JPS59201349A - 螢光スクリ−ン及びその製造方法 - Google Patents
螢光スクリ−ン及びその製造方法Info
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- JPS59201349A JPS59201349A JP7504083A JP7504083A JPS59201349A JP S59201349 A JPS59201349 A JP S59201349A JP 7504083 A JP7504083 A JP 7504083A JP 7504083 A JP7504083 A JP 7504083A JP S59201349 A JPS59201349 A JP S59201349A
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- fluorescent screen
- light
- core material
- covering material
- phosphor layer
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/18—Luminescent screens
- H01J29/30—Luminescent screens with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots, in lines
- H01J29/32—Luminescent screens with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots, in lines with adjacent dots or lines of different luminescent material, e.g. for colour television
- H01J29/327—Black matrix materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/18—Luminescent screens
- H01J29/24—Supports for luminescent material
Landscapes
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、基板にファイバープレートを用いその面上
に螢光体層を形成した螢光スクリーン及びその製造方法
に関する。
に螢光体層を形成した螢光スクリーン及びその製造方法
に関する。
一般に螢光スクリーンを内蔵するイメージ管例えばX線
螢光増倍管は、医療用を主に工業用非破壊検査などX線
工業テレビを併用して広範囲に応用されている。この種
の−X線螢光増倍管は第1図に示すように構成され、主
としてガラスよりなる真空外囲器1の入力側内部に入力
面lが配設されている。一方、真空外囲器)の出力側内
部には、陽極3が配設されると共に出力面!が設けられ
、更に真空外囲器1内部の側壁に沿って集束電極5が配
設されている。前記入力面lは球面状のMからなる基板
6の出力側(凹面側)にCsI の入力螢光体層7が
形成され、この入力螢光体層7の上に更に光電面8が形
成されている。又、出力面りは基板9に出力螢光体層1
0を形成してなっている。そしイ@h作時には、X線(
図示せず)は被写体(図示せず)を通過する際、被写体
のX線透過率によ−って:変調されて、入力螢光体層2
を励起する。入力螢光体層7の励起光は入力螢光体層7
の内面に形成され一部いる光電面8にエネルギーを与え
、光電面8エリ電子を放出させる。この電子は陽極3、
集束電極5で構成される電子レンズ作用により出力螢光
体層10上に加速集束し、出力螢光体層10を発光させ
る。このような過程で電子の増倍が行なわれ、入力螢光
体層7で得られる光像より格段に明るい像が出力螢光体
層10に得られる〇 ところで、上記のようなX線螢光増倍管の出力螢光体層
の保持基板としてファイバープレート(光学繊維束板)
を用いる例の1つとして、特開昭53−24770号公
報に開示されたようにファイバープレートに出力螢光体
層を形成してコントラストを改善する提案がある。この
提案の概略を第2図に示すが基板であるファイバープレ
ート12に出力螢光体層10を形成してなる出力面1−
6を真空外囲器1の出力側に配置したものである。この
提案の如く出力面1−6の基板としてファイバープレー
ト1−7を用いた場合、出力螢光体層10での発光がフ
ァイバープレー)77表面で全反射されて再度出力螢光
体層1011C戻ってコントラスト低下を生じさせるこ
とはない。従って、基板にガラスを用いた場合と比較し
て、優れたコントラスト像が得られる。しかし、X線螢
光増倍管の出力像をTV左カメラで撮像し、デジタル信
号に変換して画像処理を行なうシステム(デジタルフル
オルスコピー)においては、非常にコントラストの悪い
放射線像をデジタル化する必要がある。
螢光増倍管は、医療用を主に工業用非破壊検査などX線
工業テレビを併用して広範囲に応用されている。この種
の−X線螢光増倍管は第1図に示すように構成され、主
としてガラスよりなる真空外囲器1の入力側内部に入力
面lが配設されている。一方、真空外囲器)の出力側内
部には、陽極3が配設されると共に出力面!が設けられ
、更に真空外囲器1内部の側壁に沿って集束電極5が配
設されている。前記入力面lは球面状のMからなる基板
6の出力側(凹面側)にCsI の入力螢光体層7が
形成され、この入力螢光体層7の上に更に光電面8が形
成されている。又、出力面りは基板9に出力螢光体層1
0を形成してなっている。そしイ@h作時には、X線(
図示せず)は被写体(図示せず)を通過する際、被写体
のX線透過率によ−って:変調されて、入力螢光体層2
を励起する。入力螢光体層7の励起光は入力螢光体層7
の内面に形成され一部いる光電面8にエネルギーを与え
、光電面8エリ電子を放出させる。この電子は陽極3、
集束電極5で構成される電子レンズ作用により出力螢光
体層10上に加速集束し、出力螢光体層10を発光させ
る。このような過程で電子の増倍が行なわれ、入力螢光
体層7で得られる光像より格段に明るい像が出力螢光体
層10に得られる〇 ところで、上記のようなX線螢光増倍管の出力螢光体層
の保持基板としてファイバープレート(光学繊維束板)
を用いる例の1つとして、特開昭53−24770号公
報に開示されたようにファイバープレートに出力螢光体
層を形成してコントラストを改善する提案がある。この
提案の概略を第2図に示すが基板であるファイバープレ
ート12に出力螢光体層10を形成してなる出力面1−
6を真空外囲器1の出力側に配置したものである。この
提案の如く出力面1−6の基板としてファイバープレー
ト1−7を用いた場合、出力螢光体層10での発光がフ
ァイバープレー)77表面で全反射されて再度出力螢光
体層1011C戻ってコントラスト低下を生じさせるこ
とはない。従って、基板にガラスを用いた場合と比較し
て、優れたコントラスト像が得られる。しかし、X線螢
光増倍管の出力像をTV左カメラで撮像し、デジタル信
号に変換して画像処理を行なうシステム(デジタルフル
オルスコピー)においては、非常にコントラストの悪い
放射線像をデジタル化する必要がある。
従って、システムの一部であるX線螢光増倍管での僅か
なコントラストの低下が、処理される画像に重大な影響
を与える。具体的には、ファイバープレートIJの出力
側でのコントラストは約97チ、換言すれば約3チバツ
クグラウンドを上昇させる。これは8ビツト(256階
調)以上のデジタル化を行なう場合、好ましくない。
なコントラストの低下が、処理される画像に重大な影響
を与える。具体的には、ファイバープレートIJの出力
側でのコントラストは約97チ、換言すれば約3チバツ
クグラウンドを上昇させる。これは8ビツト(256階
調)以上のデジタル化を行なう場合、好ましくない。
ここで、第3図により、基板としてファイバープレート
1−7を用いた出力面1−6における発光経路を説明す
る。先ず、出力螢光体層1oが電子e′によって励起発
光される。その発光がファイバープレート1−7の芯材
17ノに入射した場合1o1゜芯材171と被覆材17
2の屈折率n1及びn2の臨界角 θc、=虐1−− n菖 に対して了−θC1エリも小さい角度でファイバープレ
ート1−7内に出射された光は、芯材171の中を全反
射を繰り返しながら径方向に広がらないで、ファイバー
プレート1−7の出口表面まで伝達され、信号光となる
。又、号−θclり大きい角度でファイバープレート1
−7内に出射された光は、光の吸収体173を多数回通
過しながら減衰され、又、殆どがファイバープレート1
−7の出口表面で全反射され、再び吸収体17Bを通過
しながら消滅する。しかし、ファイバープレートIJの
被覆材172に出射された光で、臨界角θQH”画一1
(n、 :真空中の屈折本)2 よりも小さい角度で出射された場合、小さい角度である
ほど吸収体173で減衰されずに、ファイバープレート
1−7の出口表面の被覆材172から放出される。放出
された光の一部103及び104は、真空外囲器1の一
部を構成する出力窓1Bの表面にてフレネル反射され、
再びファイバープレート!−7表面に到達し、ストレー
光(迷光)となって側修コントラストを低下させる0 〔発明の目的〕 この発明の目的は、画像コントラストの低下を防止した
螢光スクリーン及びその製造方法を提供することである
。
1−7を用いた出力面1−6における発光経路を説明す
る。先ず、出力螢光体層1oが電子e′によって励起発
光される。その発光がファイバープレート1−7の芯材
17ノに入射した場合1o1゜芯材171と被覆材17
2の屈折率n1及びn2の臨界角 θc、=虐1−− n菖 に対して了−θC1エリも小さい角度でファイバープレ
ート1−7内に出射された光は、芯材171の中を全反
射を繰り返しながら径方向に広がらないで、ファイバー
プレート1−7の出口表面まで伝達され、信号光となる
。又、号−θclり大きい角度でファイバープレート1
−7内に出射された光は、光の吸収体173を多数回通
過しながら減衰され、又、殆どがファイバープレート1
−7の出口表面で全反射され、再び吸収体17Bを通過
しながら消滅する。しかし、ファイバープレートIJの
被覆材172に出射された光で、臨界角θQH”画一1
(n、 :真空中の屈折本)2 よりも小さい角度で出射された場合、小さい角度である
ほど吸収体173で減衰されずに、ファイバープレート
1−7の出口表面の被覆材172から放出される。放出
された光の一部103及び104は、真空外囲器1の一
部を構成する出力窓1Bの表面にてフレネル反射され、
再びファイバープレート!−7表面に到達し、ストレー
光(迷光)となって側修コントラストを低下させる0 〔発明の目的〕 この発明の目的は、画像コントラストの低下を防止した
螢光スクリーン及びその製造方法を提供することである
。
この発明は、ファイバーが芯材、被覆材笈び吸収体から
なるファイバープレートの面上に螢光体層を形成してな
る螢光スクリーンにおいて、上記ファイバープレートの
少なくとも螢光体層側と反対側の面の上記被覆材が上記
芯材に対して凹構造になっている螢光スクリーンである
。
なるファイバープレートの面上に螢光体層を形成してな
る螢光スクリーンにおいて、上記ファイバープレートの
少なくとも螢光体層側と反対側の面の上記被覆材が上記
芯材に対して凹構造になっている螢光スクリーンである
。
又、この発明は、被覆材の凹構造を、被覆材と芯材の軟
化温度の差を利用して形成する螢光スクリーンの製造方
法である。
化温度の差を利用して形成する螢光スクリーンの製造方
法である。
前述のようにX線螢光増倍管の出力面に適用した例を説
明すると、この発明の螢舛スクリーンは第4図に示すよ
うに構成され、従来例(第3図)と同一箇所は同一符号
を付すことにする。
明すると、この発明の螢舛スクリーンは第4図に示すよ
うに構成され、従来例(第3図)と同一箇所は同一符号
を付すことにする。
即ち、基板となるファイバープレート(光学繊維束板)
ノー7は多数のファイバー(単繊維)からなり、各ファ
イバーは芯材171.被覆材172及び吸収体173よ
り構成されている。
ノー7は多数のファイバー(単繊維)からなり、各ファ
イバーは芯材171.被覆材172及び吸収体173よ
り構成されている。
そして、この発明では図からも明らかなように、ファイ
バープレート1−7の螢光体層側と反対側の面(光の出
射側)の上記被覆材172が上記芯材171に対して凹
構造になっている。更に、この凹構造の凹部175には
、無機物又は有機物の光吸収層174が設けられている
。又、ファイバープレート1−7の上記凹構造とは反対
の面(光の入射側)上には、粒状螢光体又は蒸着螢光体
からなる出力螢光体層10が形成され、この出力螢光体
層10上にはメタルバック層11が設けられている。
バープレート1−7の螢光体層側と反対側の面(光の出
射側)の上記被覆材172が上記芯材171に対して凹
構造になっている。更に、この凹構造の凹部175には
、無機物又は有機物の光吸収層174が設けられている
。又、ファイバープレート1−7の上記凹構造とは反対
の面(光の入射側)上には、粒状螢光体又は蒸着螢光体
からなる出力螢光体層10が形成され、この出力螢光体
層10上にはメタルバック層11が設けられている。
さて動作時には、芯材171から出射しようとする出力
螢光体層10の発光は、凹部175に形成された光吸収
層174に吸収され、ファイバープレート1−7の外に
は放出されない。従って、横方向に広がった光は全く放
出されないか、又は芯材111の出口表面にて全反射さ
れ、再び吸収体173を通過しながら減衰し消滅する0
又、ファイバープレート1−7のライトガイド効果を受
けないで横方向に放出された光が放出されなければ、上
記出力窓18におけるフレネル反射は、信号光101に
対゛してのみ生じ、広い領域での光の反射103,10
4は生じない。下記表1にファイバープレート1−7に
入射したメリデイオナル光(子午光)の行路を示した0 e ■ ■ ■ 但し、 00128石 −no: 真空屈折率l 上記表1から、被覆材172から入射して別の被覆材1
72から出射されるストレー光を吸収層174によって
吸収し、画像コントラストの低下を防ぐことが可能とな
る。
螢光体層10の発光は、凹部175に形成された光吸収
層174に吸収され、ファイバープレート1−7の外に
は放出されない。従って、横方向に広がった光は全く放
出されないか、又は芯材111の出口表面にて全反射さ
れ、再び吸収体173を通過しながら減衰し消滅する0
又、ファイバープレート1−7のライトガイド効果を受
けないで横方向に放出された光が放出されなければ、上
記出力窓18におけるフレネル反射は、信号光101に
対゛してのみ生じ、広い領域での光の反射103,10
4は生じない。下記表1にファイバープレート1−7に
入射したメリデイオナル光(子午光)の行路を示した0 e ■ ■ ■ 但し、 00128石 −no: 真空屈折率l 上記表1から、被覆材172から入射して別の被覆材1
72から出射されるストレー光を吸収層174によって
吸収し、画像コントラストの低下を防ぐことが可能とな
る。
尚、第5図はこの発明の他の実施例を示したもので、上
記実施例と同様効果(後述)が得られる。即ち、上記実
施例(第4図)では、ファイバープレート1−7の一面
で被覆材172が芯材171に対して凹構造となってい
るため、出力薮光体層10側に被朽材172が突出して
いる。この突出したV!覆材172を切除したものが第
5図である。
記実施例と同様効果(後述)が得られる。即ち、上記実
施例(第4図)では、ファイバープレート1−7の一面
で被覆材172が芯材171に対して凹構造となってい
るため、出力薮光体層10側に被朽材172が突出して
いる。この突出したV!覆材172を切除したものが第
5図である。
又、上記各実施例では、ファイバープレート1−7の一
面において被覆材172を凹構造としたが、ファイバー
プレート1−rの両面においてそれぞれ被覆材172を
凹構造とし、吸収層174を設けるよう((シてもよい
。
面において被覆材172を凹構造としたが、ファイバー
プレート1−rの両面においてそれぞれ被覆材172を
凹構造とし、吸収層174を設けるよう((シてもよい
。
以上、被覆材122に光吸収層174を設けることを述
べてきたが、被覆材172が凹構造となることによって
角度の大きい発光は、被覆材172から入射されないし
、又、出射もされない。従って、被覆材172に光吸収
層174を設けなくても、広がりの大きいストレー光は
生じない。上記のように被覆材172を凹構造とするこ
とだけでは不充分であって、光吸収層174を設けるこ
とによって完全にストレー光の吸収が可能となる。
べてきたが、被覆材172が凹構造となることによって
角度の大きい発光は、被覆材172から入射されないし
、又、出射もされない。従って、被覆材172に光吸収
層174を設けなくても、広がりの大きいストレー光は
生じない。上記のように被覆材172を凹構造とするこ
とだけでは不充分であって、光吸収層174を設けるこ
とによって完全にストレー光の吸収が可能となる。
なお、本発明は被覆材の凹構造を少くも出射光側に設け
たかつその理由は次のとおりである。
たかつその理由は次のとおりである。
すなわち、入射光側に被覆材の凹構造を形成した場合、
芯材に広い角度で入射する光が横方向に伝わり、表1の
■に示すストレー光の増加がみられコントラストの低下
をもたらす。しかしながら出射光側および入射光側の両
面に凹構造を形成すれば出射光側のみに凹構造を形成す
る場合に比し、コントラストが向−ヒすることは云うま
でもない。
芯材に広い角度で入射する光が横方向に伝わり、表1の
■に示すストレー光の増加がみられコントラストの低下
をもたらす。しかしながら出射光側および入射光側の両
面に凹構造を形成すれば出射光側のみに凹構造を形成す
る場合に比し、コントラストが向−ヒすることは云うま
でもない。
次に、上記螢光スクリーンの製造方法について説明する
。従来、被覆材172に光吸収層を選択的に設けろため
に、フォトレジストを用いる方法が発表されているが、
光吸収層を一様に設けることが困難であった。又、被覆
材172を化学的エツチングによって選択的に凹イ1η
造とするのは困難である。これは、一般のファイバープ
レートは芯材の材質の方が酸等(工って侵蝕され易いた
め、芯材が凹構造となるからであるO そこで、この発明では、被覆材172と芯材171の軟
化温度の差を利用して芯材171と被覆材172を滑ら
せて、被覆材172を凹構造とすることに成功した。具
体的には、ファイバープレート1−7の片面を金属停で
密封して、炉にて例えば約700℃に加温する。すると
、密腑!キれた部分は温度上昇によって高い圧力となり
、軟化点の低い芯材171が押し出されて被覆材172
と芯材17ノにズレが生じる0従って、ファイバープレ
ート1−7の片面は、芯材171に対して被覆材172
が凹構造となる。
。従来、被覆材172に光吸収層を選択的に設けろため
に、フォトレジストを用いる方法が発表されているが、
光吸収層を一様に設けることが困難であった。又、被覆
材172を化学的エツチングによって選択的に凹イ1η
造とするのは困難である。これは、一般のファイバープ
レートは芯材の材質の方が酸等(工って侵蝕され易いた
め、芯材が凹構造となるからであるO そこで、この発明では、被覆材172と芯材171の軟
化温度の差を利用して芯材171と被覆材172を滑ら
せて、被覆材172を凹構造とすることに成功した。具
体的には、ファイバープレート1−7の片面を金属停で
密封して、炉にて例えば約700℃に加温する。すると
、密腑!キれた部分は温度上昇によって高い圧力となり
、軟化点の低い芯材171が押し出されて被覆材172
と芯材17ノにズレが生じる0従って、ファイバープレ
ート1−7の片面は、芯材171に対して被覆材172
が凹構造となる。
次に、被覆材172が凹構造となったファイバープレー
)77の表面に、無機物の光吸収層124を形成する。
)77の表面に、無機物の光吸収層124を形成する。
この場合、例えば第6図に示したように、Ni、Cr、
At22 等を低真空蒸着によって付着させたり、有
機物を蒸着して空気中で加熱分解させたり、又は数μm
のカーボン微粒子を塗布する。更に、表面が光吸収層1
74で被覆されたファイバープレート1−7を研磨する
ことによって凸部である芯材171に限って光吸収層1
74が剥ぎ取られ、凹部である被覆材172に限って光
吸収層174が形成される。
At22 等を低真空蒸着によって付着させたり、有
機物を蒸着して空気中で加熱分解させたり、又は数μm
のカーボン微粒子を塗布する。更に、表面が光吸収層1
74で被覆されたファイバープレート1−7を研磨する
ことによって凸部である芯材171に限って光吸収層1
74が剥ぎ取られ、凹部である被覆材172に限って光
吸収層174が形成される。
この発明によれば、画像コントラストの低下を防止する
ことができた。即ち、この発明の螢光スクリーンをX線
螢光増倍管の出力面に用いた場合のコントラストの劣化
は、1%以下であった。これは、ファイバープレート1
−2自体の光洩れが殆どないこと、真空外囲器1の一部
を形成する出力窓18でのフレネル反射の影響が殆どな
くなったことによる。
ことができた。即ち、この発明の螢光スクリーンをX線
螢光増倍管の出力面に用いた場合のコントラストの劣化
は、1%以下であった。これは、ファイバープレート1
−2自体の光洩れが殆どないこと、真空外囲器1の一部
を形成する出力窓18でのフレネル反射の影響が殆どな
くなったことによる。
又、この発明のフり遣方法は、実施が容易にして、安価
な螢光スクリーンが得られる利点を有する。
な螢光スクリーンが得られる利点を有する。
尚、上記実施例ではイメージ管出力面について述べたが
、この発明は出力面に限定されるものではなく、光学繊
維束板の面上に螢光体層を形成する構造のスクリーンに
広く適用できる。
、この発明は出力面に限定されるものではなく、光学繊
維束板の面上に螢光体層を形成する構造のスクリーンに
広く適用できる。
第1図は一般的なイメージ管(X線螢光増倍管)を示す
概略構成図、第2図は過去に提案されているイメージ管
の要部を示す断面図、第3図は第2図の出力面における
発光経路を示す断面図、第4図はこの発明の一実施例に
係る螢光スクリーンを斥す断面図、第5図はこの発明の
他の実施例を示す断面図、第6図はこの発明の一実施例
((係る製造方法を示す断面図である。 1・・・真空外囲器、互・・・入力面、3・・・陽極、
5・・・集束−極、10・・・出力螢光体層、11・・
・メタルバック層、1−6・・・出力面、1−7・・・
ファイバープレート、17〕・・・芯材、122・・・
被覆材、11B・・・吸収体、174・・・光吸収層、
115・・・凹部。 川願人代理人 弁理士 銘 江 武 彦第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 1
概略構成図、第2図は過去に提案されているイメージ管
の要部を示す断面図、第3図は第2図の出力面における
発光経路を示す断面図、第4図はこの発明の一実施例に
係る螢光スクリーンを斥す断面図、第5図はこの発明の
他の実施例を示す断面図、第6図はこの発明の一実施例
((係る製造方法を示す断面図である。 1・・・真空外囲器、互・・・入力面、3・・・陽極、
5・・・集束−極、10・・・出力螢光体層、11・・
・メタルバック層、1−6・・・出力面、1−7・・・
ファイバープレート、17〕・・・芯材、122・・・
被覆材、11B・・・吸収体、174・・・光吸収層、
115・・・凹部。 川願人代理人 弁理士 銘 江 武 彦第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 1
Claims (7)
- (1) ファイバーが芯材、被覆材及び吸収体からな
るファイバープレートの面上に螢光体層を形成してなる
螢光スクリーンにおいて、上記7アイパープレートの少
なくとも螢光体層側と反対側の面の上記被覆材が上記芯
材に対して凹構造になっていることを特徴とした螢光ス
クリーン。 - (2)上記被覆材の凹部に光吸収層を設けた特許請求の
範囲第1項記載の螢光スクリーン。 - (3)上記7アイパープレートの上記被覆材が凹構造と
なっている側の表面、又は反対側の表面に、上記螢光体
層が形成されている特許請求の範囲第1項及び第2項記
載の螢光スクリーン。 - (4) ファイバーが芯材、被覆材及び吸収体からな
るファイバープレートの少なくとも螢光体層側と反対側
の面の上記被覆材が上記芯材に対して凹構造になってい
る螢光スクリーンの製造方法において、 上記被覆材の凹構造を、該被覆材と上記芯材の軟化温度
の差を利用して形成することを特徴とする螢光スクリー
ンの製造方法。 - (5)上記被覆材の凹構造を、該被覆材と上記芯材の軟
化点の間の温度に加温して、芯材を被覆材に対して滑ら
すことによって形成する特許請求の範囲第4項記載の螢
光スクリーンの製造方法。 - (6)上記被覆材の凹構造となった凹部に、真空蒸着法
によって無機物の光吸収層を形成する特許請求の範囲第
4項及び第5項記載の螢光スクリーンの製造方法。 - (7)上記被覆材の凹構造となった凹部に、有機物を蒸
着し、熱分解させることによって光吸収層を形成する特
許請求の範囲第4項及び第5項記載の螢光スクリーンの
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7504083A JPS59201349A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | 螢光スクリ−ン及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7504083A JPS59201349A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | 螢光スクリ−ン及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59201349A true JPS59201349A (ja) | 1984-11-14 |
Family
ID=13564691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7504083A Pending JPS59201349A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | 螢光スクリ−ン及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59201349A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011157809A1 (fr) * | 2010-06-18 | 2011-12-22 | Photonis France | Ecran phosphore a fibres optiques comportant un filtre angulaire |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5324770A (en) * | 1976-08-20 | 1978-03-07 | Canon Inc | X-ray fluores cence intensifier |
JPS57174842A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-27 | Thomson Csf | Image sensitizing tube target and image sensitizing tube with video output having same target |
-
1983
- 1983-04-28 JP JP7504083A patent/JPS59201349A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS57174842A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-27 | Thomson Csf | Image sensitizing tube target and image sensitizing tube with video output having same target |
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