JPH049097Y2 - - Google Patents

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JPH049097Y2
JPH049097Y2 JP1987084414U JP8441487U JPH049097Y2 JP H049097 Y2 JPH049097 Y2 JP H049097Y2 JP 1987084414 U JP1987084414 U JP 1987084414U JP 8441487 U JP8441487 U JP 8441487U JP H049097 Y2 JPH049097 Y2 JP H049097Y2
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JP
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gas
chip
grooves
tip
plasma cutting
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Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は、プラズマ切断に用いるプラズマ切断
用トーチに関するものである。
従来の技術とその問題点 一般に、この種のプラズマ切断用トーチは、一
回路の供給ガスを、作動ガスと冷却ガスとに分岐
して、一方の作動ガスをチツプ先端孔より放出さ
せ、他方の冷却ガスをチツプ外周部のシールドカ
ツプのカツプ孔より放出させるように構成されて
いる。
第1図および第2図は、そのプラズマ切断用ト
ーチの実施例である。トーチヘツド1は、ガス供
給管2,電極ホルダ3,電極4,ガス分岐管5,
チツプ6,シールドカツプ7などにより構成さ
れ、電極4と母材W間にプラズマアークP発生さ
せ、この母材Wを切断する。そしてこの種のプラ
ズマ切断では、供給ガスとしては圧縮エアや酸素
などを用い、ガスの種類によつてエアプラズマあ
るいは酸素プラズマなどと称呼されている。たと
えば圧縮エアが、適宜トーチヘツド1内に送気さ
れてきて、ガス供給管2から電極4に設けられた
冷却フイン4aのフイン間のガス通路4bを通
り、ガス分岐管5で分岐され、一方はガス分岐管
5のオリフイス5aを通りチツプ6内を経てチツ
プ6のチツプ孔6aから作動ガスGaとして放出
される。また他方は、ガス分岐管5の外側からチ
ツプ6の外周部を通り、シールドカツプ7のたと
えばその内底の溝7bを介して、カツプ孔7aか
ら冷却ガスGbとして放出される。
そして、この種のプラズマ切断用トーチでは、
電極4が酸化による消耗が著しいため、一般に電
極4の先端部にハフニウム、ジルコニウムなどの
電極材を装着して用いている。4cは、その電極
材である。
ところで、この種のプラズマ切断用トーチで
は、チツプ外周部6からカツプ孔7aにいたるガ
スの導出路として、シールドカツプ7の内底とチ
ツプ6の台座との間に、複数個の溝を配したもの
がある。第8図および第9図は、このようなタイ
プの従来例を示したものである。第8図は、シー
ルドカツプ17の内底面に複数個の溝17bを設
けたものであり、チツプ16の小径部16bの中
心から広がる放射状の位置に複数個配している。
また第9図では、チツプ16の台座面に複数個の
溝16cを設けたものであり、この場合も同じよ
うに、チツプ16の中心から放射状に複数個配し
ている。これらは、いずれもシールドカツプ17
とチツプ16との相互関係において、一方に溝の
ある場合には他方には溝のないものを用いる。な
お16aはチツプ孔であり、17aはカツプ孔で
ある。
このような従来のプラズマ切断用トーチにあつ
ては、冷却ガスGbの流れが、チツプ16の外周
部をその軸心と同方向にほぼ直進して放出される
ため、チツプ16の冷却効果の点で不充分であつ
た。従つて、チツプ16の消耗度において問題が
あつた。
考案の目的 本考案の目的は、シールドカツプの内底とチツ
プの台座との間に、チツプ小径部円周のほぼ接線
方向に向けて、複数個の溝をほぼ等間隔に配し、
これを冷却ガスの導出路とすることにより、冷却
ガスの流れを旋回流として、チツプの冷却効果を
高め、その寿命を増大しうる、効率のよいプラズ
マ切断用トーチを提供することにある。
考案の実施例 第1図ないし第7図は、本考案の実施例であ
る。ただし第1図及び第2図は、一般に用いるも
のとして説明したが、チツプ6を36または26
に、シールドカツプ7を27または37に読みか
えて本考案の実施例として説明を行う。
トーチヘツド1は、ガス供給管2,電極ホルダ
3,電極4,ガス分岐管5,チツプ36または2
6およびシールドカツプ27または37などによ
り構成されている。そして本考案では、シールド
カツプ内底とチツプ台座との間に、チツプ小径部
円周のほぼ接線方向に向けて複数個の溝を配し、
これを冷却ガスGbの導出路としている。
第3図AおよびBは、本考案の第1の実施例で
あり、シールドカツプ27に冷却ガスGbの導出
路としての溝27を設けたものである。シールド
カツプ27に溝27bを設けたものにおいては、
チツプとして第5図に示す台座面に溝のないチツ
プ36を用いる。そしてシールドカツプ27の溝
27bは、シールドカツプ27の内底面にチツプ
36の小径部36b円周のほぼ接線方向に向け
て、複数個配設している。
第4図AおよびBは、本考案の第2の実施例で
あり、チツプ26に冷却ガスGbの導出路として
の溝26cを設けたものである。チツプ26に、
溝26cを設けたものにおいては、シールドカツ
プとして、第6図に示す内底面に溝のないシール
ドカツプ37を用いる。チツプ26の溝26c
は、このチツプ26の台座面に、その小径部26
bの円周のほぼ接線方向に向けて、複数個配して
いる。これらの溝は、それぞれ2条ないし3条の
溝で図示したが、これにこだわることなく、ほぼ
等間隔の溝を複数個配設すればよい。
次に、本考案のプラズマ切断用トーチのガスの
流れについて、第1の実施例の説明を行う。なお
カツコ内の符号に読みかえることにより、第2の
実施例の説明とする。ガス供給管2からの一回路
の供給ガスは、電極4のガス通路4bを通り、ガ
ス分岐管5の外周部から、一方はガス分岐管5の
オリフイス5aから、チツプ36,26内に入り
ほぼ直進し作動ガスGaとしてチツプ孔36a,
26aより放出される。また他方は、ガス分岐管
5の外周部を直進し、シールドカツプ27,37
の内底面に突き当り、その溝27b(チツプの溝
26c)を通りカツプ孔27a,37aより冷却
ガスGbとして放出される。そして、これらのい
ずれの場合も、第7図に示すようにシールドカツ
プ27,37のカツプ孔27a,37aから、チ
ツプ36,26の外周部を渦巻く旋回流となる冷
却ガスGbとして放出される。
本考案のプラズマ切断用トーチは、シールドカ
ツプの内底とチツプの台座との間に、チツプ小径
部の円周のほぼ接線方向に向けて、複数個の溝を
ほぼ等間隔に配設し、これを冷却ガスの導出路と
して構成したことを要件としたものである。
考案の効果 本考案のプラズマ切断用トーチは、シールドカ
ツプ内底とチツプ台座間に、チツプ小径部の円周
のほぼ接線方向に向けて、複数個の溝を配し、こ
れを冷却ガスの導出路としたものであるから、冷
却ガスの流れが、これらの溝によりチツプの外周
部を渦状にまわる旋回流となり、チツプの冷却効
果において極めて優れたものとなつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本考案の実施例の正面断面図であ
る。第2図は、第1図の分解斜視図である。第3
図は、本考案の第1の実施例の、Aが一部破断斜
視図、Bが要部平面図である。第4図は、本考案
の第2の実施例の、Aが斜視図でありBが要部平
面図である。第5図は、本考案の第1の実施例に
おける要部斜視図である。第6図は、本考案の第
2の実施例における要部斜視図である。第7図
は、本考案の動作説明図である。第8図は、第1
の従来例の、Aが一部破断斜視図であり、Bが要
部の平面図である。第9図は、第2の従来例の、
Aが一部破断斜視図であり、Bが要部の平面図で
ある。 1……トーチヘツド、2……ガス供給管、3…
…電極ホルダ、4……電極、5……ガス分岐管、
36,26……チツプ、27,37……シールド
カツプ。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 作動ガスと冷却ガスのガス回路を有するプラ
    ズマ切断用トーチであつて、シールドカツプの
    内底とチツプの台座との間に、チツプの小径部
    円周のほぼ接線方向に向けて複数個の溝をほぼ
    等間隔に配し、これを冷却ガスの導出路とした
    ことを特徴とするプラズマ切断用トーチ。 (2) 複数個の溝を、シールドカツプの内底面に配
    したことを特徴とする実用新案登録請求の範囲
    第1項記載のプラズマ切断用トーチ。 (3) 複数個の溝を、チツプの台座面に配したこと
    を特徴とする実用新案登録請求の範囲第1項記
    載のプラズマ切断用トーチ。
JP1987084414U 1987-05-30 1987-05-30 Expired JPH049097Y2 (ja)

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JP1987084414U JPH049097Y2 (ja) 1987-05-30 1987-05-30

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JP1987084414U JPH049097Y2 (ja) 1987-05-30 1987-05-30

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JPS63196374U JPS63196374U (ja) 1988-12-16
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07130490A (ja) * 1993-11-02 1995-05-19 Komatsu Ltd プラズマトーチ

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4581516A (en) * 1983-07-20 1986-04-08 Thermal Dynamics Corporation Plasma torch with a common gas source for the plasma and for the secondary gas flows
JPS6228084A (ja) * 1985-07-30 1987-02-06 Akira Kanekawa プラズマ・ジエツト・ト−チ

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US4581516B1 (ja) * 1983-07-20 1990-01-23 Thermal Dynamics Corp
JPS6228084A (ja) * 1985-07-30 1987-02-06 Akira Kanekawa プラズマ・ジエツト・ト−チ

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