JPH0495389A - El発光素子 - Google Patents

El発光素子

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Publication number
JPH0495389A
JPH0495389A JP2203714A JP20371490A JPH0495389A JP H0495389 A JPH0495389 A JP H0495389A JP 2203714 A JP2203714 A JP 2203714A JP 20371490 A JP20371490 A JP 20371490A JP H0495389 A JPH0495389 A JP H0495389A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lower electrode
light emitting
insulating layer
layer
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2203714A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinya Kyozuka
信也 経塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP2203714A priority Critical patent/JPH0495389A/ja
Publication of JPH0495389A publication Critical patent/JPH0495389A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、大型のマトリックス型EL(エレクトロルミ
ネッセンス)パネルに用いられるEL発光素子に関し、
特に輝度むらを防止して画質の向上を図ることができる
EL発光素子の構造に関するものである。
(従来の技術) 薄膜EL発光素子を用いた大型のマトリックス型ELパ
ネルには、第3図にその模式図を示すように、基板上に
形成された複数の帯状下部電極(SCAN側)と、これ
ら下部電極と直交する複数の帯状上部電極(DATA側
)とを具備し、下部電極と上部電極との交差部分が発光
層を挟むことによりEL発光素子CELを構成する単純
マトリックス型と呼ばれるものがある。このEL発光素
子は、下部電極と上部電極との間に200V程度の駆動
電圧を印加させることによって、画電極に挟まれた発光
層を発光させるものである。
マトリックス型ELパネルの断面構造について第4図を
参照して説明する。すなわち、EL発光素子は、ガラス
基板1と、ガラス基板1上に形成された帯状(図の表裏
方向)の下部電極2と、該下部電極2を覆うように着膜
された第1絶縁層3及び発光層4及び第2絶縁層5と、
前記下部電極2と直交するよう形成された帯状(図の左
右方向)の上部電極6とから構成されている。前記下部
電極2は透明導電膜(ITO)で、上部電極6はアルミ
ニウム(AI)でそれぞれ構成され、ガラス基板1側に
発光光が照射するようになっている。
上記構成において、下部電極2は200OA程度の膜厚
の透明導電膜(ITO)で形成されているため、シート
抵抗が大きい。特に14インチ以上の大型のマトリック
ス型ELパネルとする場合、下部電極2の時定数が大き
くなり、下部電極2に沿って各画素(各EL発光素子)
に印加される電圧が異なってしまう。すなわち、駆動電
圧Vaが印加される位置Aからの距離により、A点、B
点。
0点の印加電圧波形はそれぞれ第5図(a)(b)(c
)のようになる。従って、下部電極2の端部の0点にお
いては、第5図(C)のように、駆動電圧Vaに達する
までに立ち下がり始めるために印加される電圧値が小さ
くなり、ELパネルの輝度むらを生じさせるという欠点
があった。
そこで、ELパネルの輝度むらを防止するためには、下
部電極2の抵抗値を小さくする必要があり、従来は、下
部電極2の膜厚を厚くするということがなされていた。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら下部電極2の膜厚を5000Aの厚さにす
ると、第6図に示すように、第1絶縁層3部分て急峻な
段差20か生じ、下部電極2と発光層4との間で短絡が
発生しやすくなり、歩留まりや信頼性を低下させるとい
う問題点があったdまた、第1絶縁層3部分で急峻な段
差が生じないように、下部電極2の膜厚を厚くするとと
もに、第1絶縁層3の膜厚も厚くすることが考えられる
しかしながら、第1絶縁層3の膜厚を厚くすると、第7
図に示すように、同一の発光輝度を得るためにはEL発
光素子に印加する駆動電圧Vaを駆動電圧Va’ にシ
フトさせなければならず、高い電圧の印加が必要となり
従来の駆動ICでの駆動ができなくなるとともに、エネ
ルギー効率が悪くなるという新たな問題が生じる。
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、駆動電圧の
高電圧化あるいは歩留まり及び信頼性を低下させること
なく、輝度むらを防止して良好な画質の大型のマトリッ
クス型ELパネルを得ることがてきるEL発光素子の構
造を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段) 上記従来例の問題点を解消するため本発明は、基板上に
形成された帯状の下部電極と、該下部電極を覆うように
着膜された第1絶縁層及び発光層及び第2絶縁層と、前
記下部電極と直交するよう形成された帯状の上部電極と
を具備す名EL発光素子において、前記基板と第1絶縁
層との間に、耐熱性絶縁部材から成り、膜厚が前記下部
電極と時間−の平坦化層を介在させたことを特徴として
いる。
(作用) 本発明によれば、基板と第1絶縁層との間に、膜厚が前
記下部電極と時間−の平坦化層を介在させたので、下部
電極上に形成する各層を平坦化させることができる。従
って、下部電極の膜厚を厚くすることができる。
(実施例) 本発明の一実施例について第1図を参照しながら説明す
る。
第1図(e)は本発明の実施例に係るEL発光素子の断
面説明図である。
ガラス基板1上に帯状(図の表裏方向)の酸化インジウ
ム・スズ(ITO)等の透明導電性部材から成る下部電
極2を形成し、下部電極2が形成されないガラス基板1
上に、膜厚が前記下部電極2と時間−の平坦化層7を形
成している。この平坦化層7は、5102 r  S’
z NJ I A1203 +Y、 O,、ポリイミド
等の耐熱性絶縁部材から構成されている。また、平坦化
層7は下部電極2の膜厚と時間−としたので、平坦化層
7及び下部電極2上には、平坦面が形成されている。そ
して、平坦面上に、第1絶縁層31発光層4.第2絶縁
層5が前記下部電極2を覆うように平坦化して着膜され
ている。更に、第2絶縁層5上に、前記下部電極2と直
交するように帯状(図の左右方向)の上部電極6が形成
されている。第1絶縁層3及び第2絶縁層5はSi3N
、て、発光層4はZnS:Mnて、上部電極6はA1で
それぞれ構成されている。
次に上述したEL発光素子の製造方法について第1図(
a)乃至第1図(e)を参照して説明する。
ガラス基板1上に透明導電性部材(ITO)をスパッタ
法で500OAの膜厚に着膜する。ポジ型レジストを着
膜し、露光、現像して膜厚1,7μmのレジストパター
ン10を形成する。塩化第2鉄、塩酸の混合溶液で前記
透明導電性部材(lTo)をエツチングし、図の表裏方
向に帯状となる下部電極2を形成する(第1図(a))
次いて、全面にSin、などの耐熱性絶縁部材7′をス
パッタ法で500OAの膜厚に着膜する(第1図(b)
)。
次にガラス基板1をレジスト剥離液に浸漬させ、レジス
トパターン10及びレジストパターン10上の耐熱性絶
縁部材7′を除去し、下部電極2か形成されないガラス
基板1上に平坦化層7を残し、平坦面を形成する(第1
図(C))。
下部電極2及び平坦化層7を覆うように、Si3N、を
スパッタ法で2500Aの膜厚に着膜して第1絶縁層3
を形成する。続いてZnS:MnをEB蒸着法で500
0Aの膜厚に、Si、N。
をスパッタ法で2500Aの膜厚にそれぞれ着膜して発
光層4及び第2絶縁層5を形成する(第1図(d))。
そして、A1をスパッタ法で6000Aの膜厚に全面着
膜し、前記下部電極2と直交するレジストパターン(図
示せず)を形成し、熱リン酸によってA1をエツチング
した後、A1上の前記レジストパターンを除去する(第
1図(e))。
EL発光素子の他の製造方法について第2図(a)乃至
第2図(e)を参照して説明する。
ガラス基板1上の全面にSin、などの耐熱性絶縁部材
7′をスパッタ法で500OAの膜厚に着膜する(第1
図(a))。
前記耐熱性絶縁部材7′上に帯状の四部12を有するレ
ジストパターン11を形成する(第1図(b))。
次に耐熱性絶縁部材7′をエツチングして平坦化層7を
形成する(第1図(C))。
次いで、全面に透明導電性部材(ITO)2’をスパッ
タ法で500OAの膜厚に着膜する(第1図(d))。
次にガラス基板1をレジスト剥離液に浸漬させ、レジス
トパターン11及びレジストパターン11上の透明導電
性部材(ITO)を除去し、図の表裏方向に帯状の下部
電極2を形成する。下部電極2及び平坦化層7はともに
500OAの膜厚としたので、これらの表面は平坦面と
なっている(第1図(e))。
以後、第1図(d)(e)と同様の工程を行ってEL発
光素子を形成する。
上述した実施例によると、平坦化層7を設けることによ
り、第1絶縁層3の下面が平坦化するので、下部電極2
の膜厚を厚くすることができる。
前記実施例のように、下部電極2の膜厚を5000Aと
すれば、シート抵抗は5Ω/四程度と小さくでき、下部
電極2の端部における印加電圧の低下を十分防止できる
また、平坦化層7は耐熱性部材で形成されているので、
その後の高温着膜工程においての損傷や劣化を防止する
ことができる。
(発明の効果) 本発明によれば、基板と第1絶縁層との間に、膜厚が前
記下部電極と略同一の平坦化層を介在させたので、下部
電極上に形成する各層を平坦化させることができる。従
って、下部電極の膜厚を厚くすることによりシート抵抗
を小さくすることができ、輝度むらを除去して画質の向
上を図ることができる。特に、大型のマトリックス型E
Lパネルにおいて効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)乃至(e)は本発明の一実施例に係るEL
発光素子の製造工程を示す断面説明図、第2図(a)乃
至(e)は他の製造工程を示す断面説明図、第3図は薄
膜EL発光素子を用いたマトリックス型ELパネルの模
式図、第4図はマトリックス型ELパネルの断面説明図
、第5図(a)乃至(c)は第3図におけるA、B、C
各点での印加電圧波形図、第6図は下部電極の膜厚を厚
くした場合のEL発光素子の断面説明図、第7図番マE
L発光素子における印加電圧と輝度との関係を示すグラ
フである。 1・・・・・・ガラス基板 2・・・・・・下部電極 3・・・・・・第1絶縁層 4・・・・・・発光層 5・・・・・・第2絶縁層 6・・・・・・上部電極 7・・・・・・平坦化層 第3図 第4図 第5図 (b)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  基板上に形成された帯状の下部電極と、該下部電極を
    覆うように着膜された第1絶縁層及び発光層及び第2絶
    縁層と、前記下部電極と直交するよう形成された帯状の
    上部電極とを具備するEL発光素子において、 前記基板と第1絶縁層との間に、耐熱性絶縁部材から成
    り、膜厚が前記下部電極と略同一の平坦化層を介在させ
    たことを特徴とするEL発光素子。
JP2203714A 1990-07-31 1990-07-31 El発光素子 Pending JPH0495389A (ja)

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JP2203714A JPH0495389A (ja) 1990-07-31 1990-07-31 El発光素子

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JP2203714A JPH0495389A (ja) 1990-07-31 1990-07-31 El発光素子

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