JPH0480700A - シンクロトロン放射光発生装置 - Google Patents
シンクロトロン放射光発生装置Info
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- JPH0480700A JPH0480700A JP2193503A JP19350390A JPH0480700A JP H0480700 A JPH0480700 A JP H0480700A JP 2193503 A JP2193503 A JP 2193503A JP 19350390 A JP19350390 A JP 19350390A JP H0480700 A JPH0480700 A JP H0480700A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
-
- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
シンクロトロン放射光を反射する反射鏡を備えたシンク
ロトロン放射光発生装置に関し、反射鏡の位置と傾きを
簡単に調整することのできるシンクロトロン放射光発生
装置め提供を目的とし、 シンクロトロン放射光を反射する反射鏡を有するシンク
ロトロン放射光発生装置において、シンクロトロン放射
光を反射する反射面を反射鏡の反射面側に突出して対向
させるとともに、シンクロトロン放射光の光軸に平行且
つ反射鏡の反射面に垂直にし、反射鏡の両側に配設され
た一対の調整用反射鏡と、 シンクロトロン放射光を遮断する平板に複数の貫通孔を
列設し、反射鏡の位置と傾きを調整する際にはシンクロ
トロン放射光の光路内に移動され、中央の貫通孔がシン
クロトロン放射光の光軸を通過させるとともに、両端の
貫通孔がシンクロトロン放射光をビーム状にして調整用
反射鏡の反射面に照射し、反射鏡の位置と傾きの調整後
にはシンクロトロン放射光の光路外に移動されるスリ・
ノド板と、 調整用反射鏡を通過したシンクロトロン放射光を受光し
て電気信号に変換する複数の受光素子を平面上に規則的
に配列し、シンクロトロン放射光の光軸と垂直な断面の
強度分布を測定する２次元位置検出器とを有し、 反射鏡の位置と傾きを調整するようにシンクロトロン放
射光発生装置を構成する。
ロトロン放射光発生装置に関し、反射鏡の位置と傾きを
簡単に調整することのできるシンクロトロン放射光発生
装置め提供を目的とし、 シンクロトロン放射光を反射する反射鏡を有するシンク
ロトロン放射光発生装置において、シンクロトロン放射
光を反射する反射面を反射鏡の反射面側に突出して対向
させるとともに、シンクロトロン放射光の光軸に平行且
つ反射鏡の反射面に垂直にし、反射鏡の両側に配設され
た一対の調整用反射鏡と、 シンクロトロン放射光を遮断する平板に複数の貫通孔を
列設し、反射鏡の位置と傾きを調整する際にはシンクロ
トロン放射光の光路内に移動され、中央の貫通孔がシン
クロトロン放射光の光軸を通過させるとともに、両端の
貫通孔がシンクロトロン放射光をビーム状にして調整用
反射鏡の反射面に照射し、反射鏡の位置と傾きの調整後
にはシンクロトロン放射光の光路外に移動されるスリ・
ノド板と、 調整用反射鏡を通過したシンクロトロン放射光を受光し
て電気信号に変換する複数の受光素子を平面上に規則的
に配列し、シンクロトロン放射光の光軸と垂直な断面の
強度分布を測定する２次元位置検出器とを有し、 反射鏡の位置と傾きを調整するようにシンクロトロン放
射光発生装置を構成する。
本発明は、シンクロトロン放射光発生装置、特にシンク
ロトロン放射光を反射する反射鏡の位置と傾きを簡単に
調整できるシンクロトロン放射光発生装置に関する。
ロトロン放射光を反射する反射鏡の位置と傾きを簡単に
調整できるシンクロトロン放射光発生装置に関する。
シンクロトロン放射光は、マイクロ波からＸ線領域に亘
る広い波長域の連続スペクトルを有するとともに、その
強度が高く、且つその平行性も優れている。
る広い波長域の連続スペクトルを有するとともに、その
強度が高く、且つその平行性も優れている。
従って、配線パターン幅が０．２〜０．３μｍ程度にな
る６ ４ＭＤＲＡＭ等のＬＳＩを製造するためのステッ
パーの光源にシンクロトロン放射光を利用する研究が、
随所で精力的に行われている。
る６ ４ＭＤＲＡＭ等のＬＳＩを製造するためのステッ
パーの光源にシンクロトロン放射光を利用する研究が、
随所で精力的に行われている。
そして、このシンクロトロン放射光をステ、７ノぐ−の
光源とするには、半導体ウェーハ表面に被着したレジス
トを露光するのに最適なシンクロトロン放射光、例えば
波長範囲が０．５ ｎ ｍ〜１．５ ｎ ｍのシンクロ
トロン放射光を選択的に取り出すことが要件となる。
光源とするには、半導体ウェーハ表面に被着したレジス
トを露光するのに最適なシンクロトロン放射光、例えば
波長範囲が０．５ ｎ ｍ〜１．５ ｎ ｍのシンクロ
トロン放射光を選択的に取り出すことが要件となる。
このためには、シンクロトロン放射光の中から０、５
ｎ ｍ以下の波長を選択的に除去する反射鏡を備えさせ
てシンクロトロン放射光発生装置を構成することが必要
である。
ｎ ｍ以下の波長を選択的に除去する反射鏡を備えさせ
てシンクロトロン放射光発生装置を構成することが必要
である。
第３図は、従来のシンクロトロン放射光発生装置を説明
するための図で、同図（ａ）は装置の要部概略側断面図
、同図（ｂ）はシンクロトロン放射光の進行状態を示す
平面図である。
するための図で、同図（ａ）は装置の要部概略側断面図
、同図（ｂ）はシンクロトロン放射光の進行状態を示す
平面図である。
尚、同じ部品・材料に対しては全図を通して同じ記号を
付与しである。
付与しである。
従来のシンクロトロン放射光発生装置は、同図（ａ）に
示すようにシンクロトロン放射光１０を発生する図示し
てない電子蓄積リングと、 電子蓄積リングと連結し、電子蓄積リングが発生したシ
ンクロトロン放射光１０を、例えば大気中の露光室１４
に導くビームライン１２と、ビームライン１２外から、
このビームライン１２内に配設されてシンクロトロン放
射光１０を反射する反射鏡１１の位置と傾きとを調整す
る調整機構１３とを含んで構成したものである。
示すようにシンクロトロン放射光１０を発生する図示し
てない電子蓄積リングと、 電子蓄積リングと連結し、電子蓄積リングが発生したシ
ンクロトロン放射光１０を、例えば大気中の露光室１４
に導くビームライン１２と、ビームライン１２外から、
このビームライン１２内に配設されてシンクロトロン放
射光１０を反射する反射鏡１１の位置と傾きとを調整す
る調整機構１３とを含んで構成したものである。
この調整機構１３は、連結した横棒１３ｂを第１図の（
ｄ）図に示す如く互いに直交するＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向
に自在に移動するとともに、それぞれの軸の回りを矢印
θ、α、φの方向に回動するゴニオステージ１３ａと、
一端を横棒１３ｂに連結するとともにビームライン１２
内に挿入した他端に反射鏡１１を連結した連結棒１３ｃ
と、挿通させた連結棒１３Ｃの外周面に密着するととも
に他端をビームライン１２の外側面に密着したベローズ
１３ｄとで構成したものである。
ｄ）図に示す如く互いに直交するＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向
に自在に移動するとともに、それぞれの軸の回りを矢印
θ、α、φの方向に回動するゴニオステージ１３ａと、
一端を横棒１３ｂに連結するとともにビームライン１２
内に挿入した他端に反射鏡１１を連結した連結棒１３ｃ
と、挿通させた連結棒１３Ｃの外周面に密着するととも
に他端をビームライン１２の外側面に密着したベローズ
１３ｄとで構成したものである。
なお、反射鏡１１は、形状が直方体の石英板若しくはシ
リコンカーバイト板などの平坦度のよい表面に、金（Ａ
ｕ）Ｍしくは白金（Ｐｔ）等を薄く蒸着して形成されて
いる。
リコンカーバイト板などの平坦度のよい表面に、金（Ａ
ｕ）Ｍしくは白金（Ｐｔ）等を薄く蒸着して形成されて
いる。
シンクロトロン放射光１０を、例えば露光室工４内に設
置した図示してないステッパー（Ｓｔｅｐｐｅｒ；逐次
移動式露光装置）の光源として利用するためには、反射
鏡１１の位置と傾きを調整機構１３により調整し、シン
クロトロン放射光１０をステッパーの所定位置に導くこ
とが不可欠である。
置した図示してないステッパー（Ｓｔｅｐｐｅｒ；逐次
移動式露光装置）の光源として利用するためには、反射
鏡１１の位置と傾きを調整機構１３により調整し、シン
クロトロン放射光１０をステッパーの所定位置に導くこ
とが不可欠である。
このシンクロトロン放射光１０の照射位置と照射角度の
調整は、例えば基板に塗布した感光性のレジストにシン
クロトロン放射光１０を照射し、レジストの幾何学的な
感光状態を判断することによって行っていた。
調整は、例えば基板に塗布した感光性のレジストにシン
クロトロン放射光１０を照射し、レジストの幾何学的な
感光状態を判断することによって行っていた。
ところが、このような方法でシンクロトロン放射光１０
の照射位置と照射角度を正確に調整するには、通常、何
回も調整作業を繰り返すことが不可欠であった。
の照射位置と照射角度を正確に調整するには、通常、何
回も調整作業を繰り返すことが不可欠であった。
本発明は、斯かる問題を解決するためになされたもので
、その目的は反射鏡の位置と傾きを簡単に調整すること
のできるシンクロトロン放射光発生装置の提供にある。
、その目的は反射鏡の位置と傾きを簡単に調整すること
のできるシンクロトロン放射光発生装置の提供にある。
〔課題を解決するための手段］
上記目的は、第１図の本発明の詳細な説明するための図
に示すように シンクロトロン放射光（１０）を反射す
る反射鏡（１１）を有するシンクロトロン放射光発生装
置において、 シンクロトロン放射光１０を反射する反射面２１ａを反
射鏡１１の反射面１１ａ側に突出して対向させるととも
に、シンクロトロン放射光１０の光軸１０ａに平行且つ
反射鏡１１の反射面１１ａに垂直にし、反射鏡１１の両
側に配設された一対の調整用反射鏡２１と、シンクロト
ロン放射光１０を遮断する平板に複数の貫通孔２２ａ
、 ２２ｂ 、 ２２ｃを列設し、反射鏡１１の位置と
傾きを調整する際にはシンクロトロン放射光１０の光路
１０ｂ内に移動され、中央の貫通孔２２ｂがシンクロト
ロン放射光１０の光軸１０ａを通過させるとともに、両
端の貫通孔２２ａ、２２ｃがシンクロトロン放射光１０
をビーム状にして調整用反射鏡２１の反射面２１ａに照
射し、反射鏡１１の位置と傾きの調整後にはシンクロト
ロン放射光１０の光路１０ｂ外に移動されるスリット板
２２と、 調整用反射＠２１を通過したシンクロトロン放射光１０
を受光して電気信号２４に変換する複数の受光素子２３
ａを平面上に規則的に配列し、シンクロトロン放射光１
０の光軸１０ａと垂直な断面の強度分布を測定する２次
元位置検出器２３とを有し、反射鏡１１の位置と傾きを
調整することを特徴とするシンクロトロン放射光発生装
置により達成される。
に示すように シンクロトロン放射光（１０）を反射す
る反射鏡（１１）を有するシンクロトロン放射光発生装
置において、 シンクロトロン放射光１０を反射する反射面２１ａを反
射鏡１１の反射面１１ａ側に突出して対向させるととも
に、シンクロトロン放射光１０の光軸１０ａに平行且つ
反射鏡１１の反射面１１ａに垂直にし、反射鏡１１の両
側に配設された一対の調整用反射鏡２１と、シンクロト
ロン放射光１０を遮断する平板に複数の貫通孔２２ａ
、 ２２ｂ 、 ２２ｃを列設し、反射鏡１１の位置と
傾きを調整する際にはシンクロトロン放射光１０の光路
１０ｂ内に移動され、中央の貫通孔２２ｂがシンクロト
ロン放射光１０の光軸１０ａを通過させるとともに、両
端の貫通孔２２ａ、２２ｃがシンクロトロン放射光１０
をビーム状にして調整用反射鏡２１の反射面２１ａに照
射し、反射鏡１１の位置と傾きの調整後にはシンクロト
ロン放射光１０の光路１０ｂ外に移動されるスリット板
２２と、 調整用反射＠２１を通過したシンクロトロン放射光１０
を受光して電気信号２４に変換する複数の受光素子２３
ａを平面上に規則的に配列し、シンクロトロン放射光１
０の光軸１０ａと垂直な断面の強度分布を測定する２次
元位置検出器２３とを有し、反射鏡１１の位置と傾きを
調整することを特徴とするシンクロトロン放射光発生装
置により達成される。
なお、同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）と同図（ｃ）は
側断面図、同図（ｄ）は調整法説明図である。
側断面図、同図（ｄ）は調整法説明図である。
〔作 用〕
本発明のシンクロトロン放射光発生装置においては、反
射鏡１１の位置と傾きを調整する際はシンクロトロン放
射光１０をスリット板２２により、光軸１０ａを含むビ
ーム状の第１のシンクロトロン放射光１０と、第１のシ
ンクロトロン放射光１０を中心にして右左に放射状に広
がるビーム状の第２及び第３のシンクロトロン放射光１
０にし、 そして、第２及び第３のシンクロトロン放射光１０を反
射鏡１１の両側に配設した調整用反射鏡２１の反射面２
１ａに照射し、 第１のシンクロトロン放射光１０と、調整用反射鏡２１
の反射面２１ａで反射した第２及び第３のシンクロトロ
ン放射光１０が２次元位置検出器２３に入射するように
構成している。
射鏡１１の位置と傾きを調整する際はシンクロトロン放
射光１０をスリット板２２により、光軸１０ａを含むビ
ーム状の第１のシンクロトロン放射光１０と、第１のシ
ンクロトロン放射光１０を中心にして右左に放射状に広
がるビーム状の第２及び第３のシンクロトロン放射光１
０にし、 そして、第２及び第３のシンクロトロン放射光１０を反
射鏡１１の両側に配設した調整用反射鏡２１の反射面２
１ａに照射し、 第１のシンクロトロン放射光１０と、調整用反射鏡２１
の反射面２１ａで反射した第２及び第３のシンクロトロ
ン放射光１０が２次元位置検出器２３に入射するように
構成している。
斯（して、反射鏡１１の位置と傾きとの調整は、２次元
位置検出器２３が出力した２次元位置座標の情報を含む
電気信号２４を、例えばオシロスコープ（図示せず）に
入力し、オシロスコープの画面上に２次元的に表示され
た画像を観察しながら行えるために、極めて簡単となる
。
位置検出器２３が出力した２次元位置座標の情報を含む
電気信号２４を、例えばオシロスコープ（図示せず）に
入力し、オシロスコープの画面上に２次元的に表示され
た画像を観察しながら行えるために、極めて簡単となる
。
例えば、スリット板２２の貫通孔２２ａ 、 ２２ｂ
、 ２２ｃを通過した第１．第２．第３のシンクロトロ
ン放射光１０の２次元位置検出器２３への照射位置を、
三つの輝点として表示しているオシロスコープの画面を
観察しながら、反射鏡１１の位置と傾きとを調整する。
、 ２２ｃを通過した第１．第２．第３のシンクロトロ
ン放射光１０の２次元位置検出器２３への照射位置を、
三つの輝点として表示しているオシロスコープの画面を
観察しながら、反射鏡１１の位置と傾きとを調整する。
そして、三つの輝点が水平且つ中心の輝点と両端の輝点
とのそれぞれの間隔が等しくなると、シンクロトロン放
射光１０の光軸１０ａは調整用反射鏡２１のそれぞれの
反射面２１ａの中点位置を通過し、且つ反射鏡１１の表
面はＺ軸に対して垂直の状態となり、シンクロトロン放
射光１０の利用するための準備が完了することとなる。
とのそれぞれの間隔が等しくなると、シンクロトロン放
射光１０の光軸１０ａは調整用反射鏡２１のそれぞれの
反射面２１ａの中点位置を通過し、且つ反射鏡１１の表
面はＺ軸に対して垂直の状態となり、シンクロトロン放
射光１０の利用するための準備が完了することとなる。
以下、本発明の一実施例を図面を参照しながら説明する
。
。
第２図は、本発明の一実施例のシンクロトロン放射光発
生装置を説明するための図であって、同図（ａ）は装置
の要部概略側断面図、同図（ｂ）はシンクロトロン放射
光の進行状態を示す平面図、同図（ｃ）は２次元位置検
出器の要部平面図である。
生装置を説明するための図であって、同図（ａ）は装置
の要部概略側断面図、同図（ｂ）はシンクロトロン放射
光の進行状態を示す平面図、同図（ｃ）は２次元位置検
出器の要部平面図である。
本発明の一実施例のシンクロトロン放射光発生装置は、
第３図により説明した従来のシンクロトロン放射光発生
装置に調整用反射鏡２１と、スリット板２２と、２次元
位置検出器２３とを新たに付加して構成したものである
。
第３図により説明した従来のシンクロトロン放射光発生
装置に調整用反射鏡２１と、スリット板２２と、２次元
位置検出器２３とを新たに付加して構成したものである
。
この調整用反射鏡２１は、石英板若しくはシリコンカー
バイト板よりなる長方体の平滑な表面に金、または白金
を薄く蒸着して形成した反射面２１ａを反射鏡１１の反
射面１１ａ側に突出して対向させるとともに・シンクロ
トロン放射光１０の光軸１０ａに平行且つ反射鏡１１の
反射面１１ａに垂直にし、反射鏡１１の両側に配設した
ものである。
バイト板よりなる長方体の平滑な表面に金、または白金
を薄く蒸着して形成した反射面２１ａを反射鏡１１の反
射面１１ａ側に突出して対向させるとともに・シンクロ
トロン放射光１０の光軸１０ａに平行且つ反射鏡１１の
反射面１１ａに垂直にし、反射鏡１１の両側に配設した
ものである。
また、スリット板２２は、シンクロトロン放射光１０を
遮断する薄い平板、例えば無酸素銅板に直径が１ｍｍ前
後の３個の貫通孔２２ａ、 ２２ｂ、 ２２ｃを互いに
５０ｍｍ１ｉｊ後離隔且つ列設して形成されたものであ
る。
遮断する薄い平板、例えば無酸素銅板に直径が１ｍｍ前
後の３個の貫通孔２２ａ、 ２２ｂ、 ２２ｃを互いに
５０ｍｍ１ｉｊ後離隔且つ列設して形成されたものであ
る。
そして、このスリット板２２は、反射鏡１１の位置と傾
きを調整する際には移動機構２５によりシンクロトロン
放射光１０の光路１０ｂ内に移動され、貫通孔２２ａ
、 ２２ｂ 、 ２２ｃの中央の貫通孔２２ｂがシンク
ロトロン放射光１０の光軸１０ａを通過させるとともに
、貫通孔２２ａ、 ２２ｂ、 ２２ｃの両端の貫通孔２
２ａ 、 ２２ｃがシンクロトロン放射光１０をビーム
状にして調整用反射鏡２１の反射面２１ａに照射し、反
射鏡１１の位置と傾きの調整後にはシンクロトロン放射
光１０の光路１０ｂ外に移動されるものである。
きを調整する際には移動機構２５によりシンクロトロン
放射光１０の光路１０ｂ内に移動され、貫通孔２２ａ
、 ２２ｂ 、 ２２ｃの中央の貫通孔２２ｂがシンク
ロトロン放射光１０の光軸１０ａを通過させるとともに
、貫通孔２２ａ、 ２２ｂ、 ２２ｃの両端の貫通孔２
２ａ 、 ２２ｃがシンクロトロン放射光１０をビーム
状にして調整用反射鏡２１の反射面２１ａに照射し、反
射鏡１１の位置と傾きの調整後にはシンクロトロン放射
光１０の光路１０ｂ外に移動されるものである。
なお、移動機構２５は、ビームライン１２内に挿入した
先端にスリット板２２を連結した挿入棒２５ａ と、挿
入棒２５ａを矢印Ａ−Ａ”方向に移動するソレノイド２
５ｂと、挿入棒２５ａの外周面に一端を密着するととも
にビームライン１２の外側面に他端を密着したヘローズ
２５ｃとで構成したものである。
先端にスリット板２２を連結した挿入棒２５ａ と、挿
入棒２５ａを矢印Ａ−Ａ”方向に移動するソレノイド２
５ｂと、挿入棒２５ａの外周面に一端を密着するととも
にビームライン１２の外側面に他端を密着したヘローズ
２５ｃとで構成したものである。
２次元位置検出器２３は、同図（ｃ）に示す如くシンク
ロトロン放射光１０を受−光して電気信号２４に変換す
る複数の受光素子２３ａを平面上に規則的に配列して構
成し゛、露光室１４に配設したものである。
ロトロン放射光１０を受−光して電気信号２４に変換す
る複数の受光素子２３ａを平面上に規則的に配列して構
成し゛、露光室１４に配設したものである。
斯くして、本発明のシンクロトロン放射光発生装置にお
いては、移動機構２５がシンクロトロン放射光１０の光
路１０ｂに移動したスリット板２２の貫通孔２２ａ、
２２ｂ、 ２２ｃを通過した第１．第２．第３のシンク
ロトロン放射光１０の２次元位置検出器２３への照射位
置を、２次元の三つの輝点として表示したオシロスコー
プの画面を観察しながら、調整機構１３を操作して反射
鏡１１の位置と傾きとを簡単に調整することが可能であ
る。
いては、移動機構２５がシンクロトロン放射光１０の光
路１０ｂに移動したスリット板２２の貫通孔２２ａ、
２２ｂ、 ２２ｃを通過した第１．第２．第３のシンク
ロトロン放射光１０の２次元位置検出器２３への照射位
置を、２次元の三つの輝点として表示したオシロスコー
プの画面を観察しながら、調整機構１３を操作して反射
鏡１１の位置と傾きとを簡単に調整することが可能であ
る。
例えば、スリット板２２の貫通孔２２ａ 、 ２２ｂ
、 ２２ｃを通過した第１〜第３のシンクロトロン放射
光１０の２次元位置検出器２３への照射位置を三つの輝
点として表示したオシロスコープの画面を観察しながら
、反射鏡１１の位置と傾きとを調整する。 そして、三
つの輝点が水平且つ中心の輝点と両端の輝点とのそれぞ
れの間隔が等しくなると、シンクロトロン放射光１０の
光軸１０ａは調整用反射鏡２１のそれぞれの反射面２１
ａの中点位置を通過し、且つ反射鏡１１の表面はＺ軸に
対して垂直の状態となり、シンクロトロン放射光１０の
利用するための：＄備が完了することとなる。
、 ２２ｃを通過した第１〜第３のシンクロトロン放射
光１０の２次元位置検出器２３への照射位置を三つの輝
点として表示したオシロスコープの画面を観察しながら
、反射鏡１１の位置と傾きとを調整する。 そして、三
つの輝点が水平且つ中心の輝点と両端の輝点とのそれぞ
れの間隔が等しくなると、シンクロトロン放射光１０の
光軸１０ａは調整用反射鏡２１のそれぞれの反射面２１
ａの中点位置を通過し、且つ反射鏡１１の表面はＺ軸に
対して垂直の状態となり、シンクロトロン放射光１０の
利用するための：＄備が完了することとなる。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、反射鏡
の位置と傾きを簡単に調整できるシンクロトロン放射光
発生装置の提供が可能となる。
の位置と傾きを簡単に調整できるシンクロトロン放射光
発生装置の提供が可能となる。
第１図は、本発明の詳細な説明するための図、第２図は
、本発明の一実施例のシンクロトロン放射光発生装置を
説明するための図、 第３図は、従来のシンクロトロン放射光発生装置を説明
するための図である。 図において、 １０はシンクロトロン放射光、 １１は反射鏡、 １２はビームライン、 １３は調整機構、 １４は露光室、 ２１は調整用反射鏡、 ２２はスリット板、 ２３は２次元位置検出器、 ２４は電気信号、 ２５は移動機構をそれぞれ示す。 （０）手品間 ｔｂ＋ イリリ訪ｉｏコ ４％Ｂｑｔｑ１１ｎ’ｅＫ’１ＬｊＦＩｊｉｒ：Ａ”Ｂ
＠ｌ！！ ＋ＱＩ ’ｌ ＩＬ、ｌｆ？師躍１１刺１ｆｈｒｌＪ＋
ｂ＋ ＞シフ０ト０＞Ｊ１ｔｉｆｐｉｊＪ’７４ｔ’［
Ｑｚｌ”？平Ｍ］ｅ（Ｃ） ２；Ｘｙｔ４ｆＬ１１ｊｆ
！ｔｉｔｙｒ＊＠’ＨｍＪ＊脳 失′施イ列めシレ７Ｑトロレχξｈ乏発ｔ’ｇ’ｙ：髄
ｔＸｅＲｊｓた杓＾Ｇり第２図 （Ｏｌ ｆ、Ｗｔｒ＋ ＭヒＪ’ｐ！にイ＃ＩＪ ＠ｉ
ｆｒ＋ Ｃ２］１４酊Ｖ ＋ｂ）シ＞７ｏＬのパ東α＾ｌ灯籠廻１１平市霞従来Ａ
：／〉７０トロ＞方灸身↑！イ６生名１νｔｙ日月ｆ狂
７ｒｈ団ｔｓ３図
、本発明の一実施例のシンクロトロン放射光発生装置を
説明するための図、 第３図は、従来のシンクロトロン放射光発生装置を説明
するための図である。 図において、 １０はシンクロトロン放射光、 １１は反射鏡、 １２はビームライン、 １３は調整機構、 １４は露光室、 ２１は調整用反射鏡、 ２２はスリット板、 ２３は２次元位置検出器、 ２４は電気信号、 ２５は移動機構をそれぞれ示す。 （０）手品間 ｔｂ＋ イリリ訪ｉｏコ ４％Ｂｑｔｑ１１ｎ’ｅＫ’１ＬｊＦＩｊｉｒ：Ａ”Ｂ
＠ｌ！！ ＋ＱＩ ’ｌ ＩＬ、ｌｆ？師躍１１刺１ｆｈｒｌＪ＋
ｂ＋ ＞シフ０ト０＞Ｊ１ｔｉｆｐｉｊＪ’７４ｔ’［
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！ｔｉｔｙｒ＊＠’ＨｍＪ＊脳 失′施イ列めシレ７Ｑトロレχξｈ乏発ｔ’ｇ’ｙ：髄
ｔＸｅＲｊｓた杓＾Ｇり第２図 （Ｏｌ ｆ、Ｗｔｒ＋ ＭヒＪ’ｐ！にイ＃ＩＪ ＠ｉ
ｆｒ＋ Ｃ２］１４酊Ｖ ＋ｂ）シ＞７ｏＬのパ東α＾ｌ灯籠廻１１平市霞従来Ａ
：／〉７０トロ＞方灸身↑！イ６生名１νｔｙ日月ｆ狂
７ｒｈ団ｔｓ３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 シンクロトロン放射光（１０）を反射する反射鏡（１１
）を有するシンクロトロン放射光発生装置において、 シンクロトロン放射光（１０）を反射する反射面（２１
ａ）を反射鏡（１１）の反射面（１１ａ）側に突出して
対向させるとともに、シンクロトロン放射光（１０）の
光軸（１０ａ）に平行且つ反射鏡（１１）の反射面（１
１ａ）に垂直にし、反射鏡（１１）の両側に配設された
一対の調整用反射鏡（２１）と、 シンクロトロン放射光（１０）を遮断する平板に複数の
貫通孔（２２ａ、２２ｂ、２２ｃ）を列設し、反射鏡（
１１）の位置と傾きを調整する際にはシンクロトロン放
射光（１０）の光路（１０ｂ）内に移動され、中央の貫
通孔（２２ｂ）がシンクロトロン放射光（１０）の光軸
（１０ａ）を通過させるとともに、両端の貫通孔（２２
ａ、２２ｃ）がシンクロトロン放射光（１０）をビーム
状にして調整用反射鏡（２１）の反射面（２１ａ）に照
射し、反射鏡（１１）の位置と傾きの調整後にはシンク
ロトロン放射光（１０）の光路（１０ｂ）外に移動され
るスリット板（２２）と、 調整用反射鏡（２１）を通過したシンクロトロン放射光
（１０）を受光して電気信号（２４）に変換する複数の
受光素子（２３ａ）を平面上に規則的に配列し、シンク
ロトロン放射光（１０）の光軸（１０ａ）と垂直な断面
の強度分布を測定する２次元位置検出器（２３）とを有
し、 反射鏡（１１）の位置と傾きを調整することを特徴とす
るシンクロトロン放射光発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2193503A JPH0480700A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | シンクロトロン放射光発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2193503A JPH0480700A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | シンクロトロン放射光発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0480700A true JPH0480700A (ja) | 1992-03-13 |
Family
ID=16309136
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2193503A Pending JPH0480700A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | シンクロトロン放射光発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0480700A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0540178A2 (en) * | 1991-09-30 | 1993-05-05 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray exposure apparatus |
-
1990
- 1990-07-20 JP JP2193503A patent/JPH0480700A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0540178A2 (en) * | 1991-09-30 | 1993-05-05 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray exposure apparatus |
| US5448612A (en) * | 1991-09-30 | 1995-09-05 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray exposure apparatus |
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