JPH0488113A - 溶鋼の精錬方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、転炉、電気炉等で溶製した溶鋼を更に取鍋
等の精錬用容器内において精錬し、脱りん、脱硫、脱ガ
ス等の処理を行う溶鋼の精錬方法に関するものである。

（従来の技術） 溶鋼の精錬に際し、脱りん、脱硫、脱ガス等の反応効率
を上げるには、大きく攪拌することが有効であるため、
従来からガス攪拌やインペラー攪拌等が採用されていた
。

しかし、ガス攪拌によって攪拌力を増強するにはガス流
量の増加や真空系の設置が必要である。

また、ガス攪拌は場面の揺動が激しいため、フリーボー
ドを高くする必要があるが、フリーボードを高くしても
スプラッシュのために地金の付着が著しいなどの問題が
あり、必然的に攪拌力の大きさに制限がある。

また、インペラー攪拌では、ガスの吹込みは不要である
が、耐火物製のインペラーを高温の溶鋼中に挿入して高
速で回転するため耐久性に問題があり、インペラーの頻
繁な交換が必要になる。

これらの問題を克服するための手段として電磁攪拌を利
用するものが提案されている。

その第１は、例えば特公昭６３−２６１６９号公報に開
示されているように、容器底部に移動磁界装置を設置す
ると共に、その部分にガスまたはガスと精錬剤の混合物
を供給し、移動磁界の溶鉄流動力によってガス気泡を微
細化して分散させることにより精錬効果の向上を狙った
ものである。

その第２は、特公昭５９−２９０８３号公報、特開昭６
２−１２７４１７号公報、特開昭６２−２３５４１６号
公報、特開昭６２−２３８３２１号公報、特開昭６２−
２８７０１１号公報、特開昭６３−４５３１６号公報等
に開示されているように、容器外周に回転磁界装置を設
置し、容器内の溶鋼を回転させて攪拌混合を行うもので
ある。

この攪拌方法では溶鋼は剛体運動をしており、介在物の
凝集等については良好である。また、スラグメタルの混
合を促進する場合は、邪魔板や邪魔棒を溶綱内に設置し
てスラグの巻込みを強制的に引き起こさせることにより
極めて良好な反応速度が得られる。

しかしながら、これらの電磁攪拌を利用する方法には次
のような問題がある。

■　容器底部に移動磁界を印加する方法−Ｃに工業的に
用いられる容器は、溶鋼が非常に高温であるという理由
から、鉄製容器の内側に耐火煉瓦を張った状態で用いら
れる。特に容器の底部は、溶鋼の流出を防く必要がある
ために厚みを大きく　（通常３０ＣＷ１以上）とり、し
かも鉄皮があるために移動磁界の磁束を容器内の溶鋼ま
で到達させるためには移動磁界の周波数を１〜５）（ｚ
と小さくする必要がある。移動磁界の電磁力によって攪
拌される溶鋼の流速は、移動磁界の周波数と磁極の極間
距離に比例するため、前記したように周波数を低下させ
た場合、磁束の移動と溶鋼の移動との間のすべりを考慮
すると、溶鋼の流速を特公昭６３−２６１６９号公報に
記載されるような０．８Ｍ）ｓｅｃ以上とすることは極
めて困難である。また、容器底部に移動磁界を印加する
場合、電磁力による回転運動が客器間の溶鋼の上部に伝
達するまでに時間がかかり、処理時間が長くなってしま
う。更に、容器底部へ移動磁界を設ける場合は、磁界の
印加面積及び印加半径が大きくとれないため、回転力の
トルクが十分に得られないという問題がある。

■　容器外周に回転磁界印加装置を設置する方法この方
法によってスラグメタルの撹拌を促進し、溶鋼の脱硫・
脱りんを高効率に行うためには、容器（取鍋）全体の外
周を覆う回転磁場印加装置が大掛かりで装置の製造費が
高くなる。また、容器の内壁耐火物も高速で移動する溶
鉄中に混入したフラックスと長時間接触するため、非常
に速く溶損し、取鍋補修時間の増加や、取鍋の保有数増
加などの問題が生じる。

（発明が解決しようとする課題） 本発明は上記のような従来方法の問題点を解決するため
になされたものであり、溶鋼に移動磁界を有効に印加し
て効率よく回転攪拌流を発生させることにより、溶鋼の
脱りん、脱硫、脱ガスを短時間に行える方法を提供する
ことを目的としている。

（課題を解決するための手段） 本発明は、取鍋等の精錬用容器に収容した溶鋼を真空排
気槽内に吸い上げた上、これに移動磁界を印加すれば、
溶鋼に効率よく回転攪拌流を発生させることができると
いう知見に基づいてなされたものであり、その要旨は「
真空排気槽の下部に取り付けた１本または複数本の浸漬
管を精錬用容器内の溶鋼に浸漬し、上記槽内を真空排気
して槽内に吸上げた溶鋼に外部から移動磁界を印加する
ことを特徴とする溶鋼の精錬方法Ｊにある。

本発明方法の実施に際しては、精錬用容器の底部もしく
は浸漬管側壁に取り付けたポーラスプラグ、または溶鋼
中に浸漬したランスからガスを吹き込む゛ことができる
。そうすることによって、？容器の回転攪拌にガス攪拌
の効果が加わり、さらに精錬容器内溶鍛と真空排気槽内
の吸上げ溶鋼との混合撹拌も促進される。この結果、精
錬容器内全一溶鋼の精錬反応が速やかに進行する。

さらに、精錬用容器内または／および真空排気槽内の溶
鋼に精錬剤を供給すると、真空排気槽に吸上げられた溶
鋼の回転運動よって生じた溶鋼表面富み部に集中して溶
融精錬剤が浮上するので、真空排気槽の内張り耐火物を
過度に溶損させずに溶鋼と精錬剤のスラグ精錬反応を促
すことができ本発明方法の実施に用いる下部に浸漬管を
取り付けた真空排気槽の形状、寸法の選択は下記のとお
りとするのが望ましい。すなわち、 （ａ）　　精錬容器内の熔綱深さが浅い場合は、真空排
気槽を容器内に下降させる必要がある。したがって、耐
火物壁、移動磁界装置、鉄皮から構成される真空排気槽
外径が精錬容器の底面内径の０．９倍以下となるように
真空排気槽内径を選択するのがよい。

（ｂ）　　浸漬管が１本の場合は、溶鋼吸上げ量を多く
するため、浸漬管内径と真空排気槽内径を等しくするの
がよい。溶鋼を真空排気槽（下部に浸漬管が連結されて
いる）に吸上げたとき、精錬容器内に残存する溶鋼に浸
漬管が浸漬された状態で保持されるように、処理前の精
錬容器内の？８ｆＪ深さを管理して処理を行うのがよい
。

（ｃ）　　ｔ！漬管が偶数本の場合は、その半数は循環
用不活性ガスを吹き込み溶鋼上昇管として用い、残りの
半数は溶鋼下降管として用いる。

この場合の浸漬管径、不活性ガス吹き込み量、吹き込み
位置等の決定に当たっては、従来のＲＨ真空脱ガス法で
用いられる条件（例えば、鉄鋼便覧（第３版）■・製鉄
・製鋼、Ｐ、６７２〜６７３参照）を参考にすればよい
。

本発明の真空排気槽はオーステナイト系ステンレス鋼の
ような非磁性材料の円筒管に耐火物をライニングし、溶
鋼吸上げ部に移動磁界発生装置を取り付けて構成する。

このような装置は、構造が簡単で耐火物のライニングの
厚さも薄くできる。

また外皮材料が非磁性であれば誘導電流ロスを少なくで
きるので、移動磁界発生装置としては公知の磁力調整可
能な電Ｔｉｌ攪拌装置を用いることができる。

真空排気槽に吸上げた溶鋼を電磁攪拌しても、浸漬管が
１本で処理前の精錬容器内の溶餌深さが深いと全処理溶
鋼量に対する真空排気槽内吸上げ溶鋼量の比率（以下、
真空吸上げ溶鋼比率と呼ぶ）が低くなり、精錬反応は真
空吸上げ溶鋼にしか及ばないので溶鋼全体の精錬反応速
度は遅くなる。

このような場合は、精錬容器下部に取り付けられたポー
ラスプラグまたは溶鋼中に浸漬したランスから攪拌用ガ
ス（例えばＡｒ、窒素等の不活性ガス）を供給して、浸
漬管内の溶鋼中に吹き込むことにより精錬容器内と真空
排気槽内の溶鋼の循環および精錬容器内ｉ′８鋼の混合
攪拌を促進するのが望ましい。

一方、浸漬管が偶数本の場合は、上昇管側壁からのガス
吹き込みにより精錬容器内溶鋼は真空排気槽に上昇し、
真空排気槽で精錬反応を受けた溶鋼は下降管を経て精錬
容器内に還流する。従って、精錬容器内の溶鋼は順次精
錬反応を受けることになるので、この場合は、浸漬管の
半数の上昇管側壁に取り付けたポーラスプラグから循環
用ガスを浸漬管内の溶鋼中に吹き込めばよい。

本発明の精錬反応に用いる精錬剤は特に限定されるもの
ではなく、公知の脱燐剤、脱硫剤あるいは非金属介在物
吸収フラックス等を用いてよい。

精錬剤は攪拌用ガスとともに浸漬ランスから溶鋼中に吹
き込むのが望ましいが、精錬容器内または真空排気槽、
或いはその両方に適当なシュート等によって精錬剤を添
加してもよい。

（作用） 第１図は本発明の溶鋼の精錬方法を実施するための装置
を模式的に示す断面図である。図において、１は移動磁
界発生装置、２は等径の浸漬管２−１が連結した真空排
気槽、３は精錬容器、４は処理前の精錬容器内の溶鋼面
、５は溶鋼吸上げ後の精錬容器内の溶鋼面、６は真空排
気槽内の吸上げ溶鋼面、７はポーラスプラグである。

真空排気槽２内に吸上げられた溶鋼は移動磁界装置１に
より印加される電磁力により回転攪拌され精錬反応速度
が上がる。精錬容器内に残存する？８ｔＡの深さが浸漬
管が浸漬状態を保持できる限度まで浅くなるように処理
前の精錬容器内の溶鋼の深さを管理することにより、精
錬容器３内の溶鋼の真空吸い上げ溶鋼比率を高めること
ができ、全処理溶鋼の精錬時間を短縮することが可能と
なる。

第２図（ａ）は本発明の溶鋼の精錬方法を実施している
状態を模式的に示す断面図である。第２図（ｂ）は電磁
攪拌を行わない場合の溶鋼の状態を示す図である。この
図の例では処理前の精錬容器内の溶鋼深さが深く、真空
吸い上げ溶鋼比率が低いので溶鋼中浸漬ランス８から攪
拌用ガス１０を吹き込み、かつこのガスをキャリアとし
て精錬剤９−１を供給している。

第２図（ロ）に示すごとく、電磁攪拌を行わないと攪拌
用ガス１０の気泡により真空排気槽２内の溶鋼表面６の
中央が盛り上がり、中央から真空槽内壁へ向かう溶鋼流
１１により真空排気槽内Ｎｔｍ＋表面６に浮上したスラ
グ９は真空排気槽２の内壁近傍にたまり耐火物の局部溶
損を早める。

電磁攪拌を行った第２図（ａ）の場合は、電磁攪拌の回
転流によって生した溶鋼表面６の中央窪み部にスラグ９
かたまり、スラグ９と真空排気槽２の内壁耐火物との接
触が抑制されるので局部溶損を防止することができる。

また、電磁攪拌の回転流により攪拌用ガス１０の気泡の
分散も促進されるのでスプラッシュの発生が減少し、真
空排気槽内壁の地金付きを低減できる。更に、真空排気
槽の中心に集まったスラグ９に対して攪拌ガスが作用し
、スラグの溶鉄中分散が促進され、分散したスラグが真
空排気槽内を上昇する攪拌ガスに再び巻き込まれるので
分散がさらに促進される。このため、スラグの分散粒径
がより小さくなり精錬反応効率が向上する。

第３図（ａｌは、真空排気管下部に２本の浸漬管を取り
付けた装置によって本発明方法を実施する場合の模式的
断面図である。第３０（ｂ）は電磁撹拌を行わない場合
である。いずれも処理前の精錬容器内の溶鋼深さが深い
場合で、浸漬管の１本には環流用ガス吹込み用のポーラ
スプラグ７を付けて溶鋼上昇管２−１　とし、他の１本
は溶鋼下降管２−２としている。

第３図（ｂ）に示すごとく、電磁攪拌を行わないと、溶
鋼上昇管２−１に吹き込んだ環流用ガス１０の気泡によ
り溶鋼表面６が盛り上がること、および上昇管２−１か
ら下降管２−２への溶鋼流があることのため真空槽内に
投入されたスラグ９は下降管２−２側に偏在し、真空排
気槽耐火物が局部溶損する。

電磁攪拌を行う第３図（ａ）の場合は、前述した第２図
（ａ）と同様の効果があり、局部溶損と地金付きを低減
することができる。また、真空排気槽中央部に集まった
スラグ９に対して攪拌ガス１０が作用し、スラグの溶鋼
中分散が促進され精錬反応効率が向上する。なお、第３
図（ａ）の場合は、分散したスラグがすみやかに下降管
を通じて取鍋内に放出される。

（実施例） 以下、実施例により本発明の精錬方法の効果を具体的に
説明する。なお、実施例１〜５および比較例１および２
の試験条件および試験結果を第１表にまとめて示した。

［実施例１および２〕 この実施例は真空排気槽（到達真空度：　ｌ　Ｔｏｒｒ
）の下部に取り付けた等径の浸漬管を溶鋼中に浸漬し、
槽内にできるだけ多くの溶鋼を吸い上げて電磁攪拌をす
るため、精錬容器内の処理前の溶鋼深さを浅くした場合
である。

精錬容器としては、１００　）、取鍋（内径寸法・・・
底部直径：　３５００ｍｍ、上部直径：　４０００ｍｍ
、高さ：　２５００ＩＩＩＩｎ）を使用し、真空排気槽
は内径１７００ｍｍ、下部浸漬管は１本で真空排気槽と
等じ内径である。

王妃の取鍋に転炉で溶製したＲｆｉＡ　（Ｃ：　０．０
４％、Ｓｉ　：　０．００５％、Ｍｎ　：　０．１２％
、Ｐ　：　０．０１０％、Ｓ二〇、００５％）　５０−
を出鋼し、真空排気槽にはその半量の約２５シを吸い上
げて真空脱炭精錬により極低炭素鋼を製造した。

真空排気槽に吸い上げた溶鋼に磁場強さ３０００ガウス
、周波数３臣の移動磁界を印加して１ｉ磁攪拌を行った
。

実施例２では取鍋底に取り付けたポーラスプラグから撹
拌用としてＡｒガス　（流量５００１　／ｗｉｎ）を供
給し、浸漬管内用鋼中に吹き込むガスＰＡＰＰを併用し
た。

〔比較例１〕 電磁攪拌は行わず、ガス攪拌のみを実施例と同し条件で
行った。

第１表に実施例および比較例の精錬結果を示す。

実施例１のように処理前の取鍋内溶鋼深さが浅くなるよ
うにライトチャージして、取鍋的全処理溶鋼量に対する
真空排気槽内吸い上げ溶鋼量の比率を高めて移動磁界を
印加すると脱炭速度定数は従来のガス攪拌のみ（比較例
１）の値０．２０（１／ｗｉｎ）より高い０．２８（１
／ｍ１ｎ）が得られた。また、！磁攪拌にガス攪拌を併
用した実施例２ではさらに０．３４（１／ｗｉｎ）まで
向上した。

また、溶鋼攪拌中にＣｕを約１ｋｇ／ト＞−括投入し、
溶鋼中のＣｕ濃度が一定になるまでの時間で測定した均
一混合時間も比較例１の１．１分に対し、実施例１は１
．２分で大差はなかった。

この結果から、真空吸い上げ溶鋼比率を高めておくと、
吸い上げ溶鋼と取鍋内残存溶鋼との混合攪拌の度合いは
、電磁攪拌とガス攪拌とで大差がないことがわかった。

電磁攪拌にガス攪拌を併用した実施例２では、ガス攪拌
のみの比較例１に比べてスプラッシュ等による地金付き
量は６２％に低下し、これは上昇ガス気泡が溶鋼の回転
攪拌流により分散されたことによると考えられる。

［実施例３．４および５〕 これらの実施例は、精錬容器として２５０　）、取鍋（
内壁寸法・・・底部直径３８００ｍｍ、上部直径４２０
０＋ｎ、高さ４０００ｍｍ）を使用し、転炉で溶製した
溶鋼（成分組成は実施例１および２と同じ）　２５０　
）、を出鋼し、処理前の取鍋内溶鋼深さを深くした場合
である。

真空排気槽内径は１８００ｍｍであり、下部浸漬管は実
施例３では１本で真空排気槽と等内径、実施例４および
５は２本で内径５００ｗＩｍφである。

真空排気槽に吸い上げた溶鋼に実施例１および２と等し
い移動磁界を印加して電磁撹拌を加え、真空脱炭精錬を
行った。

実施例３では溶鋼中浸漬ランスから浸漬管溶鋼中に混合
攪拌用のＡｒガスを流量２００ＯＲ／ｍａｉｎで吹き込
んだ。

実施例４では浸漬管の中の溶鋼上昇管からの環流用ガス
の吹き込みを行わず、実施例５では溶鋼上昇管から流量
２０００１　／ｍｉｎで環流用のＡｒガスの吹き込みを
行った。

［比較例２］ 実施例５と同様、溶鋼上昇管内に環流用Ａｒガスを吹き
込んだが、電磁撹拌をせずに真空脱炭精錬を行った。

第１表に示すように、浸漬管が１本の実施例３では電磁
攪拌にガス攪拌を併用することにより均一混合時間は１
．５分と短くなり、脱炭速度定数も０．３８（１／ｗｉ
ｎ）の高値となった。

浸漬管２本で環流用ガス吹き込みを行わず、電磁攪拌の
み行った実施例４では、真空吸い上げ溶鋼と取鍋固溶鋼
との環流がないこと、および真空吸い上げ溶鋼比率が低
いことにより、均一混合時間は５分以上と長くなり、脱
炭速度定数も比較例２の０．２０（１／ｗｉｎ）より低
い０．０５（１／ｌＮ１ｎ）であった。

これに対し、ガス攪拌と電磁撹拌を併用した実施例５で
は、均一混合時間は２分、脱炭速度定数は０．３５（１
／ｗｉｎ）まで向上し、従来のガス環流のみの比較例２
の約１．８倍の脱炭速度定数に改善された。

また、実施例５ではガス攪拌のみの比較例２に比べてス
プラッシュ低減効果が大きく、地金付き量は４８％にま
で低減できた。

〔実施例６および７〕 これらの実施例では、２５０　）：、取鍋に２５０）、
の溶＠　（Ｃ：　０．１２％、Ｓｉ　：　０．００５％
、Ｍｎ　：　０．３０％、Ｐ：０．０１８〜０．０２８
％、Ｓ　：　０．００７％）を出鋼し、真空排気槽に吸
い上げた溶鋼に、磁場強さ３０００ガウス、周波数３蚤
の移動磁界を印加して電磁Ｐｉｔ拌を加え、浸漬ランス
から脱りん用の粉体フラックス（ＣａＯ：８５％、Ｃａ
Ｆｚ　：　１５％）を浸漬管内の溶鋼中に吹き込んで脱
りん精錬を行った。

実施例６モは、真空排気槽下部に１本の等径の浸漬管を
有する装置を使用し、溶鋼中浸漬ランスから浸漬管溶鋼
中へ攪拌用Ａｒガスを吹き込んだ。

実施例７では、真空排気槽下部に２本の浸漬管を有する
装置を用い、溶鋼上昇浸漬管内に環流用Ａｒガスを吹き
込んだ。

〔比較例３および４〕 比較例３および４は、ＮｖＬ攪拌を実施しなかった以外
は、それぞれ実施例６および７と同じ条件で脱りん精錬
を行った。

第４図に実施例６．７および比較例３．４のフラックス
原単位と処理前後の溶鋼中りん含有量との関係を示す。

実施例６および実施例７は、処理前のＣＰ）が異なる２
例づつ（ＯおよびΔ）を表示した。

浸漬管が１本の場合、ａ磁攪拌を行わずガス攪拌を行っ
た比較例３がフラックス原単位４．５ｋｇ／Ｔ・溶鋼で
処理後のりん含有量が０．０１４重量％であるのに対し
、実施例６では、フラックス原単位３〜４　ｋｇ／Ｔ−
溶鋼でりん含有量が０．０１０重量％以下の低りん鋼が
得られた。

浸漬管が２木の場合、比較例４がフラックス原単位４．
５ｋｇ／Ｔ　−Ｎ鋼で処理後のりん含有量が０．０２２
重量％と高いのに対し、実施例７では４〜４．５ｋｇ／
Ｔ−溶鋼のほぼ等しいフラックス原単位でりん含有量が
０．０１０重量％以下の低りん綱が得られた。

真空排気槽内壁の耐火物溶損は比較例３および４に比較
して、実施例６および７では大幅に低減した。

［実施例８および９］ 実施例８および９は転炉で溶製した溶鋼（Ｃ：０．１０
、Ｓｉ　：　０．１５、Ｍｎ　：　１．２０、Ｐ　　：
　　０．００５、Ｓ：０゜００２２〜０．００２８重量
％）にそれぞれ実施例６および７と同様の条件で脱硫精
錬を行った。

（比較例５および６〕 比較例５および６は電磁攪拌を実施しなかった以外は、
それぞれ実施例８および９と同様の条件で脱硫精錬を行
った。

第５図にフラックス原単位と処理前後のｆ＠綱中硫黄含
有量との関係を示す。ここでも実施例９については、処
理前の［Ｓ〕の異なる２例（Ｏ印）を表示した。

浸漬管１本の場合、処理後５　ｐＩ）ｍ以下の低硫黄鋼
を製造するためのフラックス原単位は比較例５では４　
ｋｇ／Ｔ−溶鋼に対し、実施例８では１．８ｋｇ／Ｔ・
？容綱に低減できた。

浸漬管２本の場合、比較例６ではフラックス原単位５　
ｋｇ／Ｔ−溶鋼でも処理８：５ｐｐｍ以下の低硫黄鋼を
製造できなかったが、実施例９では２〜２．５ｋｇ／Ｔ
−溶鋼のフラックス原単位で５　ｐｌ）ｆｆｉ以下の低
硫黄鋼を製造できた。

（発明の効果） 本発明方法では、真空排気槽内に吸い上げた溶鋼に回転
磁場を印加するので、溶鋼に効率よく回転攪拌流を与え
ることができる。また、真空吸い上げ溶鋼比率が低い場
合は、ガス攪拌を併用して、真空排気槽内で精錬反応を
済ませた溶鋼と精錬容器内の未反応溶鋼との混合攪拌を
促進できる。その結果、脱りん、脱硫、真空脱炭等の精
錬反応速度を高めることができ、高い生産性で低りん鈑
、低硫黄鋼、極低炭素鋼等を製造できる。また、フラッ
クス原単位および耐火物原単位の低減、耐火物補修工数
、付着地金取り工数の低減による経済効果が大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の溶鋼の精錬方法を実施するだめの装
置を模式的に示す断面図、 第２図（ａ）は、本発明方法の一例における溶鋼の精錬
状況を模式的に示す断面図、 第２図（ｂ）は、ｔＭ！Ｌ攪拌を行わない場合の？８鋼
の精錬状況を模式的に示す断面図、 第３図（ａ）は、本発明方法の他の例における溶鋼の精
錬状況を模式的に示す断面図、 第３図ら）は、電磁攪拌を行わない場合の溶鋼の精錬状
況を模式的に示す断面図、 第４図は、フラックス原単位と処理前後の溶鋼中りん含
有量との関係を示す図、 第５図は、フラックス原単位と処理前後の溶鋼中硫黄含
有量との関係を示す図、 である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）真空排気槽の下部に取り付けた１本または複数本
   の浸漬管を精錬用容器内の溶鋼に浸漬し、上記槽内を真
   空排気して槽内に吸上げた溶鋼に外部から移動磁界を印
   加することを特徴とする溶鋼の精錬方法。
2. （２）精錬用容器の底部もしくは浸漬管側壁に取り付け
   たポーラスプラグ、または溶鋼中に浸漬したランスから
   ガスを吹き込むことを特徴とする請求項（１）記載の溶
   鋼の精錬方法。
3. （３）精錬用容器内または／および真空排気槽内の溶鋼
   に精錬剤を供給することを特徴とする請求項（１）また
   は（２）の溶鋼の精錬方法。