より優れていることが確認できた。特性の比較において
も、ヒートサイクル性においては、著しい向上が確認で
きた。
きなものを用いると、曲げ強度が低下し、熱伝導率の小
さくなることが確認、できた。
伝導性を存し、ヒートサイクル性に優れたエポキシ樹脂
組成物を得ることができるのである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)無機充填材として平均粒径が10〜40μmの結
晶シリカと平均粒径が10μm以下の溶融シリカを含む
ことを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 (2)前記無機充填材の結晶シリカの配合量がa重量%
、溶融シリカの配合量がb重量%として、70<a+b
<90、 0.02<b/a<0.2 の2つの式が成立することを特徴とする請求項1記載の
エポキシ樹脂組成物。 (3)前記溶融シリカの形状が球状であることを特徴と
する請求項1または、2記載のエポキシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21273090A JP2811933B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | 封止用エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21273090A JP2811933B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | 封止用エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0496964A true JPH0496964A (ja) | 1992-03-30 |
JP2811933B2 JP2811933B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=16627485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21273090A Expired - Lifetime JP2811933B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | 封止用エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2811933B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002338788A (ja) * | 2001-05-16 | 2002-11-27 | Mitsui Chemicals Inc | エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた半導体素子収納中空パッケージ |
-
1990
- 1990-08-10 JP JP21273090A patent/JP2811933B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002338788A (ja) * | 2001-05-16 | 2002-11-27 | Mitsui Chemicals Inc | エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた半導体素子収納中空パッケージ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2811933B2 (ja) | 1998-10-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5576700B2 (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物と半導体装置 | |
JPH05239321A (ja) | エポキシ樹脂組成物および半導体封止装置 | |
JPH0511125B2 (ja) | ||
JPH08245755A (ja) | エポキシ樹脂組成物および電子部品封止装置 | |
JP2576713B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH0496964A (ja) | 封止用エポキシ樹脂組成物 | |
JP3876944B2 (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP3989349B2 (ja) | 電子部品封止装置 | |
JPH1030049A (ja) | エポキシ樹脂組成物および電子部品封止装置 | |
JPH0496963A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH093169A (ja) | 封止用樹脂組成物および電子部品封止装置 | |
JP2002194064A (ja) | 半導体封止用樹脂組成物、およびそれを用いた半導体装置 | |
JP2000248158A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物の製造方法 | |
JP2004018786A (ja) | 封止用樹脂組成物および電子部品封止装置 | |
JPH0841292A (ja) | エポキシ樹脂組成物の製造法及び半導体封止用エポキシ樹脂組成物 | |
JPH08134330A (ja) | Tab封止用エポキシ樹脂組成物及びtab装置 | |
JP3976390B2 (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物の製法およびそれによって得られた半導体封止用エポキシ樹脂組成物ならびに半導体装置 | |
JP2009298961A (ja) | 封止用エポキシ樹脂組成物およびその製造方法 | |
JPH0977850A (ja) | エポキシ樹脂組成物および樹脂封止型半導体装置 | |
JPH06239976A (ja) | エポキシ樹脂組成物および半導体封止装置 | |
JP3056634B2 (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 | |
JPH02245055A (ja) | 封止用樹脂組成物 | |
JP2658749B2 (ja) | 半導体封止用樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP2001310930A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH0496960A (ja) | エポキシ樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070807 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080807 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090807 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090807 Year of fee payment: 11 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090807 Year of fee payment: 11 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090807 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100807 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110807 Year of fee payment: 13 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110807 Year of fee payment: 13 |