JPH0479986B2 - - Google Patents
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- JPH0479986B2 JPH0479986B2 JP62110556A JP11055687A JPH0479986B2 JP H0479986 B2 JPH0479986 B2 JP H0479986B2 JP 62110556 A JP62110556 A JP 62110556A JP 11055687 A JP11055687 A JP 11055687A JP H0479986 B2 JPH0479986 B2 JP H0479986B2
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Description
[産業上の利用分野]
本発明は、高寸法精度セラミツクスの製造法お
よびその組成物に関する。 [従来の技術] 一般に、エンジンやタービンなどの構造材料に
適するエンジニアリングセラミツクスとしては、
耐熱性に優れたSiCやSi3N4などが知られている。
そして、これらの焼結技術としては、常圧焼結
法、加圧焼結法、反応焼結法がある。その中で常
圧焼結法、加圧焼結法は焼結前後の寸法変化率が
15〜20%あり、変形し易く寸法精度も悪い。一
方、反応焼結法は、他の材料に比較して焼結時の
寸法変化率が小さいことが知られているが、特開
昭58−140375号に示されるように、それでも1〜
1.5%程度変化する。 また、焼結時の寸法変化が小さい材料として、
従来から耐火物に使用されているSi3N4結合材が
あるが、特開昭58−88169号に示されるように機
械強度が50MN/m2程度で、構造用材料としては
不適当である。 また、本願の出願人が先に出願した特開昭61−
201662号では、焼結時の寸法変化率においては、
充分小さいものを得ることができるが、組成物の
流動性に問題があり、複雑形状の成形体が成形し
にくい。また、焼結体の強度アツプの点において
もその特徴が充分生かされていなかつた。 [発明が解決しようとする問題点] 焼結時の寸法変化率が大きいことや、焼結体が
硬く脆いために加工が容易でないことが、エンジ
ニアリングセラミツクスの普及しにくい理由の一
つでもあり、これまでには焼結時の寸法変化率が
小さく、高強度で高寸法精度のセラミツクスの実
用的な製造技術がないと云つても過言ではない。 本発明の目的は、焼結時の寸法変化率が小さ
く、高温強度、耐熱衝撃性に優れ、ほとんど機械
加工の不用な高寸法精度のニアネツトシエイプに
適したセラミツクスの製法並びにその組成物を提
供することにある。更に、成形時の流動性に優
れ、かつ、高強度の焼結体を得るのに適した原料
組成物を提供することである。 [問題点を解決するための手段] 本発明は、金属Si粉末または金属Si粉末を
45vol%以上含む無機化合物粉末に、バインダと
して熱可塑性樹脂を添加し加熱混練後、温間加圧
成形により、粉末粒子体積充填率を70vol%(成
形体中に占める粉末粒子の体積比率)以上の成形
体を形成し、該成形体中のバインダを加熱除去し
た後、窒化性ガス雰囲気中で加熱焼結することに
より、前記Siから生成したSi3N4の粒子及びウイ
スカにより前記Si3N4および無機化合物の粒子間
を連結することを特徴とする高強度かつ高寸法精
度セラミツクスの製造法にある。 また、本発明は、金属Si粉末または金属Si粉末
を45vol%以上含む無機化合物粉末と熱可塑性樹
脂から成るバインダを含み、該組成物の150℃の
見掛け粘度が(3〜90)×104N・s/m2であるこ
とを特徴とする高寸法精度セラミツクス用組成物
にある。 上記において、Si粉末の配合比が45vol%未満
では、焼結時の寸法変化率を小さくすることがで
きないばかりか、充分な強度のセラミツクス焼結
体が得られない。本発明においては、Si粉末の配
合比が45vol%以上とすることにより、焼結時の
寸法変化率を0.2%以内とすることが可能である。
もちろんSiが100%であつてもさしつかえない。 また、成形体の粉末粒子体積充填体が70vol%
未満では、充分な強度のセラミツクス焼結体が得
られない。70vol%以上にすることによつて、曲
げ強さ約300MN/m2以上の強度をもつ焼結体を
得ることができる。特に、強度向上の点で最も有
効な手段である。 前記無機化合物としては酸化物、炭化物、窒化
物、酸窒化物、ケイ化物、ホウ化物の少なくとも
一種から選ばれ、かつ、該無機化合物はその融点
または昇華温度が1400℃以上であることが望まし
い。 上記無機化合物としては、例えば、TiN,
Si3N4,Si2N2O,TiC,TiO2,AlN,Al2O3,
SiO2,ZrN,ZrO2,ZrC,TiB2,ZrB2,Cr3C2,
Cr7C2,CrB,CrB,Cr2N,WC,W2C,WSi2,
TiSi2,ZrSi2,Fe3C,VC,VN,CeC2,MgO,
Mo2N,Mo2C,MoB,ThC,HfN,HfC,
TaN,TaC,TaB2,NbN,BeO,WN,CaO,
TaSi2,CrBi2などがある。 上記無機化合物中、ケイ化物およびホウ化物は
窒化性ガス中において焼結する際、窒素と反応す
るために、焼結条件が不適切であると焼結体にク
ラツクが入ることがあるので、炭化物、窒化物、
酸窒化物を用いる方が良い。 本発明においては、金属Si粉末はFeを含むフ
エロSiを用いることができる。但し、Feが焼結
体中に残存し高温強度を低下させることがある。 上記Si粉末の平均粒径は10μm以下、好ましく
は1μm以下が、また、無機化合物の粉末の平均
粒径は100μm以下、好ましくは20μm以下が望ま
しい。これらは市販品をそのまま用いるてもよい
が、ミルなどにより粉砕し丸みを帯びた粒子とし
て使用するのがよい。 前記無機化合物粉末は、その一部をウイスカに
換えてもよい。この場合ウイスカの配合量は、焼
結体組成中55vol%以下が望ましい。これより多
くなると、原料の均一なブレンドができない場合
がある。また、添加するウイスカとしては、平均
アスペクト比200以下、平均長さ200μm以下が好
ましい。 前記バインダ樹脂としては、こうしたセラミツ
クス焼結のための予備成形体の作成に用いられて
いる熱可塑性樹脂を用いることができる。例え
ば、ポリビニルブチラール、ポリエチレン、ポリ
シリコーン、合成ワツクスなどがある。 本発明は、これらバインダが重要な役目を有
し、成形体の粉末粒子充填率を70vol%以上とす
るのに、このバインダの添加量が大きな作用を及
ぼす。 本発明者らはこの点についても種々検討を重
ね、原料粉末の比表面積と該原料粉末100重量部
当たりのバインダ添加量との間に極めて深い相関
関係があることを導き出し、本発明に到つた。 先ず、原料粉末の比表面積S(cm3/g)は次式
によつて求めることができる。 S=6/ρ・d 但し、ρは密度、dは平均粒径(μm)であ
る。そして、上記比表面積Sと、成形体の粉末粒
子充填率を70vol%以上とするバインダ量B(原料
粉末組成物100重量部に対する重量部)との関係
は次式で示される。 B=〔(7S/20000)+3〕±2.5 上記の式で与えられる範囲内のバインダ量を添
加することによつて、成形体の粉末粒子充填率を
70vol%以上にすることができ、曲げ強さ約
300MN/m2以上の焼結体を提供することができ
る。 上記バインダ量を配合した原料組成物は、後述
するように、その見掛け粘度が(3〜90)×
104N・s/m2の範囲内となり、この粘度範囲を
選択することによつて、成形時の流動性が予測で
き、かつ、充填率70vol%以上の成形体を得るこ
とができるので、ニアネツトシエイプに適した組
成物を提供することができる。 とくに原料組成物の流動性の点からは、Si粉末
として平均粒径1μm以下のものを用い、バイン
ダには、ポリエチレン15〜60重量%、ワツクス30
〜70重量%およびステアリン酸5〜25重量%の割
合で配合したものを添加するのがよい。 上記バインダ樹脂を添加した原料組成物は、充
分混練した後成形される。成形方法は、射出成
形、プレス成形、ラバープレス成形、押出し成
形、金型粉末成形など形状と要求特性に応じて選
択することができるが、バインダ樹脂の軟化温度
以上で温間成形する。例えば、メカニカルプレス
を用いて成形する場合には、成形圧は1000Kgf/
cm3程度で行なうのがよい。 上記成形体は、焼結前に脱脂(脱バインダ)す
る。脱脂は、室温から約2℃/hで徐々に温度を
上げ、約500℃まで加熱することにより行なうこ
とができる。 上記成形体を窒素及び/又はアンモニア、また
は必要に応じて水素、アルゴン、ヘリウムなどを
加えた窒化性ガス雰囲気中で金属Siの融点未満
(1410℃未満)、特に1100〜1350℃で加熱するのが
好ましく、焼結温度までの昇温速度は4℃/hが
適当であり、これによつて容易に焼結することが
できる。なお、必要に応じてホツトプレスしても
よい。 焼結体は、その気孔率を30%以下とするのが好
ましい。気孔率が30%を超えると強度が小さくな
る。気孔率を30%以下とするには、前記成形体の
粒子体積充填率を70vol%以上にすることによつ
て達成することができる。 また、焼結体中には、焼結過程でSi3N4の粒子
及びウイスカが生成するが、該粒子及びウイスカ
は反応生成相に対して1〜70vol%、特に10〜
30vol%含まれていることが好ましい。 [作用] 本発明のセラミツクスが、焼結時の寸法変化率
(約0.15%以下)が小さく、曲げ強さが300MN/
m2以上のものが得られる理由は、次のことが考え
られる。 まず、第一に焼結時の寸法変化率は、窒化性雰
囲気中で焼結することにより生成されるSi3N4の
粒子及びウイスカが大きく寄与している。これ
は、第1,2図から明らかである。 図にSiと無機化合物の混合物に熱可塑性樹脂を
9重量部添加して加熱混練し、温間加圧成形後、
脱バインダして窒素ガス中で焼結した時の原料配
合比〔Si/(Si+無機化合物)〕と、焼結時の寸
法変化率及び曲げ強さの関係を示すが、Si量の増
加に従い生成Si3N4の粒子及びウイスカが増加
し、強度は増す。但し、焼結時の寸法変化率は大
きくなるが、実用上問題となるほどではない。 これは、焼結時に生成する粒子及びウイスカが
焼結体の粒子間を密に連結するためと考える。特
に45vol%以上になると曲げ強さ300MN/m2以上
の焼結体が得られるのは、こうした連結鎖が多く
なるためである。 次に、第3,4図にSi配合比を60vol%として、
バインダ樹脂量と曲げ強さの関係を示す。図か
ら、バインダ樹脂量が曲げ強さに大きく影響する
ことが判る。これは成形体の体積充填率が影響し
ている。 原料粉末自体は脆性の固体微粉末粒子であり、
そのまま加圧したのでは充填が困難である。その
ため、バインダを加えて粉体の流動性を助け、か
つ成形体の強度を高める必要がある。バインダ添
加量により焼結体の強度が変わるが、これは成形
体の粒子体積充填率(密度)に関係することは前
に述べた。バインダ量を増していくと、混合物の
加温下の流動性は良好となり、加圧成形が容易に
なる。その結果成形体の粒子体積充填率が向上す
る。しかし、原料粉が理想的な密充填にあるとき
の空孔の割合以上にバインダを添加すると、原料
粉がバインダ中に孤立したような状態となり流動
性は良くなるが、成形体中の固形分率が低下し、
その結果成形体の粒子体積充填率が低下し、焼結
体の気孔率が大きくなつて、焼結体強度の低下に
つながる。 既述のように、窒化性雰囲気中で加熱焼結され
ることにより、Si粉末から生成する粒子及びウイ
スカが無機化合物の粒子相互間を連結すると共に
粒子間空隙を埋め、焼結体中に3次元的に成長す
るため、高靱性のセラミツクスが得られる。 本発明のセラミツクスは、粒子体積充填率
70vol%以上の成形体中の、金属Si粉末から生成
した窒化物により粒子相互間を連結するので、焼
結時の寸法変化率が小さく変形もない。 なお、本発明において、金属Siから生成する粒
子およびウイスカは窒化物であることが好まし
い。酸化物は、高温強度が低下する傾向がある。 [発明の効果] 本発明によれば、焼結時の寸法変化率が0.2%
以内で、曲げ強さ約300MN/m2以上のセラミツ
クスをニアネツトシエイプにより得られる。これ
は、焼結後の機械加工等をほとんど必要としない
ので、エンジンやタービンなどの構造用部品をは
じめ各種の分野に応用することができる。 以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 [実施例] 実施例 1〜6 平均粒径16μmのSiC粒子と平均粒径0.9μmの金
属Siを第1表に示す原料配合比の混合粉末500g
に成形用バインダとしてポリエチレン(メルトイ
ンデツクス1.5)21%、ポリエチレン系ワツクス
(PE−520ヘキストジヤパン製)43%、プレンド
ワツクス(D−556中京油脂製)21%、ステアリ
ン酸15%の割合で配合したものを8〜12重量部添
加し加圧ニーダで160℃、5時間混練した。そし
て、混練物を破砕した後、供試原料とした。これ
らの原料をメカニカルプレスを用いて成形圧力
1000Kgf/cm2、温度160℃で直径50mm、厚さ20mm
のものに成形した。得られた成形体の粒子体積充
填率は70vol%以上である。この各成形体から成
形バインダを除去した後、窒素雰囲気中1100℃か
ら1350℃まで4℃/hの昇温速度で長時間かけて
加熱した。これにより、Si3N4のウイスカ/粒子
=1/9の焼結体を得た。ここで、このウイス
カ/粒子の配合比は加熱昇温速度、保持時間を変
化させることにより調整することが可能である。
また、ウイスカ/粒子の割合は、焼結体の走査電
顕観察及び透過電顕観察から求めることができ
る。 得られた焼結体の特性を第1表に示す。破壊靱
性値は、3×4×40mmの試験片にダイヤモンドホ
イールで0.5mmの切欠きを入れたノツチドビーム
法で測定した。熱衝撃値は焼結体を1250℃で30分
間保持した後、水中に投入して急冷し、亀裂が発
生するまで反復し、その回数を以て比較した。次
に、第2表の比較例1〜6に示す組成の混合粉末
を調整した。この混合粉末は、焼結助剤として
Y2O3を含有させている。これを前記と同様に成
形し、1700℃で5時間焼結し焼結体を得た。得ら
れた焼結体の特性を第2表に示す。 第1図にSiC含有量と焼結時寸法変化率の関係
を示す。本発明品Aは、Si3N4粉末とSiC粉末に
焼結助剤Y2O3を添加したものBと比較して寸法
変化率が極めて小さく優れた焼結体が得られる。
よびその組成物に関する。 [従来の技術] 一般に、エンジンやタービンなどの構造材料に
適するエンジニアリングセラミツクスとしては、
耐熱性に優れたSiCやSi3N4などが知られている。
そして、これらの焼結技術としては、常圧焼結
法、加圧焼結法、反応焼結法がある。その中で常
圧焼結法、加圧焼結法は焼結前後の寸法変化率が
15〜20%あり、変形し易く寸法精度も悪い。一
方、反応焼結法は、他の材料に比較して焼結時の
寸法変化率が小さいことが知られているが、特開
昭58−140375号に示されるように、それでも1〜
1.5%程度変化する。 また、焼結時の寸法変化が小さい材料として、
従来から耐火物に使用されているSi3N4結合材が
あるが、特開昭58−88169号に示されるように機
械強度が50MN/m2程度で、構造用材料としては
不適当である。 また、本願の出願人が先に出願した特開昭61−
201662号では、焼結時の寸法変化率においては、
充分小さいものを得ることができるが、組成物の
流動性に問題があり、複雑形状の成形体が成形し
にくい。また、焼結体の強度アツプの点において
もその特徴が充分生かされていなかつた。 [発明が解決しようとする問題点] 焼結時の寸法変化率が大きいことや、焼結体が
硬く脆いために加工が容易でないことが、エンジ
ニアリングセラミツクスの普及しにくい理由の一
つでもあり、これまでには焼結時の寸法変化率が
小さく、高強度で高寸法精度のセラミツクスの実
用的な製造技術がないと云つても過言ではない。 本発明の目的は、焼結時の寸法変化率が小さ
く、高温強度、耐熱衝撃性に優れ、ほとんど機械
加工の不用な高寸法精度のニアネツトシエイプに
適したセラミツクスの製法並びにその組成物を提
供することにある。更に、成形時の流動性に優
れ、かつ、高強度の焼結体を得るのに適した原料
組成物を提供することである。 [問題点を解決するための手段] 本発明は、金属Si粉末または金属Si粉末を
45vol%以上含む無機化合物粉末に、バインダと
して熱可塑性樹脂を添加し加熱混練後、温間加圧
成形により、粉末粒子体積充填率を70vol%(成
形体中に占める粉末粒子の体積比率)以上の成形
体を形成し、該成形体中のバインダを加熱除去し
た後、窒化性ガス雰囲気中で加熱焼結することに
より、前記Siから生成したSi3N4の粒子及びウイ
スカにより前記Si3N4および無機化合物の粒子間
を連結することを特徴とする高強度かつ高寸法精
度セラミツクスの製造法にある。 また、本発明は、金属Si粉末または金属Si粉末
を45vol%以上含む無機化合物粉末と熱可塑性樹
脂から成るバインダを含み、該組成物の150℃の
見掛け粘度が(3〜90)×104N・s/m2であるこ
とを特徴とする高寸法精度セラミツクス用組成物
にある。 上記において、Si粉末の配合比が45vol%未満
では、焼結時の寸法変化率を小さくすることがで
きないばかりか、充分な強度のセラミツクス焼結
体が得られない。本発明においては、Si粉末の配
合比が45vol%以上とすることにより、焼結時の
寸法変化率を0.2%以内とすることが可能である。
もちろんSiが100%であつてもさしつかえない。 また、成形体の粉末粒子体積充填体が70vol%
未満では、充分な強度のセラミツクス焼結体が得
られない。70vol%以上にすることによつて、曲
げ強さ約300MN/m2以上の強度をもつ焼結体を
得ることができる。特に、強度向上の点で最も有
効な手段である。 前記無機化合物としては酸化物、炭化物、窒化
物、酸窒化物、ケイ化物、ホウ化物の少なくとも
一種から選ばれ、かつ、該無機化合物はその融点
または昇華温度が1400℃以上であることが望まし
い。 上記無機化合物としては、例えば、TiN,
Si3N4,Si2N2O,TiC,TiO2,AlN,Al2O3,
SiO2,ZrN,ZrO2,ZrC,TiB2,ZrB2,Cr3C2,
Cr7C2,CrB,CrB,Cr2N,WC,W2C,WSi2,
TiSi2,ZrSi2,Fe3C,VC,VN,CeC2,MgO,
Mo2N,Mo2C,MoB,ThC,HfN,HfC,
TaN,TaC,TaB2,NbN,BeO,WN,CaO,
TaSi2,CrBi2などがある。 上記無機化合物中、ケイ化物およびホウ化物は
窒化性ガス中において焼結する際、窒素と反応す
るために、焼結条件が不適切であると焼結体にク
ラツクが入ることがあるので、炭化物、窒化物、
酸窒化物を用いる方が良い。 本発明においては、金属Si粉末はFeを含むフ
エロSiを用いることができる。但し、Feが焼結
体中に残存し高温強度を低下させることがある。 上記Si粉末の平均粒径は10μm以下、好ましく
は1μm以下が、また、無機化合物の粉末の平均
粒径は100μm以下、好ましくは20μm以下が望ま
しい。これらは市販品をそのまま用いるてもよい
が、ミルなどにより粉砕し丸みを帯びた粒子とし
て使用するのがよい。 前記無機化合物粉末は、その一部をウイスカに
換えてもよい。この場合ウイスカの配合量は、焼
結体組成中55vol%以下が望ましい。これより多
くなると、原料の均一なブレンドができない場合
がある。また、添加するウイスカとしては、平均
アスペクト比200以下、平均長さ200μm以下が好
ましい。 前記バインダ樹脂としては、こうしたセラミツ
クス焼結のための予備成形体の作成に用いられて
いる熱可塑性樹脂を用いることができる。例え
ば、ポリビニルブチラール、ポリエチレン、ポリ
シリコーン、合成ワツクスなどがある。 本発明は、これらバインダが重要な役目を有
し、成形体の粉末粒子充填率を70vol%以上とす
るのに、このバインダの添加量が大きな作用を及
ぼす。 本発明者らはこの点についても種々検討を重
ね、原料粉末の比表面積と該原料粉末100重量部
当たりのバインダ添加量との間に極めて深い相関
関係があることを導き出し、本発明に到つた。 先ず、原料粉末の比表面積S(cm3/g)は次式
によつて求めることができる。 S=6/ρ・d 但し、ρは密度、dは平均粒径(μm)であ
る。そして、上記比表面積Sと、成形体の粉末粒
子充填率を70vol%以上とするバインダ量B(原料
粉末組成物100重量部に対する重量部)との関係
は次式で示される。 B=〔(7S/20000)+3〕±2.5 上記の式で与えられる範囲内のバインダ量を添
加することによつて、成形体の粉末粒子充填率を
70vol%以上にすることができ、曲げ強さ約
300MN/m2以上の焼結体を提供することができ
る。 上記バインダ量を配合した原料組成物は、後述
するように、その見掛け粘度が(3〜90)×
104N・s/m2の範囲内となり、この粘度範囲を
選択することによつて、成形時の流動性が予測で
き、かつ、充填率70vol%以上の成形体を得るこ
とができるので、ニアネツトシエイプに適した組
成物を提供することができる。 とくに原料組成物の流動性の点からは、Si粉末
として平均粒径1μm以下のものを用い、バイン
ダには、ポリエチレン15〜60重量%、ワツクス30
〜70重量%およびステアリン酸5〜25重量%の割
合で配合したものを添加するのがよい。 上記バインダ樹脂を添加した原料組成物は、充
分混練した後成形される。成形方法は、射出成
形、プレス成形、ラバープレス成形、押出し成
形、金型粉末成形など形状と要求特性に応じて選
択することができるが、バインダ樹脂の軟化温度
以上で温間成形する。例えば、メカニカルプレス
を用いて成形する場合には、成形圧は1000Kgf/
cm3程度で行なうのがよい。 上記成形体は、焼結前に脱脂(脱バインダ)す
る。脱脂は、室温から約2℃/hで徐々に温度を
上げ、約500℃まで加熱することにより行なうこ
とができる。 上記成形体を窒素及び/又はアンモニア、また
は必要に応じて水素、アルゴン、ヘリウムなどを
加えた窒化性ガス雰囲気中で金属Siの融点未満
(1410℃未満)、特に1100〜1350℃で加熱するのが
好ましく、焼結温度までの昇温速度は4℃/hが
適当であり、これによつて容易に焼結することが
できる。なお、必要に応じてホツトプレスしても
よい。 焼結体は、その気孔率を30%以下とするのが好
ましい。気孔率が30%を超えると強度が小さくな
る。気孔率を30%以下とするには、前記成形体の
粒子体積充填率を70vol%以上にすることによつ
て達成することができる。 また、焼結体中には、焼結過程でSi3N4の粒子
及びウイスカが生成するが、該粒子及びウイスカ
は反応生成相に対して1〜70vol%、特に10〜
30vol%含まれていることが好ましい。 [作用] 本発明のセラミツクスが、焼結時の寸法変化率
(約0.15%以下)が小さく、曲げ強さが300MN/
m2以上のものが得られる理由は、次のことが考え
られる。 まず、第一に焼結時の寸法変化率は、窒化性雰
囲気中で焼結することにより生成されるSi3N4の
粒子及びウイスカが大きく寄与している。これ
は、第1,2図から明らかである。 図にSiと無機化合物の混合物に熱可塑性樹脂を
9重量部添加して加熱混練し、温間加圧成形後、
脱バインダして窒素ガス中で焼結した時の原料配
合比〔Si/(Si+無機化合物)〕と、焼結時の寸
法変化率及び曲げ強さの関係を示すが、Si量の増
加に従い生成Si3N4の粒子及びウイスカが増加
し、強度は増す。但し、焼結時の寸法変化率は大
きくなるが、実用上問題となるほどではない。 これは、焼結時に生成する粒子及びウイスカが
焼結体の粒子間を密に連結するためと考える。特
に45vol%以上になると曲げ強さ300MN/m2以上
の焼結体が得られるのは、こうした連結鎖が多く
なるためである。 次に、第3,4図にSi配合比を60vol%として、
バインダ樹脂量と曲げ強さの関係を示す。図か
ら、バインダ樹脂量が曲げ強さに大きく影響する
ことが判る。これは成形体の体積充填率が影響し
ている。 原料粉末自体は脆性の固体微粉末粒子であり、
そのまま加圧したのでは充填が困難である。その
ため、バインダを加えて粉体の流動性を助け、か
つ成形体の強度を高める必要がある。バインダ添
加量により焼結体の強度が変わるが、これは成形
体の粒子体積充填率(密度)に関係することは前
に述べた。バインダ量を増していくと、混合物の
加温下の流動性は良好となり、加圧成形が容易に
なる。その結果成形体の粒子体積充填率が向上す
る。しかし、原料粉が理想的な密充填にあるとき
の空孔の割合以上にバインダを添加すると、原料
粉がバインダ中に孤立したような状態となり流動
性は良くなるが、成形体中の固形分率が低下し、
その結果成形体の粒子体積充填率が低下し、焼結
体の気孔率が大きくなつて、焼結体強度の低下に
つながる。 既述のように、窒化性雰囲気中で加熱焼結され
ることにより、Si粉末から生成する粒子及びウイ
スカが無機化合物の粒子相互間を連結すると共に
粒子間空隙を埋め、焼結体中に3次元的に成長す
るため、高靱性のセラミツクスが得られる。 本発明のセラミツクスは、粒子体積充填率
70vol%以上の成形体中の、金属Si粉末から生成
した窒化物により粒子相互間を連結するので、焼
結時の寸法変化率が小さく変形もない。 なお、本発明において、金属Siから生成する粒
子およびウイスカは窒化物であることが好まし
い。酸化物は、高温強度が低下する傾向がある。 [発明の効果] 本発明によれば、焼結時の寸法変化率が0.2%
以内で、曲げ強さ約300MN/m2以上のセラミツ
クスをニアネツトシエイプにより得られる。これ
は、焼結後の機械加工等をほとんど必要としない
ので、エンジンやタービンなどの構造用部品をは
じめ各種の分野に応用することができる。 以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 [実施例] 実施例 1〜6 平均粒径16μmのSiC粒子と平均粒径0.9μmの金
属Siを第1表に示す原料配合比の混合粉末500g
に成形用バインダとしてポリエチレン(メルトイ
ンデツクス1.5)21%、ポリエチレン系ワツクス
(PE−520ヘキストジヤパン製)43%、プレンド
ワツクス(D−556中京油脂製)21%、ステアリ
ン酸15%の割合で配合したものを8〜12重量部添
加し加圧ニーダで160℃、5時間混練した。そし
て、混練物を破砕した後、供試原料とした。これ
らの原料をメカニカルプレスを用いて成形圧力
1000Kgf/cm2、温度160℃で直径50mm、厚さ20mm
のものに成形した。得られた成形体の粒子体積充
填率は70vol%以上である。この各成形体から成
形バインダを除去した後、窒素雰囲気中1100℃か
ら1350℃まで4℃/hの昇温速度で長時間かけて
加熱した。これにより、Si3N4のウイスカ/粒子
=1/9の焼結体を得た。ここで、このウイス
カ/粒子の配合比は加熱昇温速度、保持時間を変
化させることにより調整することが可能である。
また、ウイスカ/粒子の割合は、焼結体の走査電
顕観察及び透過電顕観察から求めることができ
る。 得られた焼結体の特性を第1表に示す。破壊靱
性値は、3×4×40mmの試験片にダイヤモンドホ
イールで0.5mmの切欠きを入れたノツチドビーム
法で測定した。熱衝撃値は焼結体を1250℃で30分
間保持した後、水中に投入して急冷し、亀裂が発
生するまで反復し、その回数を以て比較した。次
に、第2表の比較例1〜6に示す組成の混合粉末
を調整した。この混合粉末は、焼結助剤として
Y2O3を含有させている。これを前記と同様に成
形し、1700℃で5時間焼結し焼結体を得た。得ら
れた焼結体の特性を第2表に示す。 第1図にSiC含有量と焼結時寸法変化率の関係
を示す。本発明品Aは、Si3N4粉末とSiC粉末に
焼結助剤Y2O3を添加したものBと比較して寸法
変化率が極めて小さく優れた焼結体が得られる。
【表】
【表】
実施例 7〜49
実施例5と同様にしてSiC粉末の代わりに第3
表に示す無機化合物を添加して同様に成形、焼結
した。得られた焼結体の特性を第3表に示す。 第3表から、本発明品は、高温強度、破壊靱
性、耐熱衝撃性が優れている。また、焼結時の寸
法変化率はいずれも第1図の曲線Aとほぼ同様の
値を示した。
表に示す無機化合物を添加して同様に成形、焼結
した。得られた焼結体の特性を第3表に示す。 第3表から、本発明品は、高温強度、破壊靱
性、耐熱衝撃性が優れている。また、焼結時の寸
法変化率はいずれも第1図の曲線Aとほぼ同様の
値を示した。
【表】
【表】
実施例 50〜53
実施例5のSiC粉末の変わりに第4表に示す
SiCウイスカを添加し、同様に成形、焼結し焼結
体を得た。得られた焼結体の特性を第4表に示
す。また、焼結時寸法変化率はいずれも0.13%以
内であつた。これより、原料ウイスカの平均アス
ペクト比は200以下、平均長さは200μm以下が好
ましいことが判る。
SiCウイスカを添加し、同様に成形、焼結し焼結
体を得た。得られた焼結体の特性を第4表に示
す。また、焼結時寸法変化率はいずれも0.13%以
内であつた。これより、原料ウイスカの平均アス
ペクト比は200以下、平均長さは200μm以下が好
ましいことが判る。
【表】
実施例 54〜60
実施例1〜6と同様にして成形体を作製した。
そして、窒素雰囲気中1400℃まで段階的に加熱時
間を変えて焼結を行い、Si3N4ウイスカの生成量
を調整し、焼結体を得た。得られた焼結体の試験
結果を第5表に示す。以上より生成Si3N4相
100vol%に対して、1〜70vol%Si3N4ウイスカが
存在する本発明品は特に靱性に優れていることが
判る。
そして、窒素雰囲気中1400℃まで段階的に加熱時
間を変えて焼結を行い、Si3N4ウイスカの生成量
を調整し、焼結体を得た。得られた焼結体の試験
結果を第5表に示す。以上より生成Si3N4相
100vol%に対して、1〜70vol%Si3N4ウイスカが
存在する本発明品は特に靱性に優れていることが
判る。
【表】
実施例 61〜65
Siを55vol%、SiCを45vol%とし、成形用バイ
ンダの添加量を5〜13重量部と変えることによ
り、成形体の粒子体積充填率を変化させた場合の
焼結体の各特性値を第6表に示す。また第5図に
成形体の粒子体積充填率と曲げ強さの関係を示
す。これより成形体の粒子体積充填率を70vol%
以上とするのが好ましいことが判る。
ンダの添加量を5〜13重量部と変えることによ
り、成形体の粒子体積充填率を変化させた場合の
焼結体の各特性値を第6表に示す。また第5図に
成形体の粒子体積充填率と曲げ強さの関係を示
す。これより成形体の粒子体積充填率を70vol%
以上とするのが好ましいことが判る。
【表】
実施例 66〜80
実施例1と同様にして、原料配合比および成形
バインダ量を変えて成形した成形体の粒子体積充
填率を第7表に示す。 また、原料の比表面積に対する適正バインダ添
加量との関係は第6図のようになり、ハツチング
した範囲内であれば、成形体の粒子体積充填率を
70vol%以上にすることができる。
バインダ量を変えて成形した成形体の粒子体積充
填率を第7表に示す。 また、原料の比表面積に対する適正バインダ添
加量との関係は第6図のようになり、ハツチング
した範囲内であれば、成形体の粒子体積充填率を
70vol%以上にすることができる。
【表】
実施例 81
実施例66〜80の原料と成形バインダの混練物つ
いて、フローテスタを用い見掛け粘度を測定し
た。 見掛け粘度と成形体の粒子体積充填率との関係
を第7図に示す。見掛け粘度は、その値が小さい
ほど流動性がよいことを示し、成形性に優れたも
のと云うことができる。 なお、測定条件は、直径6mm、長さ6.8mmのノ
ズルを用いて、温度150℃、圧力39MN/m2で測
定した。 図より、見掛け粘度(3〜90)×104N・s/m2
の範囲の組成物を用いることにより、粒子体積充
填率を70vol%以上とすることができる。また、
見掛け粘度も上記範囲であれば比較的低いので、
複雑形状を緻密に成形することが可能である。
いて、フローテスタを用い見掛け粘度を測定し
た。 見掛け粘度と成形体の粒子体積充填率との関係
を第7図に示す。見掛け粘度は、その値が小さい
ほど流動性がよいことを示し、成形性に優れたも
のと云うことができる。 なお、測定条件は、直径6mm、長さ6.8mmのノ
ズルを用いて、温度150℃、圧力39MN/m2で測
定した。 図より、見掛け粘度(3〜90)×104N・s/m2
の範囲の組成物を用いることにより、粒子体積充
填率を70vol%以上とすることができる。また、
見掛け粘度も上記範囲であれば比較的低いので、
複雑形状を緻密に成形することが可能である。
第1図は焼結時の寸法変化率と原料配合比の関
係、第2図は原料配合比〔Si/(Si+無機化合
物)〕および〔Si3N4/(Si3N4+SiC)〕と焼結時
寸法変化率並びに曲げ強さの関係を示す図、第3
図は熱可塑性樹脂量と曲げ強さの関係を示す図、
第4,5図は成形体の粒子体積充填率と曲げ強さ
の関係を示す図、第6図は原料粉末の比表面積と
成形バインダ量との関係を示す図、第7図は原料
組成物のフローテスタによる見掛け粘度と粒子体
積充填率との関係を示す図ある。 A…本発明、B…比較例。
係、第2図は原料配合比〔Si/(Si+無機化合
物)〕および〔Si3N4/(Si3N4+SiC)〕と焼結時
寸法変化率並びに曲げ強さの関係を示す図、第3
図は熱可塑性樹脂量と曲げ強さの関係を示す図、
第4,5図は成形体の粒子体積充填率と曲げ強さ
の関係を示す図、第6図は原料粉末の比表面積と
成形バインダ量との関係を示す図、第7図は原料
組成物のフローテスタによる見掛け粘度と粒子体
積充填率との関係を示す図ある。 A…本発明、B…比較例。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 金属Si粉末または金属Si粉末を45vol%以上
含む無機化合物粉末に、熱可塑性樹脂から成るバ
インダを添加し加熱混練後、温間加圧成形により
粉末粒子体積充填率が70vol%以上の成形体を形
成し、該成形体中のバインダを加熱除去した後、
窒化性ガス雰囲気中で加熱焼結することにより、
前記Siから生成したSi3N4の粒子及びウイスカに
よりSi3N4または無機化合物の粒子間を連結する
ことを特徴とする高寸法精度セラミツクスの製造
法。 2 金属Si粉末または金属Si粉末を45vol%以上
含む無機化合物粉末に、熱可塑性樹脂から成るバ
インダを B=〔(7S/20000)+3〕±2.5 〔但し、Bは原料粉末組成物100重量部に対す
るバインダの添加量(重量部)、Sは原料粉末の
比表面積(cm2/g)を示す〕 で表わされる量を添加し加熱混練後、温間加圧成
形により粉末粒子体積充填率が70vol%以上の成
形体を形成し、該成形体中のバインダを加熱除去
した後、窒化性ガス雰囲気中で加熱焼結すること
により、前記Siから生成したSi3N4の粒子及びウ
イスカによりSi3N4または無機化合物の粒子間を
連結することを特徴とする高寸法精度セラミツク
スの製造法。 3 金属Si粉末または金属Si粉末を45vol%以上
含む無機化合物粉末と熱可塑性樹脂から成るバイ
ンダを含み、該組成物の150℃の見掛け粘度が
(3〜90)×104N・s/m2であることを特徴とす
る高寸法精度セラミツクス用の組成物。 4 金属Si粉末または金属Si粉末を45vol%以上
含む無機化合物粉末と熱可塑性樹脂から成るバイ
ンダを含み、該バインダ量が B=〔(7S/20000)+3〕±2.5 〔但し、Bは原料粉末組成物100重量部に対す
るバインダの添加量(重量部)、Sは原料粉末の
比表面積(cm2/g)を示す〕 であることを特徴とする高寸法精度セラミツクス
用組成物。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62110556A JPS63277576A (ja) | 1987-05-08 | 1987-05-08 | 高寸法精度セラミックスの製造法及び組成物 |
| EP88105644A EP0286127B1 (en) | 1987-04-10 | 1988-04-08 | Ceramic composite and process for production thereof |
| DE3855544T DE3855544T2 (de) | 1987-04-10 | 1988-04-08 | Keramische Verbundwerkstoff und Verfahren zur Herstellung desselben |
| EP92113584A EP0520520B1 (en) | 1987-04-10 | 1988-04-08 | Ceramic composite and process for production thereof |
| DE88105644T DE3885140T2 (de) | 1987-04-10 | 1988-04-08 | Keramischer Verbundwerkstoff und Verfahren zu seiner Herstellung. |
| US07/411,330 US5378417A (en) | 1987-04-10 | 1989-09-22 | Process for producing ceramic compositions |
| US07/500,102 US5130055A (en) | 1987-04-10 | 1990-03-26 | Ceramic composite and process for the production thereof |
| US07/863,505 US5316987A (en) | 1987-04-10 | 1992-03-30 | Ceramic composite and process for production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62110556A JPS63277576A (ja) | 1987-05-08 | 1987-05-08 | 高寸法精度セラミックスの製造法及び組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63277576A JPS63277576A (ja) | 1988-11-15 |
| JPH0479986B2 true JPH0479986B2 (ja) | 1992-12-17 |
Family
ID=14538822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62110556A Granted JPS63277576A (ja) | 1987-04-10 | 1987-05-08 | 高寸法精度セラミックスの製造法及び組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63277576A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040043888A1 (en) | 2002-08-28 | 2004-03-04 | Noritake Co., Limited | Compositions and methods for making microporous ceramic materials |
| JP4614908B2 (ja) * | 2005-05-11 | 2011-01-19 | 日立粉末冶金株式会社 | 冷陰極蛍光ランプ用電極 |
| JP5081418B2 (ja) * | 2006-08-28 | 2012-11-28 | パナソニック株式会社 | Ledパッケージ |
-
1987
- 1987-05-08 JP JP62110556A patent/JPS63277576A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63277576A (ja) | 1988-11-15 |
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