JPH093169A - 封止用樹脂組成物および電子部品封止装置 - Google Patents

封止用樹脂組成物および電子部品封止装置

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JPH093169A
JPH093169A JP17671695A JP17671695A JPH093169A JP H093169 A JPH093169 A JP H093169A JP 17671695 A JP17671695 A JP 17671695A JP 17671695 A JP17671695 A JP 17671695A JP H093169 A JPH093169 A JP H093169A
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JP
Japan
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resin composition
resin
alumina powder
sealing
spherical alumina
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JP17671695A
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Inventor
Masahiko Ito
昌彦 伊藤
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Kyocera Chemical Corp
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Toshiba Chemical Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 本発明は、(A)エポキシ樹脂、(B)フェ
ノール樹脂、(C)球状アルミナ粉末、(D)硬化促進
剤および(E)チタンホワイトを必須成分とし、全体の
樹脂組成物に対して前記(C)の球状アルミナ粉末を25
〜90重量%、(E)のチタンホワイトを 1〜50重量%の
割合で含有してなる封止用樹脂組成物であり、また、こ
の封止用樹脂組成物の硬化物によって、電子部品が封止
されてなる電子部品封止装置である。 【効果】 本発明の封止用樹脂組成物および電子部品封
止装置は、白色度が高く、熱伝導性、成形性に優れ、製
造装置の摩耗もなく、信頼性を保証できるものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、白色度が高く、熱伝導
性、成形性に優れた封止用樹脂組成物、および電子部品
封止装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ダイオード、トランジスタ、コン
デンサー、集積回路等の電子部品では、熱硬化性樹脂を
用いて封止する方法が行われてきた。この樹脂封止は、
ガラス、金属、セラミックを用いたハーメチックシール
方式に比較して経済的に有利なため、広く実用化されて
いる。封止樹脂としては、熱硬化性樹脂の中でも信頼性
および価格の点から、エポキシ樹脂が最も一般的に用い
られている。エポキシ樹脂には、酸無水物、芳香族アミ
ン、ノボラック型フェノール樹脂等の硬化剤が用いられ
るが、これらの中でもノボラック型フェノール樹脂を硬
化剤としたエポキシ樹脂は、他の硬化剤を使用したもの
に比べて、成形性、耐湿性に優れ、毒性がなく、かつ安
価であるため、封止用樹脂として広く使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体部品等の
高密度化、大電力化に伴い熱放散性のよい、低応力の封
止用樹脂が要望されてきた。こうしたことから、熱伝導
率の高い充填剤として、結晶性シリカやアルミナ等が使
用されているが、これらの無機充填剤は硬度が高く樹脂
組成物製造の際に、混合機、混練機、粉砕機等を摩耗
し、チタンホワイト等の白色着色剤を添加しても満足な
白色度の樹脂組成物が得られなかった。
【0004】本発明は、上記の欠点を解消するためにな
されたもので、白色度が高く、熱伝導性、成形性に優れ
製造装置の摩耗を抑制することができる封止用樹脂組成
物および電子部品封止装置を提供しようとするものであ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、充填剤として球
状アルミナ粉末を用いることによって、製造装置の摩耗
を抑制することができ、上記の目的が達成されることを
見いだし、本発明を完成したものである。
【0006】即ち、本発明は、(A)エポキシ樹脂、
(B)フェノール樹脂、(C)球状アルミナ粉末、
(D)硬化促進剤および(E)チタンホワイトを必須成
分とし、全体の樹脂組成物に対して前記(C)の球状ア
ルミナ粉末を25〜90重量%、また前記(E)のチタンホ
ワイトを 1〜50重量%の割合で含有してなることを特徴
とする封止用樹脂組成物である。また、この封止用樹脂
組成物の硬化物によって、電子部品が封止されてなるこ
とを特徴とする電子部品封止装置である。
【0007】以下、本発明を詳細に説明する。
【0008】本発明に用いる(A)エポキシ樹脂として
は、その分子中にエポキシ基を少なくとも 2個有する化
合物であるかぎり、分子量、構造式等に特に制限される
ことはなく、一般封止材用として用いられているものが
広く使用することができる。例えばビスフェノール型の
芳香族系、シクロヘキサン誘導体等の脂環族系、さらに
次の一般式化1で示されるエポキシノボラック系等のエ
ポキシ樹脂が挙げられる。
【0009】
【化1】 (但し、式中R1 は水素原子、ハロゲン原子又はアルキ
ル基を、R2 は水素原子又はアルキル基を、n は 1以上
の整数をそれぞれ表す) これらのエポキシ樹脂は単独又は 2種以上混合して使用
することができる。
【0010】本発明に用いる(B)フェノール樹脂とし
ては、フェノール、アルキルフェノール等のフェノール
類とホルムアルデヒド或いはパラホルムアルデヒドを反
応させて得られるノボラック型フェノール樹脂、および
これらの変性樹脂例えば、エポキシ化もしくはブチル化
ノボラック型フェノール樹脂等が挙げられ、これらは単
独又は 2種以上混合して使用することができる。フェノ
ール樹脂の配合割合は、前述した(A)エポキシ樹脂の
エポキシ基(a )と(B)フェノール樹脂のフェノール
性水酸基(b )とのモル比[(a )/(b )]が 0.1〜
10の範囲内であることが望ましい。このモル比が 0.1未
満もしくは10を超えると耐湿性、成形作業性、及び硬化
物の電気特性が悪くなりいずれの場合も好ましくない。
【0011】本発明に用いる(C)球状アルミナ粉末と
しては、不純物濃度が低く、製造装置の摩耗を防止する
ため鋭利な「カド」をもたないものが使用される。球状
アルミナ粉末の平均粒径は10〜50μm のものが使用され
る。平均粒径10μm 未満又は50μm を超えると流動性お
よび作業性が劣り好ましくない。この球状アルミナ粉末
の他にも本発明の目的に反しない範囲において、摩耗性
の少ない無機質充填剤を併用することができる。球状ア
ルミナ粉末の配合割合は、全体の樹脂組成物に対して25
〜90重量%含有するように配合することが好ましい。そ
の割合が25重量%未満では熱膨張係数が大きくなると共
に、熱伝導率が小さくなり好ましくない。また、90重量
%を超えるとかさばりが大きくなり、成形性が悪く実用
に適さない。
【0012】本発明に用いる(D)硬化促進剤として
は、リン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、D
BU系硬化促進剤、その他の硬化促進剤等が広く使用す
ることができる。これらは単独又は 2種以上併用するこ
とができる。硬化促進剤の配合割合は、全体の樹脂組成
物に対して 0.01 〜5 重量%含有するように配合するこ
とが望ましい。その割合が 0.01 重量%未満では樹脂組
成物のゲルタイムが長く、硬化特性も悪くなり、また、
5 重量%を超えると極端に流動性が悪くなって成形性に
劣り、さらに電気特性も悪くなり耐湿性に劣り好ましく
ない。
【0013】本発明に用いる(E)チタンホワイトとし
ては、不純物濃度が低い酸化チタンが用いられ、その結
晶形はアナタース形、ルチル形のいずれでもよい。チタ
ンホワイトの配合割合は、全体の樹脂組成物に対して 1
〜50重量%の割合で含有することが望ましい。その割合
が 1重量%未満では十分な白色度が得られず、また、50
重量%を超えると成形性が低下し好ましくない。
【0014】本発明のエポキシ樹脂組成物は、前述した
エポキシ樹脂、フェノール樹脂、球状アルミナ粉末、硬
化促進剤およびチタンホワイトを必須成分とするが、本
発明の目的に反しない限度において、また必要に応じて
例えば、天然ワックス類、合成ワックス類、直鎖脂肪酸
の金属塩、酸アミド、エステル類、パラフィン等の離型
剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、シランカップリング
剤、ゴム系やシリコーン系の低応力付与剤等を適宜添加
配合することができる。
【0015】本発明の封止用樹脂組成物を成形材料とし
て調製する場合の一般的方法は、前述したエポキシ樹
脂、フェノール樹脂、球状アルミナ粉末、硬化促進剤お
よびチタンホワイトその他の成分を配合し、ミキサー等
によって十分均一に混合した後、さらに熱ロールによる
溶融混合処理またはニーダ等による混合処理を行い、次
いで冷却固化させ適当な大きさに粉砕して成形材料とす
ることができる。こうして得られた成形材料は、半導体
装置をはじめとする電子部品、被覆、絶縁等に適用すれ
ば優れた特性と信頼性を付与させることができる。ま
た、電気部品の封止、被覆、絶縁等に適用することもで
きる。
【0016】また、本発明の電子部品封止装置は、上述
の成形材料を用いて電子部品を封止することにより容易
に製造することができる。封止を行う電子部品としては
例えば、集積回路、大規模集積回路、トランジスタ、サ
イリスタ、ダイオード、コンデンサー等で特に限定され
るものではない。封止の最も一般的な方法としては、低
圧トランスファー成形法があるが、射出成形、圧縮成
形、注形等による封止も可能である。成形材料で封止後
加熱して硬化させ、最終的にはこの硬化物によって封止
された電子部品封止装置が得られる。加熱による硬化
は、150 ℃以上に加熱して硬化させることが望ましい。
【0017】
【作用】本発明は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、球
状アルミナ粉末、硬化促進剤、チタンホワイトを用いる
ことによって、白色度が高く、熱伝導性および成形性が
向上し、また球状アルミナ粉末を用いることによって、
製造装置の摩耗を抑制した封止用樹脂組成物および電子
部品封止装置を製造することができた。
【0018】
【実施例】次に本発明を実施例によって説明するが、本
発明はこれらの実施例よって限定されるものではない。
以下の実施例および比較例において「%」とは「重量
%」を意味する。
【0019】実施例1 o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂7.0 %、テトラ
ブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂 1.5%、フェノ
ールノボラック樹脂 3.5%、球状アルミナ粉末(平均粒
径 20 μm )35%、微細球状アルミナ粉末(平均粒径0.
5 μm )10%、溶融シリカ粉末(平均粒径20μm )25
%、チタンホワイト15%、硬化促進剤 0.5%、カルナバ
ワックス類 0.3%、三酸化アンチモン 1.8%およびシラ
ンカップリング剤 0.4%を常温で混合し、さらに70〜10
0 ℃で混練冷却した後、粉砕して成形材料(A)製造し
た。
【0020】実施例2 o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂7.0 %、テトラ
ブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂 1.5%、フェノ
ールノボラック樹脂 3.5%、球状アルミナ粉末(平均粒
径20μm )25%、微細球状アルミナ粉末(平均粒径 0.5
μm )20%、溶融シリカ粉末(平均粒径20μm )25%、
チタンホワイト15%、硬化促進剤 0.5%、カルナバワッ
クス類 0.3%、三酸化アンチモン 1.8%およびシランカ
ップリング剤 0.4%を常温で混合し、さらに70〜100 ℃
で混練冷却した後、粉砕して成形材料(B)を製造し
た。
【0021】比較例1 o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 7%、テトラブ
ムモビスフェノールA型エポキシ樹脂 1.5%、フェノー
ルノボラック樹脂 3.5%、微細球状アルミナ粉末(平均
粒径 0.5μm )10%、溶融シリカ粉末(平均粒径20μm
)25%、結晶シリカ粉末(平均粒径20μm 鋭利な破砕
形)35%、チタンホワイト15%、硬化促進剤 0.5%、カ
ルナバワックス類 0.3%、三酸化アンチモン 1.8%およ
びシランカップリング剤 0.4%を常温で混合し、さらに
70〜100 ℃で混練冷却した後、粉砕して成形材料(C)
を製造した。
【0022】比較例2 o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 7%、テトラブ
ロモビスフェノールA型エポキシ樹脂 1.5%、フェノー
ルノボラック樹脂 3.5%、微細球状アルミナ粉末(平均
粒径 0.5μm )10%、溶融シリカ粉末(平均粒径20μm
)25%、アルミナ粉末(平均粒径20μm 破砕形)35
%、チタンホワイト15%、硬化促進剤 0.5%、カルナバ
ワックス類 0.3%、三酸化アンチモン 1.8%およびシラ
ンカッフリング剤 0.4%を常温で混合し、さらに70〜10
0 ℃で混練冷却した後、粉砕して成形材料(D)を製造
した。
【0023】比較例3 o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂7.0 %、テトラ
ブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂 1.5%、フェノ
ールノボラック樹脂 3.5%、微細球状アルミナ粉末(平
均粒径 0.5μm )70%、チタンホワイト15%、硬化促進
剤 0.5%、カルナバワックス類 0.3%、三酸化アンチモ
ン 1.8%およびシランカップリング剤 0.4%を常温で混
合し、さらに70〜100 ℃で混練冷却した後、粉砕して成
形材料(E)を製造した。
【0024】こうして製造した成形材料(A)〜(E)
を用いて175 ℃に加熱した金型内にトランスファー注
入、フォトカプラーを封止し硬化させて電子部品封止装
置を製造した。これらの成形材料および電子部品封止装
置について、諸試験を行ったのでその結果を表1に示し
たが、本発明の封止用樹脂組成物および電子部品封止装
置は、いずれも優れた特性を示し、本発明の顕著な効果
を確認することができた。
【0025】
【表1】 *1 :ポット温度175 ℃,移送圧力80kg/cm2 ,成形時
間サイクル2 分間のトランスフアー成形により得られた
試験片を分光光度計によって測定、標準球(硫酸バリウ
ム)=100 とし、(サンプル/標準球)×100 で反射率
を算出した。○…80%以上、 △…65〜80%未満、 ×
…65%未満。 *2 :φ 100,25mm 厚の成形品をつくり、熱伝導率計を
用いて測定した。○…1.5 (W/m ・K)以上、 △…
1.0〜 1.5(W/m ・K)、 ×… 1.0(W/m・K)
未満。 *3 :成形材料をDIP16pin 成形金型によりポット温
度170 ℃,成形時間2 分間のトランスファー成形をし、
充填性を評価した。○…優秀、△…良好、×…不良。 *4 :成形材料を用いて、 2本のアルミニウム配線を有
する半導体チップを、ポット温度170 ℃,成形時間3 分
間のトランスファー成形をした後、さらに8 時間エイジ
ングさせた。この半導体封止装置 100個について、120
℃の高温水蒸気中で耐湿性試験を行い、アルミニウム腐
蝕による50%断線(不良発生)の起こる時間を評価し
た。○…200 h 以上、 ×…200 h 未満。
【0026】
【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明の封止用樹脂組成物および電子部品封止装置
は、白色度が高く、熱伝導性、成形性に優れ、製造装置
の摩耗なく、長期間にわたって信頼性を保証することが
できるものである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)エポキシ樹脂、(B)フェノール
    樹脂、(C)球状アルミナ粉末、(D)硬化促進剤およ
    び(E)チタンホワイトを必須成分とし、全体の樹脂組
    成物に対して前記(C)の球状アルミナ粉末を25〜90重
    量%、また前記(E)のチタンホワイトを 1〜50重量%
    の割合で含有してなることを特徴とする封止用樹脂組成
    物。
  2. 【請求項2】 (A)エポキシ樹脂、(B)フェノール
    樹脂、(C)球状アルミナ粉末、(D)硬化促進剤およ
    び(E)チタンホワイトを必須成分とし、全体の樹脂組
    成物に対して前記(C)の球状アルミナ粉末を25〜90重
    量%、また前記(E)のチタンホワイトを 1〜50重量%
    の割合で含有した封止用樹脂組成物の硬化物によって、
    電子部品が封止されてなることを特徴とする電子部品封
    止装置。
JP17671695A 1995-06-20 1995-06-20 封止用樹脂組成物および電子部品封止装置 Pending JPH093169A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011241279A (ja) * 2010-05-17 2011-12-01 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd エポキシ樹脂組成物並びにプリプレグ、積層板及び配線板
JP2014159600A (ja) * 2005-10-07 2014-09-04 Hitachi Chemical Co Ltd 熱硬化性光反射用樹脂組成物、ならびにこれを用いた光半導体搭載用基板とその製造方法および光半導体装置。
CN105058222A (zh) * 2015-08-31 2015-11-18 新乡日升数控轴承装备股份有限公司 卧式钢球研球机上的加压机构

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