JPH0487242A - Ｘ線イメージインテンシファイア - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

この発明は、Ｘ線イメージインテンシファイアに関し、
とくにそのＸ線入力面の改良に関する。

【従来の技術】

Ｘ線イメージインテンシファイアは通常、第３図のよう
な構造となっている。すなわち、Ｘ線イメージインテン
シファイア１は入力面２と出力蛍光面３とを有し、入力
面２にＸ線が入射するとそれに応じて一旦光が発生し、
この光に応じて電子か発生し、この電子が電極群によっ
て集束され、出力蛍光面３に結像し、入射したＸ線像が
輝度増強された光学像として出力される。 このＸ線イメージインテンシファイアにおいて、入力面
２は、従来ては、第４図のように構成されている。アル
ミニウム基板２６をプレス成形して湾曲させ、その裏面
（Ｘ線入射側の反対側の面）に、Ｘ線を光に変換する蛍
光層である柱状構造のＣｓＩ結晶層２２を真空蒸着し、
つぎに透明導電膜（たとえばＩＴＯなどからなる）２４
を設け、さらにその上に光を電子に変換する光電面（た
とえばｓｂとアルカリ金属化合物などからなる）２５を
付ける。 この場合、アルミニウム基板２６はＣｓＩ結晶層２２よ
りもＸ線発生源側に存在しているため、Ｘ線吸収の関係
から薄いほどよいが、強度の関係から限界があり、通常
０．５ｍｍ　〜１．５ｍｍ程度としている。

【発明が解決しようとする課題】

しかしながら、従来の入力面では、アルミニウム基板２
６はＣｓＩ結晶層２２等の保持体であるが故に、その強
度の関係からあまり薄くできず、そのためＸ線吸収や散
乱の問題が生じ、Ｘ線イメージインテンシファイアとし
ての性能、たとえば輝度、解像度、コントラストなどを
向上できないという問題があった。 また、ＣｓＩ結晶層２２を柱状構造としたのは、光がＸ
線入射方向に沿って進行し、拡散しないようにするため
であり、そのため、柱状の結晶構造の方向は、Ｘ線入射
方向と同方向にする必要がある。ところが、従来のよう
にアルミニウム基板２６の凹面側に形成する場合、凹面
側からみて柱状結晶の方向が拡散するように形成しなけ
ればならず、その工程が難しいものとなる。 さらに、透明導電膜２４及びその上の光電面２５は、柱
状結晶構造のＣｓＩ結晶層２２の上に形成されるので、
その結晶層２２の表面が平坦でないことの影響を受け、
Ｘ線イメージインテンシファイアとして解像度が悪くな
る原因となっている。 この発明は上記に鑑み、入力面の保持体によるＸ線吸収
や散乱の問題などを解消し、輝度、解像度、コントラス
トなどの性能向上を図ることができる、Ｘ線イメージイ
ンテンシファイアを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段１ 上記の目的を達成するため、この発明によるＸ線イメー
ジインテンシファイアにおいては、透明基板と、その基
板のＸ線入射側に形成された、Ｘ線を光に変換する蛍光
層と、該蛍光層の上に設けられた反射膜と、上記基板の
反対側に形成された透明導電膜と、その上に設けられた
光電面とを有する入力面が備えられている。 【作　　用】 入力面に入射したＸ線は反射膜を経て蛍光層に入射し、
光に変換される。この光は透明基板及び透明導電膜を通
って光電面に導かれ、電子に変換される。 ここて、透明基板が蛍光層等の保持体となっており、反
射膜は単に蛍光層で生じた光を反射した外部に放射させ
ないためのものにすぎない。そこて、反射膜をアルミニ
ウム膜で形成するにしても、従来のように強度を考えて
厚くする必要かないので、きわめて薄くできる。 このように、蛍光層よりもＸ線発生源側にはこの薄い反
射膜しか存在しないため、入射したＸ線が光に変換され
る前に吸収されたり散乱したりすることを極端に少なく
することができる。 したがって、入力面におけるＸ線吸収や散乱などの問題
を改善できるため、Ｘ線イメージインテンシファイアの
輝度、解像度、コントラスト等を向上させることができ
る。

【実　施　例】

以下、この発明の一実施例について図面を祭照しながら
詳細に説明する。第１図には、この発明の一実施例にか
かるＸ線イメージインテンシファイアの入力面の構造が
示されている。この第１図に示された入力面２では、透
明基板２１はたとえばガラスやファイバプレートなどの
光透過性の材料で形成されており、適当な湾曲形状とさ
れている。この透明基板２１の凸面側（Ｘ線入射側）に
は、真空蒸着により、Ｘ線を光に変換する蛍光層である
ＣｓＩ結晶層２２が柱状構造に形成されている。柱状構
造としたのは、光かＸ線入射方向に沿って進行し、拡散
しないようにするためである。 そのため、柱状の結晶構造の方向は、Ｘ線入射方向と同
方向にするり・要があり、想定されるＸ線焦点位置と等
しい位置に蒸着源を配置することによってこれが容易に
達成でき、とくに周辺の解像度を向上させることに効果
がある。 このＣｓＩ結晶層２２の表面にアルミニウム膜２３は設
けられている。このアルミニウム膜２３はＸ線入射側に
戻って外部に放射しようとする光を反射して反対方向に
向かわせるためだけのものである。そこでＸ線の吸収を
防ぐためにたとえば数千オングストローム−数マイクロ
メータ程度になるべく薄く蒸着する。材質も光の反射及
びＸ線の吸収の点で適当なものであればアルミニウムだ
けに限らない。このようにアルミニウム膜２３を従来に
比較して数十分の１から数万分の１にまで薄くできるた
め、このアルミニウム膜２３によるＸ線吸収や散乱か極
端に少なくなり、Ｘ線効率か飛躍的に高くなる。 また、透明基板２１の凹面側にはたとえばＩＴＯやＩ　
ｎ２０３などの透明導電膜２４が形成され、その上にた
とえばｓｂとアルカリ金属化合物でなる光電面２５が形
成されている。この場合、透明基板２１の凹面側の表面
を十分に研磨して平滑な状態としておけば、理想的な光
電面２５の形成が可能で、解像度が上がる。 なお、製造にあたっては、まず透明基板２１に透明導電
膜２４を形成した上で、ＣｓＩ結晶層２２を蒸着し、つ
ぎにアルミニウム膜２３を付け、この状態でＸ線イメー
ジインテンシファイアの外囲器の中に封入した後、従来
と同様に光電面２５を形成することが望ましいと考えら
れるが、透明導電膜２４は光電面２５の形成前ならばい
つでもよく、他の順序で各工程を行ってもよい。 第２図は他の実施例にがかるＸ線イメージインテンシフ
ァイアを示すものである。この実施例では、透明基板２
１のＸ線入射側も凹面に形成されている。このＸ線入射
側の凹面に柱状結晶構造のＣｓＩ結晶層２２とその上の
アルミニウム膜２３が形成される点、及び反対側の凹面
に透明導電膜２４と光電面２５が形成される点は第１図
の実施例と同様である。このようにＸ線入射側の面が凹
面となっているため、糸巻状の幾何歪のない出力光学像
を得ることができる。

【発明の効果】

この発明のＸ線イメージインテンシファイアによれば、
入力面におけるＸ線吸収や散乱などの問題を改善できる
ため、輝度、解像度、コントラスト等のＸ線イメージイ
ンテンシファイアとしての性能を向上させることができ
、とくに医療誇断の分野で大きな貢献をすることができ
る。また、入力面でのＸ線吸収や散乱などが抑えられる
ため、従来と同一の画像情報を得るとすると、少ない線
量で済むことになり、人体に対するＸ線被曝量を減少さ
せることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例にかかるＸ線イメージイン
テンシファイアの入力面を示す一部拡大断面図、第２図
は他の実施例にかかるＸ線イメージインテンシファイア
を示す断面図、第３図は通常のＸ線イメージインテンシ
ファイアを示す断面図、第４図は従来例にかかる入力面
を示す一部拡大断面図である。 １・・・Ｘ線イメージインテンシファイア、２・・・入
力面、３・・出力蛍光面、２１・・・透明基板、２２・
・・ＣｓＩ結晶層、２３・・・アルミニウム膜、２４−
゛−透明導電膜、２５・・・光電面、２６・・・アルミ
ニウム基板。 婁２目 出力受光面

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明基板と、その基板のＸ線入射側に形成された
   、Ｘ線を光に変換する蛍光層と、該蛍光層の上に設けら
   れた反射膜と、上記基板の反対側に形成された透明導電
   膜と、その上に設けられた光電面とを有する入力面を備
   えることを特徴とするＸ線イメージインテンシフアイア
   。