JPS6355838A - 放射線像増倍管の入力面 - Google Patents

放射線像増倍管の入力面

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JPS6355838A
JPS6355838A JP20071786A JP20071786A JPS6355838A JP S6355838 A JPS6355838 A JP S6355838A JP 20071786 A JP20071786 A JP 20071786A JP 20071786 A JP20071786 A JP 20071786A JP S6355838 A JPS6355838 A JP S6355838A
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JP
Japan
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input
image intensifier
phosphor screen
radiation image
input surface
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JP20071786A
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English (en)
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Satoru Sano
哲 佐野
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ (産業上の利用分野) この発明は、放射線像増倍管の入力面に関する。
(従来の技術) 一般に、放射線像増倍管は、真空外囲器内の入力側に入
力面が配設され、出力側に出力面と陽極が配設され、更
に側壁に沿って集束電極が配設されている。そして、動
作時には、入射したX線又はγ線は入力面の入力蛍光面
にて蛍光像に変換され、入力面の光電子放出面にて光電
子像に変換され、真空中に放出される。放出された光電
子像は、集束電極と陽極により集束・加速されて出力面
の出力蛍光面に衝突し、明るい可視光像に変換される。
ところで、上記のような放射線像増倍管の役割は、入力
された放射線像を、可能な限り忠実に明るい可視光像に
変換することである。その画像の忠実さを表わす特性は
、主に空間変調度特性(M、T、F)及び画像ノイズ特
性である。
この画像ノイズ特性は、主に放射線の量子のゆらぎによ
って生じる量子ノイズであり、量子ノイズ特性は、量子
数の平方根に比例して向上する。
従って、量子ノイズ特性を向上させるには、放射線像増
倍管に入射した放射線量子を有効に利用することが重要
となる。入射した放射線量子は、入力蛍光面が数百μm
と薄膜であるために完全に捕えることが出来ず、約半分
の量子が入力蛍光面を透過し、有効に利用されない。そ
こでJ出来るだけ多くの入射放射線量子を有効に利用す
るためには、入力蛍光面を厚くすることが考えられる。
しかし、これは逆に空間変調度特性の低下を招く。
即ち、入力蛍光面で発光した蛍光が、その厚膜の故に光
電子放出面に到達するまでに拡散し、像ボケを発生し、
この結果、空間変調度特性を低下させる。
従来、上記間mを解決するために、入力蛍光面を柱状に
結晶成長させ、ファイバー構造とすることにより、入力
蛍光面で発光した蛍光が横方向へ拡散することを防止す
ることが試みられているが、これは入力蛍光面の材料の
屈折率nによってライトガイド効果の程度が決定される
。例えば入力蛍光面の材料がCsI/Na7あれば、屈
折率n −1,78、従って34″よりも垂直な角度で
真空中に放出された光は、全反射されずに屈折を受けて
横方向に光が拡散していく。つまり、画像のボケを発生
させることになる。そして、はとんどの入力蛍光面材料
は、全ての光を全反射させるほど屈折率は高くない。
上記のような入力蛍光面を柱状に結晶成長させ、ファイ
バー構造とした例をあげるると、第6図に示すように構
成され、A1からなる基板34上にCsIからなる入力
蛍光面31が柱状に形成され、更にこの入力蛍光面31
上に光電子放出面33が形成されている。
動作時には、入力蛍光面31に外部がら放射線35が入
射し、点Aで蛍光に変換された場合、蛍光は全ての方向
に発光される。発光した蛍光の中で、入力蛍光面31の
柱状結晶方向に発光した蛍光36は、柱状結晶の真空界
面で全反射され、横方向に拡散せずに光電子放出面33
に到達する。
従って、画像のボケが生じない。しかし、入力蛍光面3
1の横方向に発光した蛍光37は全反射されずに、光電
子放出面33に到達するまで広がり続ける。これは、画
像ボケを発生させる大きな原因である。尚、図中の38
は光電子を示す。
又、横方向への光の広がりを防ぐために、ファイバー構
造を有する柱状の入力蛍光面の隙間に光吸収剤を付着さ
せる等の提案(特開昭50−145072号公報)がな
されているが、容易に実現するものではない。
(発明が解決しようとする問題点) 放射線像増倍管の入力蛍光面において、空間変調度特性
を低下させずに、厚膜化した入力蛍光面を得ることは、
従来の柱状結晶構造だけでは限度がある。実用上有用な
空間変調度特性が得られる限界の膜厚は、アルカリハラ
イド蛍光面(例えばCs1)で350μmが限度である
。又、光吸収剤あるいは光反射剤等の付着は、技術的に
容易に実現されるものではなく、たとえ可能であったと
しても、非常に高価なものとなる。
この発明は、上記従来の問題点を解決し、実用的な空間
変調度特性を有し、且つ膜厚が350μm以上の入力蛍
光面を実現させ、量子ノイズ特性を格段に向上させて忠
実な画像を伝達することが可能な放射線像増倍管の入力
面を提供することを目的とする。
[発明の構成コ (問題点を解決するための手段) 上記従来の問題点を解決するためには、横方向に発光し
た蛍光を減少させ、光電子放出面に到達させないことで
ある。
そこで、この発明は、基板の一面に入力蛍光面が形成さ
れてなる放射線像増倍管の入力面において、上記入力蛍
光面の表面は凹凸状に形成され、この凹凸状表面にその
凸部では密暑し凹部では密着しないように光電子放出面
が形成されてなる放射線像増倍管の入力面である。
(作用) この発明によれば、放射線吸収能力の高い350μm以
上の厚膜入力蛍光面が実現され、量子ノイズ特性及び空
間変調度特性の優れている放射線像増倍管が得られる。
(実施例) 以下、図面を参照して、この発明の一実施例を詳細に説
明する。
この発明による放射線像増倍管の入力面は、第1図及び
第2図にに示すように構成され、第2図は第1図の要部
を拡大して示したものである。即ち、Atからなる基板
14の一面には、アルカリハライド例えばCsI/Tl
又はCsI/Tlの柱状結晶からなる入力蛍光面11が
形成されている。この場合、柱状結晶は径が30μm以
下に設定されている。このような入力蛍光面11の表面
は、図からも明らかなように、凹凸状に形成され、この
凹凸状表面にその凸部では密着し凹部では密着しないよ
うに、ほぼ透明な支持膜12が形成されている。この場
合、入力蛍光面11の凸部の高さは、少なくとも2μm
以上に設定されている。
支持膜12の厚さや材質については、詳しく後述するが
、通常、金属の酸化物や導電膜からなり、この支持膜1
2上には、光電子放出面13が形成されている。従って
光電子放出面13も、支持膜12を介して入力蛍光面1
1の凹凸状表面にその凸部では密着し凹部では密着しな
いように形成されていることになる。即ち、光電子放出
面13又は支持膜12は、入力蛍光面11と10%以上
光学的に密着していない。尚、図中の18は光電子であ
る。
ところで、第3図は入力面の概念図であるが、光電子放
出面13が先端から315hの部分まて光学的に密着し
ていれば、図中のA及びB領域の角度で表面に到達する
蛍光は、はとんど光電子放出面13に到達しない。又、
D領域の角度の蛍光16は、全反射されて拡散しない。
尚、hは凸部の高さを表わす。そして、C領域の僅かな
部分の拡散光に限って、光電子放出面13に到達し、光
電子を放出させて画像ボケを生じさせる。又、光電子放
出面13の光学的に密着する面積を減じれば、C領域の
蛍光が減り、画像ボケは少なくなる。
しかし、光電子放出面13の膜厚は、一般に数百人と非
常に薄く、自己保持することは不可能である。従って、
この発明のように、光電子放出面13を支持する支持膜
12が必要となる。この支持膜12は、金属の酸化物例
えばアルミニウムの酸化物、インジウムの酸化物、スズ
の酸化物、シリコンの酸化物、又はそれらの混合物等蛍
光に対して透過率が高ければ良い。又、これらは熱的、
化学的に安定な樹脂例えばポリイミド樹脂であっても良
い。更に、ケイ素の化合物であっても良い。
そして、支持膜12は、2層以上又は2つ以上の混合物
より構成しても良い。
これら支持膜12の厚さは、1000Å以上であれば光
電子放出面13を支持することが可能であり、又、1μ
m以上では、透過率が低下する。
従って、支持膜12の厚さは、1000Å〜1μmの範
囲に設定されている。
又、入力蛍光面11の柱状結晶サイズDを小さく(D−
30μm以下)することによっても、光電子放出面13
及び支持膜12の自己保持が可能となる。例えば、入力
蛍光面11の柱状結晶サイズD−30μmで、先端凸部
D−6μmで、支持膜12の厚さが1000人であれば
、入力蛍光面11の表面積の10%以上、光電子放出面
13を浮かすことが可能となる。又、入力蛍光面11の
柱状結晶サイズD−10μmで、先端凸部D−2μmで
、支持膜12の厚さが1000人であれば、入力蛍光面
11の表面積の15%以上、光電子放出面13を浮かす
ことが可能となる。
尚、以上述べてきた入力面を用いた放射線像増倍管の空
間変調度特性を、第4図に示す。即ち、この第4図にお
いて、入力蛍光面11の厚さTは400μmで、曲線5
1は凸部の高さ2μm1柱状結晶サイズの径10μmの
空間変調度特性を示し、曲線52は凸部の高さ6μm1
柱状結晶サイズの径30μmの空間変調度特性を示し、
曲線53は光電子放出面13が入力蛍光面11に密着し
た場合の空間変調度特性を示している。そして、曲線5
1及び52の構造であれば、空間変調度特性が格段に向
上することが判る。
さて、上記のこの発明の入力面において、動作時には、
入力蛍光面11に入射した放射線15は、A点にて蛍光
を発生させる。この蛍光の中で、柱状結晶方向に発した
蛍光16は、全反射を繰返しながら光電子放出面13に
到達する。しかし、柱状結・晶壁面で全反射されない蛍
光17は、入力蛍光面11の横方向に拡散していく。
既述のように、この発明の重要な点は光電子放出面13
が入力蛍光面11の四部に光学的に密着させないことで
ある。この凹部の界面に真空領域が存在することによっ
て、蛍光17が屈折されて、光電子放出面13に到達せ
ず、再び入力蛍光面11の中に突入し、長い距離を進み
ながら減衰していく。
詳細に述べると、例えばCsIの屈折率はnl−1,7
8、又、真空の屈折率はnQ−1,0である。従って、
θ1の角度でnlからn。に入射された光は、スネルの
法則によって、 θ。−s in’  (n、/no−
s inθ1)に変化する。
θ1が20″の角度であれば、θ0は37.5゜に屈折
される。従って、第2図に示したように、横方向に発光
した蛍光17は、光電子放出面13に到達しない。
以上述べてきたように、光電子放出面13が入力蛍光面
11に完全に密着状態であれば、上記の説明は成立たな
い。そして、光電子数−出面13の屈折率は一般的に高
い(n > 2)。
しかし、この発明では、入力蛍光面11の表面形状は凹
凸状にして、凸部には光電子放出面13が光学的に密着
して形成され、凹部には光電子放出面13が密着せずに
真空層が形成されているので、上記説明が満足され、光
拡散のない鮮明な画像を得ることが出来る。
(変形例) 第5図はこの発明の変形例を示したもので、上記実施例
と同様効果が得られる。
即ち、上記実施例では、入力蛍光面11の凸部は鋭角的
であったが、この変形例では入力蛍光面11の凸部は球
状をしている。
[発明の効果] この発明によれば、放射線吸収能力の高い350μm以
上の厚膜入力蛍光面11が実現され、量子ノイズ特性及
び空間変調度特性の優れている放射線像増倍管が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例に係る放射線像増倍管の入
力面を示す断面図、第2図は第1図の要部を拡大して示
す断面図、第3図はこの発明の入力面を示す概念図、第
4図はこの発明の入力面における空間変調度特性を示す
特性曲線図、第5図はこの発明の変形例を示す断面図、
第6図は従来の放射線像増倍管の入力面を示す断面図で
ある。 11・・・入力蛍光面、12・・・支持膜、13・・・
光電子放出面、14・・・基板。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図 第3図 食藺n友秋 (Qp/cm) 第4図 第5図

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板の一面に入力蛍光面が形成されてなる放射線
    像増倍管の入力面において、 上記入力蛍光面の表面は凹凸状に形成され、この凹凸状
    表面にその凸部では密着し凹部では密着しないように光
    電子放出面が形成されてなることを特徴とする放射線像
    増倍管の入力面。
  2. (2)上記入力蛍光面の凸部の高さは、少なくとも2μ
    m以上であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の放射線像増倍管の入力面。
  3. (3)上記入力蛍光面は、径が30μm以下の柱状結晶
    からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第
    2項記載の放射線像増倍管の入力面。
  4. (4)上記入力蛍光面と上記光電子放出面との間に、ほ
    ぼ透明な支持膜が設けられていることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項又は第2項又は第3項記載の放射線像
    増倍管の入力面。
  5. (5)上記支持膜は金属の酸化膜からなることを特徴と
    する特許請求の範囲第4項記載の放射線像増倍管の入力
    面。
  6. (6)上記支持膜は導電膜からなることを特徴とする特
    許請求の範囲第4項記載の放射線像増倍管の入力面。
  7. (7)上記導電膜はスズの酸化物、インジウムの酸化物
    又はその混合物からなることを特徴とする特許請求の範
    囲第6項記載の放射線像増倍管の入力面。
  8. (8)上記支持膜はアルミニウムの酸化物からなること
    を特徴とする特許請求の範囲第4項記載の放射線像増倍
    管の入力面。
  9. (9)上記支持膜はアルミニウムの酸化物、スズの酸化
    物、インジウムの酸化物、シリコンの酸化物の2層以上
    又は2つ以上の混合物からなることを特徴とする特許請
    求の範囲第4項記載の放射線像増倍管の入力面。
  10. (10)上記支持膜は1000Å〜1μmの厚さに設定
    されてなることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載
    の放射線像増倍管の入力面。
  11. (11)上記光電子放出面又は支持膜は上記入力蛍光面
    と10%以上光学的に密着していないことを特徴とする
    特許請求の範囲第1項又は第4項記載の放射線像増倍管
    の入力面。
  12. (12)上記入力蛍光面はアルカリハライドからなるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の放射線像増
    倍管の入力面。
  13. (13)上記入力蛍光面はCsI/Na又はCsI/T
    lからなることを特徴とする特許請求の範囲第12項記
    載の放射線像増倍管の入力面。
JP20071786A 1986-08-27 1986-08-27 放射線像増倍管の入力面 Pending JPS6355838A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014235921A (ja) * 2013-06-04 2014-12-15 株式会社東芝 イメージ管およびその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014235921A (ja) * 2013-06-04 2014-12-15 株式会社東芝 イメージ管およびその製造方法

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