JPH0362437A - X線イメージ管 - Google Patents
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- JPH0362437A JPH0362437A JP19561789A JP19561789A JPH0362437A JP H0362437 A JPH0362437 A JP H0362437A JP 19561789 A JP19561789 A JP 19561789A JP 19561789 A JP19561789 A JP 19561789A JP H0362437 A JPH0362437 A JP H0362437A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、X線イメージ管に係り、とくに、その入力面
の改良に関するものである。
の改良に関するものである。
(従来の技術)
一般に、X線イメージ管を用いた被写体観察システムは
、第7図に示すように、X線管1の前方にX線イメージ
管2を配置し、これらの間の被写体3を通過して変調さ
れたX線像をX線イメージ管2に入射し、X線イメージ
管2で得られる可視出力像を、たとえば、撮像カメラで
撮影してモニタテレビで再生するように構成されている
。
、第7図に示すように、X線管1の前方にX線イメージ
管2を配置し、これらの間の被写体3を通過して変調さ
れたX線像をX線イメージ管2に入射し、X線イメージ
管2で得られる可視出力像を、たとえば、撮像カメラで
撮影してモニタテレビで再生するように構成されている
。
すなわち、X線イメージ管2は、一端部に入力面4、他
端部に出力面5を有し、動作時には、変調されたX線像
を入力面4で光電子像に変換し、この光電子像を出力面
5に集束加速して、出力面5に輝度増強された可視出力
像を得ている。そして、この出力像を撮像カメラ等によ
り観察するようになっている。
端部に出力面5を有し、動作時には、変調されたX線像
を入力面4で光電子像に変換し、この光電子像を出力面
5に集束加速して、出力面5に輝度増強された可視出力
像を得ている。そして、この出力像を撮像カメラ等によ
り観察するようになっている。
ところで、特開昭59−24300号公報には、X線イ
メージ管2の入力面4の改良例が示されている。この公
報に示された入力面を第8図を参照して説明する。
メージ管2の入力面4の改良例が示されている。この公
報に示された入力面を第8図を参照して説明する。
この公報に示された入力面は、蛍光体(ナトリウムで活
性化したよう化セシウム、Cs I / Na)と異な
る熱膨張率の素材で作られた図示しない支持体の鏡面状
の凸面に蛍光体を蒸着し、支持体の鏡面状の凸面に蛍光
体の多数の柱状結晶11を成長させて蛍光体層12を形
成し、加熱処理により支持体から蛍光体層12を剥離し
、蛍光体層12の鏡面となっている凹面側の剥離面に透
明導電膜13(酸化インジウム)をコーティングし、そ
の上に光電面14を形成し、蛍光体層12の凸面側にX
線の入射により蛍光体層12に発生する蛍光を反射する
反射層15(アルミニウム)を形成したもので、蛍光体
層12は、蛍光体の多数の柱状結晶11がわずかな間隙
16を介して集合した構造となっている。
性化したよう化セシウム、Cs I / Na)と異な
る熱膨張率の素材で作られた図示しない支持体の鏡面状
の凸面に蛍光体を蒸着し、支持体の鏡面状の凸面に蛍光
体の多数の柱状結晶11を成長させて蛍光体層12を形
成し、加熱処理により支持体から蛍光体層12を剥離し
、蛍光体層12の鏡面となっている凹面側の剥離面に透
明導電膜13(酸化インジウム)をコーティングし、そ
の上に光電面14を形成し、蛍光体層12の凸面側にX
線の入射により蛍光体層12に発生する蛍光を反射する
反射層15(アルミニウム)を形成したもので、蛍光体
層12は、蛍光体の多数の柱状結晶11がわずかな間隙
16を介して集合した構造となっている。
(発明が解決しようとする課題)
上述したようなX線イメージ管2を用いた被写体観察シ
ステムにおいて、被写体3のX線被爆を少なくするため
には、被写体3を通過したX線を損失無く入力面の蛍光
体層12に入力させて、その吸収量を多くすることが要
求される。そして、蛍光体層12におけるX線吸収量を
多くするためには、蛍光体の柱状結晶11を長くしたほ
うが良いが、柱状結晶11が長くなると、柱状結晶の1
1の側面から他の柱状結晶口に伝播する蛍光の量が増加
し、解像度を低下させる。そのため、柱状結晶11の長
さをあまり長くすることはできず、400μm程度が限
度である。
ステムにおいて、被写体3のX線被爆を少なくするため
には、被写体3を通過したX線を損失無く入力面の蛍光
体層12に入力させて、その吸収量を多くすることが要
求される。そして、蛍光体層12におけるX線吸収量を
多くするためには、蛍光体の柱状結晶11を長くしたほ
うが良いが、柱状結晶11が長くなると、柱状結晶の1
1の側面から他の柱状結晶口に伝播する蛍光の量が増加
し、解像度を低下させる。そのため、柱状結晶11の長
さをあまり長くすることはできず、400μm程度が限
度である。
このことを、以下に詳しく説明する。
すなわち、蛍光体層12がX線を吸収することによって
発光する蛍光のうち、ある1つの柱状結晶ll中のA点
で発生した蛍光について考えてみると、A点で発光した
蛍光のうち隣接する柱状結晶11との間の間隙16に入
射する角度θが、屈折率をNとして、 θc = 5tn−’ (1/N) ・= (a)で定
義される臨界角θC(蛍光体のCsIの屈折率を1.8
4として、臨界角00233度)よりも大きい光線R1
は、柱状結晶11と間隙16の界面で全反射を繰返しな
がら、光電面14側に導かれる。
発光する蛍光のうち、ある1つの柱状結晶ll中のA点
で発生した蛍光について考えてみると、A点で発光した
蛍光のうち隣接する柱状結晶11との間の間隙16に入
射する角度θが、屈折率をNとして、 θc = 5tn−’ (1/N) ・= (a)で定
義される臨界角θC(蛍光体のCsIの屈折率を1.8
4として、臨界角00233度)よりも大きい光線R1
は、柱状結晶11と間隙16の界面で全反射を繰返しな
がら、光電面14側に導かれる。
そして、間隙16に入射する角度θが臨界角θCよりも
小さい光線R2は、隣接する柱状結晶11に次々に拡散
し、発光したA点から遠く離れた位置で透明導電膜13
に入射角αで入射する。
小さい光線R2は、隣接する柱状結晶11に次々に拡散
し、発光したA点から遠く離れた位置で透明導電膜13
に入射角αで入射する。
ここで、蛍光体のCslの屈折率1.84に対して、透
明導電膜13の酸化インジウムの屈折率は約2と大きい
ため、光線R2の大部分が光電面14側に透過してしま
う。
明導電膜13の酸化インジウムの屈折率は約2と大きい
ため、光線R2の大部分が光電面14側に透過してしま
う。
また、光線R2と対称的な方向に向かう光線R3も、発
光したA点から遠く離れた位置で反射層15で反射され
た上で、さらに、遠く離れた位置の透明導電膜13に入
射する。
光したA点から遠く離れた位置で反射層15で反射され
た上で、さらに、遠く離れた位置の透明導電膜13に入
射する。
光線R1で代表される蛍光成分は、隣接する柱状結晶1
1に拡散しないで、発光した1つの柱状結晶il中を伝
播して光電面I4に導かれるため、X線の入射位置情報
を高い精度で保つことができるが、その一方で、光線R
2,R3で代表される蛍光成分は、隣接する柱状結晶1
1に次々に伝播するため、入力面4におけるX線の入射
位置情報を低下させ、すなわち解像度を低下させる要因
となっている。
1に拡散しないで、発光した1つの柱状結晶il中を伝
播して光電面I4に導かれるため、X線の入射位置情報
を高い精度で保つことができるが、その一方で、光線R
2,R3で代表される蛍光成分は、隣接する柱状結晶1
1に次々に伝播するため、入力面4におけるX線の入射
位置情報を低下させ、すなわち解像度を低下させる要因
となっている。
この解像度低下の要因となる光線R2で代表される蛍光
成分は、柱状結晶11が長くなると増加するため、先に
説明したように、柱状結晶11の長さをあまり長くする
ことはできず、400μm程度が限度であった。
成分は、柱状結晶11が長くなると増加するため、先に
説明したように、柱状結晶11の長さをあまり長くする
ことはできず、400μm程度が限度であった。
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、入力面
の蛍光体層に蛍光体の柱状結晶の集合体を用いたX線イ
メージ管において、解像特性を大幅に改善しようとする
ものである。
の蛍光体層に蛍光体の柱状結晶の集合体を用いたX線イ
メージ管において、解像特性を大幅に改善しようとする
ものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、真空外囲器の一端部に設けられた入力面によ
りX線を光電子に変換し、この入力面からの光電子を入
力面に対向して真空外囲器の他端部に設けられた出力面
により可視光線に変換するX線イメージ管において、請
求項1は、入力面が、型の所定形状の表面に成長させら
れた蛍光体の多数の柱状結晶を有する蛍光体層と、この
蛍光体層の上記型を剥離した剥離面に形成された上記蛍
光体よりも小さい屈折率を有する低屈折率層と、この低
屈折率層の上に直接あるいは間接に形成された光電面と
を具備したものである。
りX線を光電子に変換し、この入力面からの光電子を入
力面に対向して真空外囲器の他端部に設けられた出力面
により可視光線に変換するX線イメージ管において、請
求項1は、入力面が、型の所定形状の表面に成長させら
れた蛍光体の多数の柱状結晶を有する蛍光体層と、この
蛍光体層の上記型を剥離した剥離面に形成された上記蛍
光体よりも小さい屈折率を有する低屈折率層と、この低
屈折率層の上に直接あるいは間接に形成された光電面と
を具備したものである。
また、請求項2は、入力面が、型の所定形状の表面に形
成された低屈折率層と、この低屈折率層の上に成長させ
られた上記低屈折率層よりも高い屈折率を有する蛍光体
の多数の柱状結晶を有する蛍光体層と、上記低屈折率層
の上記型を剥離した剥離面の上に直接あるいは間接に形
成された光電面とを具備したものである。
成された低屈折率層と、この低屈折率層の上に成長させ
られた上記低屈折率層よりも高い屈折率を有する蛍光体
の多数の柱状結晶を有する蛍光体層と、上記低屈折率層
の上記型を剥離した剥離面の上に直接あるいは間接に形
成された光電面とを具備したものである。
(作用)
本発明のX線イメージ管では、入力面の蛍光体層を構成
する柱状結晶中でX線を吸収して発光した蛍光のうち、
全反射によりその柱状結晶中で光電面側に導かれる蛍光
成分が、低屈折率層を介して光電面に吸収される。そし
て、この蛍光成分以外の有害な蛍光成分つまり従来入力
面の解像度を低下させていた蛍光成分は、蛍光体層と低
屈折率層の界面で全反射されて光電面と反対の方向に押
し戻され、実質的に光電面に吸収されることがない。
する柱状結晶中でX線を吸収して発光した蛍光のうち、
全反射によりその柱状結晶中で光電面側に導かれる蛍光
成分が、低屈折率層を介して光電面に吸収される。そし
て、この蛍光成分以外の有害な蛍光成分つまり従来入力
面の解像度を低下させていた蛍光成分は、蛍光体層と低
屈折率層の界面で全反射されて光電面と反対の方向に押
し戻され、実質的に光電面に吸収されることがない。
さらに、請求項2では、蛍光体層を構成する多数の柱状
結晶の間隙に起因するピンホールが低屈折率層に発生し
ないものである。
結晶の間隙に起因するピンホールが低屈折率層に発生し
ないものである。
(実施例)
本発明のX線イメージ管の実施例を図面を参照して説明
する。
する。
第4図はX線イメージ管の断面を示し、21は真空外囲
器で、この真空外囲器21は、X線を透過する球面状の
金属から成る入力窓22と、この人力窓22の外周にそ
の一端部を気密に封着された金属から成る円筒状の胴部
23と、この胴部23の他端部にその一端部を気密に封
着されたコバールから成る漏斗状の封着部材24と、こ
の封着部材24の他端部に気密に封着されたガラスから
成る出力窓25とで構成されている。
器で、この真空外囲器21は、X線を透過する球面状の
金属から成る入力窓22と、この人力窓22の外周にそ
の一端部を気密に封着された金属から成る円筒状の胴部
23と、この胴部23の他端部にその一端部を気密に封
着されたコバールから成る漏斗状の封着部材24と、こ
の封着部材24の他端部に気密に封着されたガラスから
成る出力窓25とで構成されている。
そして、上記入力窓22の内側に蛍光体層と光電面を備
えた入力面26が設けられ、この入力面2Gに対向して
上記出力窓25の内側に蛍光体層を備えた出力面27が
形成され、この出力面27の内側に位置して上記封着部
材24の内側に陽極28が設けられ、さらに、上記胴部
23の内側に集束電極29が設けられている。
えた入力面26が設けられ、この入力面2Gに対向して
上記出力窓25の内側に蛍光体層を備えた出力面27が
形成され、この出力面27の内側に位置して上記封着部
材24の内側に陽極28が設けられ、さらに、上記胴部
23の内側に集束電極29が設けられている。
そうして、このX線イメージ管では、入力窓22に入射
したX線像が、入力面26において、蛍光体層を発光さ
せ、この蛍光により光電面が光電子を発生して、光電子
像に変換され、この光電子像は、陽極28と集束電極2
9により加速・集束されて出力面27に到達し、蛍光体
層により高輝度の可視光像に変換される。
したX線像が、入力面26において、蛍光体層を発光さ
せ、この蛍光により光電面が光電子を発生して、光電子
像に変換され、この光電子像は、陽極28と集束電極2
9により加速・集束されて出力面27に到達し、蛍光体
層により高輝度の可視光像に変換される。
ここで、この発明の要部である入力面を説明する。
第1図及び第2図は請求項1に対応した第1実施例の入
力面の断面構造及び表面状態を示すものである。
力面の断面構造及び表面状態を示すものである。
始めに、この第1実施例の入力面の製造方法を説明する
。
。
まず、入力面の形状に適合した所定の凸面形状の表面を
有し、かつ、この凸面形状の表面を鏡面に仕上げたステ
ンレスから成る図示しない型を用意し、この図示しない
型を真空蒸着装置に入れ、この型の鏡面仕上げした凸面
形状の表面にCsI/ N a蛍光体を蒸着し、型の表
面に多数のCsI/ N a蛍光体の結晶粒子31を形
成し、さらに、この結晶粒子31の突起部分を種として
、結晶粒子31上に柱状結晶32を成長させ、多数のC
sI/Na蛍光体の柱状結晶32から成る蛍光体層33
を約4゜0μmの膜厚に蒸着する。
有し、かつ、この凸面形状の表面を鏡面に仕上げたステ
ンレスから成る図示しない型を用意し、この図示しない
型を真空蒸着装置に入れ、この型の鏡面仕上げした凸面
形状の表面にCsI/ N a蛍光体を蒸着し、型の表
面に多数のCsI/ N a蛍光体の結晶粒子31を形
成し、さらに、この結晶粒子31の突起部分を種として
、結晶粒子31上に柱状結晶32を成長させ、多数のC
sI/Na蛍光体の柱状結晶32から成る蛍光体層33
を約4゜0μmの膜厚に蒸着する。
なお、この蛍光体層33は、多数の柱状結晶32が互い
に間隙34を介して光学的に分離した状態で隣接した構
造となっている。
に間隙34を介して光学的に分離した状態で隣接した構
造となっている。
そして、上記型の上に形成した蛍光体層33の上に、高
周波スパッタリング法により、カーボンから成る光吸収
層35と5in2から成る被覆層36を順次に形成する
。
周波スパッタリング法により、カーボンから成る光吸収
層35と5in2から成る被覆層36を順次に形成する
。
この後、上記型及びその上に形成された蛍光体層33等
から成る積層膜37aを加熱することにより、型と蛍光
体層33の熱膨張率の相違によって、型から積層膜37
1を剥離する。
から成る積層膜37aを加熱することにより、型と蛍光
体層33の熱膨張率の相違によって、型から積層膜37
1を剥離する。
この際、上記5in2から成る被覆層36は、柱状結晶
32から成る蛍光体層33の強度を補強し、剥離による
蛍光体層33の破壊を防止するようになっている。
32から成る蛍光体層33の強度を補強し、剥離による
蛍光体層33の破壊を防止するようになっている。
なお、蛍光体層33の剥離面は、型の表面が鏡面となっ
ているのに対応して、鏡面となっている。
ているのに対応して、鏡面となっている。
そして、蛍光体層33の剥離面に、たとえば5in2か
ら成る低屈折率層38aを約2μmの厚さで形成し、こ
の低屈折率層38aの表面に透明導電膜39と、たとえ
ばに2CsSb等の光電面40を順次に形成する。
ら成る低屈折率層38aを約2μmの厚さで形成し、こ
の低屈折率層38aの表面に透明導電膜39と、たとえ
ばに2CsSb等の光電面40を順次に形成する。
つぎに、この第1実施例の入力面の作用を説明する。
この入力面の蛍光体層33のあるひとつの柱状結晶32
中のB点でX線が吸収されて蛍光を発したとすると、B
点から様々な方向に発光した蛍光のうち、隣接した柱状
結晶32との間の隙間34に入射する角度θが、先の(
a)式で定義される臨界角θCよりも大きい光線R1は
、柱状結晶32と隙間34の界面で全反射を繰返しなが
ら、光電面40側に導かれる。
中のB点でX線が吸収されて蛍光を発したとすると、B
点から様々な方向に発光した蛍光のうち、隣接した柱状
結晶32との間の隙間34に入射する角度θが、先の(
a)式で定義される臨界角θCよりも大きい光線R1は
、柱状結晶32と隙間34の界面で全反射を繰返しなが
ら、光電面40側に導かれる。
隙間34に入射する角度θが、臨界角θCよりも小さい
光線R2は、隣接する柱状結晶32に次々に拡散し、発
光したB点から遠く離れた低屈折率層38gとの界面の
0点に入射角αで入射する。
光線R2は、隣接する柱状結晶32に次々に拡散し、発
光したB点から遠く離れた低屈折率層38gとの界面の
0点に入射角αで入射する。
このとき、蛍光体層33の表面は、実質的に平坦な鏡面
となっているため、低屈折率層38aの蛍光体に対する
相対屈折率Nrが、 Nr≦ 5in(90°−θc) =0.839− (
b)を満たす場合には、θ〈θCとなる全ての光線R2
は、0点で全反射して光電面40に入射することができ
ない。
となっているため、低屈折率層38aの蛍光体に対する
相対屈折率Nrが、 Nr≦ 5in(90°−θc) =0.839− (
b)を満たす場合には、θ〈θCとなる全ての光線R2
は、0点で全反射して光電面40に入射することができ
ない。
そして、0点で全反射した光線R2は、蛍光体層33の
X線が入射する側の表面に対して、やはり入射角αで入
射するが、光吸収層35の蛍光に対する吸収率が90〜
95%と高いため、光線R2はこの光吸収層35に有効
に吸収されてしまう。
X線が入射する側の表面に対して、やはり入射角αで入
射するが、光吸収層35の蛍光に対する吸収率が90〜
95%と高いため、光線R2はこの光吸収層35に有効
に吸収されてしまう。
なお、(b)式より、低屈折率層38aの屈折率Nの満
たすべき条件は、 N22.54・・・(e) で表わされる。
たすべき条件は、 N22.54・・・(e) で表わされる。
低屈折率層3hのSin、の屈折率Nは、約1.46で
あり、(C)式を満たしているので、光線R2は、光電
面40に入射することなく、消滅してしまう。
あり、(C)式を満たしているので、光線R2は、光電
面40に入射することなく、消滅してしまう。
このように、従来、入力面の解像特性を劣化させる要因
であった光線R2で代表される蛍光成分が、光電面40
に吸収されることがないため、第5図に示すように、こ
の第1実施例の入力面のMTF特性は、従来に比べて大
幅に向上し、この結果、第6図に示すように、この入力
面を有するX線イメージ管のMTF特性は、同一の膜厚
の入力蛍光体層を有する従来のX線イメージ管に比べて
大幅に向上した。
であった光線R2で代表される蛍光成分が、光電面40
に吸収されることがないため、第5図に示すように、こ
の第1実施例の入力面のMTF特性は、従来に比べて大
幅に向上し、この結果、第6図に示すように、この入力
面を有するX線イメージ管のMTF特性は、同一の膜厚
の入力蛍光体層を有する従来のX線イメージ管に比べて
大幅に向上した。
第3図は請求項2に対応した第2実施例の入力面の断面
構造を示すものである。
構造を示すものである。
始めに、この第2実施例の入力面の製造方法を説明する
。
。
まず、第1実施例と同様の型を用い、この型の鏡面仕上
げした凸面形状の表面にNaFから成る低屈折率層38
bを、I X 10−’Torr以下の高真空下で、約
2μmの厚さで蒸着する。
げした凸面形状の表面にNaFから成る低屈折率層38
bを、I X 10−’Torr以下の高真空下で、約
2μmの厚さで蒸着する。
この後、低屈折率層38bの表面に、第1実施例と同様
の方法で、多数のCsl/Na蛍光体の柱状結晶32か
ら威る蛍光体層33、カーボンから成る光吸収層35.
5in2から威る被覆層36を順次に積層形成する。
の方法で、多数のCsl/Na蛍光体の柱状結晶32か
ら威る蛍光体層33、カーボンから成る光吸収層35.
5in2から威る被覆層36を順次に積層形成する。
この後、加熱により、型と低屈折率層38bの熱膨張率
の相違によって、型から低屈折率層38b1蛍光体層3
3等から成る積層膜37bを剥離し、低屈折率層38b
の剥離面に、透明導電膜39と、たとえばに2CsSb
等の光電面40を順次に形成する。
の相違によって、型から低屈折率層38b1蛍光体層3
3等から成る積層膜37bを剥離し、低屈折率層38b
の剥離面に、透明導電膜39と、たとえばに2CsSb
等の光電面40を順次に形成する。
つぎに、この第2実施例の入力面の作用を説明する。
この第2実施例の入力面は、低屈折率層38bのNaF
の屈折率Nが、約1.32であり、(C)式を満たして
いるので、先の第1実施例の入力面と同様の作用及び効
果を有し、入力面のMTF特性及びX線イメージ管のM
TF特性が従来のX線イメージ管に比べて大幅に向上し
た。
の屈折率Nが、約1.32であり、(C)式を満たして
いるので、先の第1実施例の入力面と同様の作用及び効
果を有し、入力面のMTF特性及びX線イメージ管のM
TF特性が従来のX線イメージ管に比べて大幅に向上し
た。
そして、この第2実施例の入力面は、先の第■実施例の
入力面と同様の作用及び効果を有する他、第1実施例の
入力面よりも優れた点がある。
入力面と同様の作用及び効果を有する他、第1実施例の
入力面よりも優れた点がある。
すなわち、先の第1実施例の入力面では、第2図に示す
ように、蛍光体層33を構成する多数の柱状結晶32の
間隙34に起因するピンホール41が低屈折率層38m
や透明導電膜39にできてしまい、この結果、光電面4
0の感度に悪影響を及ぼす。
ように、蛍光体層33を構成する多数の柱状結晶32の
間隙34に起因するピンホール41が低屈折率層38m
や透明導電膜39にできてしまい、この結果、光電面4
0の感度に悪影響を及ぼす。
光電面40の形成は約100℃以上の高温で行なわれる
ため、光電面40の形成の際に、光電面40を構成する
物質がピンホール41を介して蛍光体層33側に徐々に
拡散して消失し、光電面40の形成工程の終了時には、
光電面40の感度が低下してしまうが、この第2実施例
の入力面では、低屈折率層38bが型の表面で形成され
るため、低屈折率層38bや透明導電膜39にピンホー
ル41ができず、したがって、光電面40の感度が低下
することがない。
ため、光電面40の形成の際に、光電面40を構成する
物質がピンホール41を介して蛍光体層33側に徐々に
拡散して消失し、光電面40の形成工程の終了時には、
光電面40の感度が低下してしまうが、この第2実施例
の入力面では、低屈折率層38bが型の表面で形成され
るため、低屈折率層38bや透明導電膜39にピンホー
ル41ができず、したがって、光電面40の感度が低下
することがない。
また、上記第1実施例及び第2実施例の構成で、蛍光体
層33の膜厚を約2.6倍の1000μmとしたものを
作ったが、この場合にも、X線イメージ管のMTF特性
が従来と比べて全く変わらず、従来よりも、X線の利用
効率が向上し、X線の量子ノイズがより少ない、優れた
画像が得られ、診断等に有効なことが確認できた。
層33の膜厚を約2.6倍の1000μmとしたものを
作ったが、この場合にも、X線イメージ管のMTF特性
が従来と比べて全く変わらず、従来よりも、X線の利用
効率が向上し、X線の量子ノイズがより少ない、優れた
画像が得られ、診断等に有効なことが確認できた。
なお、上述した実施例では、低屈折率層38a。
38bの材質として、5in2、NaFを選んだが、(
C)式を満たす物質として、たとえば、L i F。
C)式を満たす物質として、たとえば、L i F。
C5FSCaF2、BaF2、MgF2、Na3AlF
6等を選んだり、これらの物質のいくつかを積層した多
層構造としても良い。
6等を選んだり、これらの物質のいくつかを積層した多
層構造としても良い。
また、低屈折率層3+11 、38bの屈折率Nが式(
e)を満たすことは、解像特性の向上の上からは最適で
あるが、NはCslの屈折率(約1.84)よりも小さ
い限り、式(C)を満たさなくても、従来に比べて解像
度を向上させることができる。このような材料としては
、たとえば、K■、KBr1LaF3、NdF3、Ce
F、等を選ぶことができる。
e)を満たすことは、解像特性の向上の上からは最適で
あるが、NはCslの屈折率(約1.84)よりも小さ
い限り、式(C)を満たさなくても、従来に比べて解像
度を向上させることができる。このような材料としては
、たとえば、K■、KBr1LaF3、NdF3、Ce
F、等を選ぶことができる。
また、上述した実施例では、光吸収層35にカーボンを
用いたが、光吸収層35の素材として、蛍光波長域で光
吸収率が高い任意の素材を利用することができる。
用いたが、光吸収層35の素材として、蛍光波長域で光
吸収率が高い任意の素材を利用することができる。
また、蛍光体層33のX線入射側の表面が平坦でない場
合には、従来MTF特性を劣化させる要因であった蛍光
成分を有効に入力面外に逃がすことが可能であるため、
光吸収層35がなくても、従来に比べて、MTF特性を
向上させることができる。
合には、従来MTF特性を劣化させる要因であった蛍光
成分を有効に入力面外に逃がすことが可能であるため、
光吸収層35がなくても、従来に比べて、MTF特性を
向上させることができる。
また、上述した実施例では、補強の目的で形成する被覆
層36の材質にSiO2を用いたが、被覆層36材質と
して、任意の材料を選ぶことができ、たとえば、CdS
等を用いることにより、光吸収層35の機能を兼ね備え
ることもできる。
層36の材質にSiO2を用いたが、被覆層36材質と
して、任意の材料を選ぶことができ、たとえば、CdS
等を用いることにより、光吸収層35の機能を兼ね備え
ることもできる。
また、蛍光体層33のCsI/Na蛍光体の蒸着条件を
適当に選ぶことにより、柱状結晶32のライトガイド効
果を実質的に低下させない範囲で、柱状結晶32同志の
機械的結合力を増加させ、被覆層36による補強を不要
にすることも可能である。
適当に選ぶことにより、柱状結晶32のライトガイド効
果を実質的に低下させない範囲で、柱状結晶32同志の
機械的結合力を増加させ、被覆層36による補強を不要
にすることも可能である。
上述したように、本発明によれば、入力面の蛍光体層に
蛍光体の柱状結晶の集合体を用いたX線イメージ管にお
いて、柱状結晶中でX線を吸収して発光した蛍光のうち
、全反射によりその柱状結晶中で光電面側に導かれる蛍
光成分が、低屈折率層を介して光電面に吸収され、この
蛍光成分以外の隣接した柱状結晶に拡散した有害な蛍光
成分つまり従来入力面の解像度を低下させていた蛍光成
分は、蛍光体層と低屈折率層の界面で全反射されて光電
面と反対の方向に押し戻され、実質的に光電面に吸収さ
れないので、解像特性を大幅に向上させることができ、
そして、蛍光体層の柱状結晶を長くしても、解像特性が
低下することがない。
蛍光体の柱状結晶の集合体を用いたX線イメージ管にお
いて、柱状結晶中でX線を吸収して発光した蛍光のうち
、全反射によりその柱状結晶中で光電面側に導かれる蛍
光成分が、低屈折率層を介して光電面に吸収され、この
蛍光成分以外の隣接した柱状結晶に拡散した有害な蛍光
成分つまり従来入力面の解像度を低下させていた蛍光成
分は、蛍光体層と低屈折率層の界面で全反射されて光電
面と反対の方向に押し戻され、実質的に光電面に吸収さ
れないので、解像特性を大幅に向上させることができ、
そして、蛍光体層の柱状結晶を長くしても、解像特性が
低下することがない。
また、請求項2によると、蛍光体層を構成する多数の柱
状結晶の間隙に起因するピンホールが低屈折率層に発生
しないので、光電面を構成する物質が蛍光体層に拡散し
て消失することが少なく、光電面の感度が低下し難くな
る。
状結晶の間隙に起因するピンホールが低屈折率層に発生
しないので、光電面を構成する物質が蛍光体層に拡散し
て消失することが少なく、光電面の感度が低下し難くな
る。
第1図ないし第4図は本発明のX線イメージ管の実施例
を示し、第1図は請求項1に対応した第1実施例の入力
面の第2図のI−I断面の構造図、第2図はその表面の
状態図、第3図は請求項2に対応した第2実施例の入力
面の断面構造図、第4図はX線イメージ管の構造図、第
5図は入力面のMTF特性の比較図、第6図はX線イメ
ージ管のMTF特性の比較図であり、第7図はX線イメ
ージ管の一般的な使用状態の説明図、第8図は従来のX
線イメージ管の入力面の断面構造図である。 21・・真空外囲器、26・・入力面、27・・出力面
、 32・ 柱状結晶、 33・ 蛍光体層、 8a 8b 低屈折率層、 40・ ・光電面。 )#X−徐 むりl」
を示し、第1図は請求項1に対応した第1実施例の入力
面の第2図のI−I断面の構造図、第2図はその表面の
状態図、第3図は請求項2に対応した第2実施例の入力
面の断面構造図、第4図はX線イメージ管の構造図、第
5図は入力面のMTF特性の比較図、第6図はX線イメ
ージ管のMTF特性の比較図であり、第7図はX線イメ
ージ管の一般的な使用状態の説明図、第8図は従来のX
線イメージ管の入力面の断面構造図である。 21・・真空外囲器、26・・入力面、27・・出力面
、 32・ 柱状結晶、 33・ 蛍光体層、 8a 8b 低屈折率層、 40・ ・光電面。 )#X−徐 むりl」
Claims (2)
- (1)真空外囲器の一端部に設けられた入力面によりX
線を光電子に変換し、この入力面からの光電子を入力面
に対向して真空外囲器の他端部に設けられた出力面によ
り可視光線に変換するX線イメージ管において、 上記入力面は、型の所定形状の表面に成長させられた蛍
光体の多数の柱状結晶を有する蛍光体層と、この蛍光体
層の上記型を剥離した剥離面に形成された上記蛍光体よ
りも小さい屈折率を有する低屈折率層と、この低屈折率
層の上に直接あるいは間接に形成された光電面とを具備
したことを特徴とするX線イメージ管。 - (2)真空外囲器の一端部に設けられた入力面によりX
線を光電子に変換し、この入力面からの光電子を入力面
に対向して真空外囲器の他端部に設けられた出力面によ
り可視光線に変換するX線イメージ管において、 上記入力面は、型の所定形状の表面に形成された低屈折
率層と、この低屈折率層の上に成長させられた上記低屈
折率層よりも高い屈折率を有する蛍光体の多数の柱状結
晶を有する蛍光体層と、上記低屈折率層の上記型を剥離
した剥離面の上に直接あるいは間接に形成された光電面
とを具備したことを特徴とするX線イメージ管。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19561789A JPH0362437A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | X線イメージ管 |
US07/524,488 US5029247A (en) | 1989-06-20 | 1990-05-17 | X-ray image intensifier and method of manufacturing input screen |
EP90109377A EP0403802B1 (en) | 1989-06-20 | 1990-05-17 | X-ray image intensifier and method of manufacturing input screen |
DE69030464T DE69030464T2 (de) | 1989-06-20 | 1990-05-17 | Röntgenbildverstärker und Verfahren zur Herstellung des Eingangsschirmes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19561789A JPH0362437A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | X線イメージ管 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0362437A true JPH0362437A (ja) | 1991-03-18 |
Family
ID=16344148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19561789A Pending JPH0362437A (ja) | 1989-06-20 | 1989-07-28 | X線イメージ管 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0362437A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014235921A (ja) * | 2013-06-04 | 2014-12-15 | 株式会社東芝 | イメージ管およびその製造方法 |
-
1989
- 1989-07-28 JP JP19561789A patent/JPH0362437A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014235921A (ja) * | 2013-06-04 | 2014-12-15 | 株式会社東芝 | イメージ管およびその製造方法 |
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