JPH0477470B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0477470B2 JPH0477470B2 JP57009197A JP919782A JPH0477470B2 JP H0477470 B2 JPH0477470 B2 JP H0477470B2 JP 57009197 A JP57009197 A JP 57009197A JP 919782 A JP919782 A JP 919782A JP H0477470 B2 JPH0477470 B2 JP H0477470B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- filter
- light
- color
- amorphous semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 claims description 10
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 claims description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 18
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020328 SiSn Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- ZOCHARZZJNPSEU-UHFFFAOYSA-N diboron Chemical compound B#B ZOCHARZZJNPSEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229940014259 gelatin Drugs 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229910000078 germane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJIDIOGYJAQMF-UHFFFAOYSA-N lambda2-silanylidenetin Chemical compound [Si].[Sn] LQJIDIOGYJAQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 230000001012 protector Effects 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCSJYZPVAKXKNQ-HZYVHMACSA-N streptomycin Chemical compound CN[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](CO)O[C@H]1O[C@@H]1[C@](C=O)(O)[C@H](C)O[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](NC(N)=N)[C@H](O)[C@@H](NC(N)=N)[C@H](O)[C@H]1O UCSJYZPVAKXKNQ-HZYVHMACSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は複数の特定波長域に感光する感光装置
に関する。
に関する。
光活性層に単結晶シリコンを用いた複数の特定
波長域に感光する感光装置、所謂色センサーの存
在は既に知られている。その原理的な構成は、第
1図示す如く、単結晶シリコン基板1の表面に複
数の感光領域であるフオトダイオード領域2R,
2G,2Bを設けると共に、これら各領域上に透
過波長域の異なる光学フイルタ、例えば赤色フイ
ルタ3R、緑色フイルタ3G及び青色フイルタ3
Bを配し、更にその上に赤外カツトフイルタ4を
配したもので、斯るセンサーに於いて、各フイル
タ3R,3G,3B,4を介して可視光が基板1
に入射すると、入射可視光の含む色に応じて、そ
れが赤なら赤色フイルタ3Rに対応したフオトダ
イオード領域2Rに、緑なら緑色フイルタ3Gに
対応したフオトダイオード領域2Gに、また青な
ら青色フイルタ3Bに対応したフオトダイオード
領域2Bに夫々信号が出力される。
波長域に感光する感光装置、所謂色センサーの存
在は既に知られている。その原理的な構成は、第
1図示す如く、単結晶シリコン基板1の表面に複
数の感光領域であるフオトダイオード領域2R,
2G,2Bを設けると共に、これら各領域上に透
過波長域の異なる光学フイルタ、例えば赤色フイ
ルタ3R、緑色フイルタ3G及び青色フイルタ3
Bを配し、更にその上に赤外カツトフイルタ4を
配したもので、斯るセンサーに於いて、各フイル
タ3R,3G,3B,4を介して可視光が基板1
に入射すると、入射可視光の含む色に応じて、そ
れが赤なら赤色フイルタ3Rに対応したフオトダ
イオード領域2Rに、緑なら緑色フイルタ3Gに
対応したフオトダイオード領域2Gに、また青な
ら青色フイルタ3Bに対応したフオトダイオード
領域2Bに夫々信号が出力される。
単結晶シリコン自体の感光度特性は第2図の曲
線Aに示す如く、赤外領域にピースを呈する。一
方、赤色フイルタ3Rは赤色帯域で透過度のピー
クを示すものの、その帯域特性の拡がりは減衰し
ながらも赤外領域にまですそ野を引いている。従
つて、光活性層に単結晶シリコンを用いた場合、
赤色フイルタ3Rを通すだけではフオトダイオー
ド領域2Rは、減衰しながらも共に入射する赤外
光に、単結晶シリコン自体の感光度特性に応じて
強く感応してしまい、正確な色情報を検出できな
い。前記従来の色センサーに於ける赤外カツトフ
イルタ4は、この様な入射赤外光を除去するため
に設けられており、不可欠な存在である。
線Aに示す如く、赤外領域にピースを呈する。一
方、赤色フイルタ3Rは赤色帯域で透過度のピー
クを示すものの、その帯域特性の拡がりは減衰し
ながらも赤外領域にまですそ野を引いている。従
つて、光活性層に単結晶シリコンを用いた場合、
赤色フイルタ3Rを通すだけではフオトダイオー
ド領域2Rは、減衰しながらも共に入射する赤外
光に、単結晶シリコン自体の感光度特性に応じて
強く感応してしまい、正確な色情報を検出できな
い。前記従来の色センサーに於ける赤外カツトフ
イルタ4は、この様な入射赤外光を除去するため
に設けられており、不可欠な存在である。
然し乍ら、斯る赤外カツトフイルタ4の存在は
センサーの構成を複雑にするだけでなく、製造に
際して、そのフイルタ4並びに各色フイルタ3
R,3G,3Bを単結晶シリコン基板1上に重量
被着する工程で、脆弱なシリコン基板1を破損し
やすい、といつた欠点をもたらす。
センサーの構成を複雑にするだけでなく、製造に
際して、そのフイルタ4並びに各色フイルタ3
R,3G,3Bを単結晶シリコン基板1上に重量
被着する工程で、脆弱なシリコン基板1を破損し
やすい、といつた欠点をもたらす。
本発明は斯る点に鑑みて為されたものであつ
て、以下に本発明の実施例につき詳述する。
て、以下に本発明の実施例につき詳述する。
第3図A,Bは本発明の一実施例である色セン
サーの光照射側から見た正面図並びにB−B′線
断面図である。同図において、10はガラス・耐
熱プラスチツク等の透光性基板、11R,11
G,11Bは前記透光性基板10の一方の主面に
設けられた複数例えば3個の感光領域で、該感光
領域11R,11G,11Bは前記透光性基板1
側から透光性電極12R,12G,12B、アモ
ルフアス半導体から成る光活性層13R,13
G,13B、及び金属電極14R,14G,14
Bを積層した構造を持つ。前記光活性層13R,
13G,13Bを構成するアモルフアス半導体と
しては、グロー放電等のガス反応を用いて任意の
基板上に形成されるアモルフアスシリコン(a−
Si)・アモルフアスシリコンカーバイト(a−
Sic)・アモルフアスシリコンゲルマニウム(a−
siGe)・アモルフアスシリコンナイトライド(a
−SiN)・アモルフアスシリコンスズ(a−SiSn)
及びそれらを微結晶化したもの等種々のものが知
られており、更にこれらの物質中に水素やハロゲ
ン元素、あるいはドーパントとしては砒素As・
燐P・ボロンB・アルミニウムAlを含むものが
適用される。斯るa−Si系から成る光活性層13
R,13G,13Bの感光度特性は第2図Bに示
す如く可視光域に感度ピークを有すると共に、感
光帯域も大概ね可視光域内に存在する。この感光
度特性はPIN接合型a−Siの光活性層13R,1
3G,13Bのものであり、従来の如く単結晶シ
リコンの感度ピークが赤外領域に存在することに
起因して使用される赤外カツトフイルタ4を用い
るまでもなく、赤外領域に対し感光しない極めて
重要な特性を具備している。
サーの光照射側から見た正面図並びにB−B′線
断面図である。同図において、10はガラス・耐
熱プラスチツク等の透光性基板、11R,11
G,11Bは前記透光性基板10の一方の主面に
設けられた複数例えば3個の感光領域で、該感光
領域11R,11G,11Bは前記透光性基板1
側から透光性電極12R,12G,12B、アモ
ルフアス半導体から成る光活性層13R,13
G,13B、及び金属電極14R,14G,14
Bを積層した構造を持つ。前記光活性層13R,
13G,13Bを構成するアモルフアス半導体と
しては、グロー放電等のガス反応を用いて任意の
基板上に形成されるアモルフアスシリコン(a−
Si)・アモルフアスシリコンカーバイト(a−
Sic)・アモルフアスシリコンゲルマニウム(a−
siGe)・アモルフアスシリコンナイトライド(a
−SiN)・アモルフアスシリコンスズ(a−SiSn)
及びそれらを微結晶化したもの等種々のものが知
られており、更にこれらの物質中に水素やハロゲ
ン元素、あるいはドーパントとしては砒素As・
燐P・ボロンB・アルミニウムAlを含むものが
適用される。斯るa−Si系から成る光活性層13
R,13G,13Bの感光度特性は第2図Bに示
す如く可視光域に感度ピークを有すると共に、感
光帯域も大概ね可視光域内に存在する。この感光
度特性はPIN接合型a−Siの光活性層13R,1
3G,13Bのものであり、従来の如く単結晶シ
リコンの感度ピークが赤外領域に存在することに
起因して使用される赤外カツトフイルタ4を用い
るまでもなく、赤外領域に対し感光しない極めて
重要な特性を具備している。
15R,15G,15Bは前記透光性基板10
の他方の主面に於いて前記3個の感光領域11
R,11G,11Bの夫々に対向すべく配置せし
められた赤色・緑色・青色フイルタで、これ等の
各色フイルタ15R,15G,15Bは赤・緑・
青の各色の特定波長域の可視光を透過せしめるも
ので着色ガラス或いは着色有機樹脂等により構成
され、前記各色フイルタ15R,15G,15B
は一体化されたものであつても良い。
の他方の主面に於いて前記3個の感光領域11
R,11G,11Bの夫々に対向すべく配置せし
められた赤色・緑色・青色フイルタで、これ等の
各色フイルタ15R,15G,15Bは赤・緑・
青の各色の特定波長域の可視光を透過せしめるも
ので着色ガラス或いは着色有機樹脂等により構成
され、前記各色フイルタ15R,15G,15B
は一体化されたものであつても良い。
各感光領域11R,11G,11Bは、各色フ
イルタ15R,15G,15Bより小面積でその
内方に位置するように配されている。
イルタ15R,15G,15Bより小面積でその
内方に位置するように配されている。
而して、前記光活性層13R,13G,13B
が、PIN接合のものであるので赤色・緑色・青色
の各色フイルタ15R,15G,15Bで選択さ
れた特定波長域の光照射により自由状態の電子及
び又はホールを生ぜしめ、それらが夫々の透光性
電極12R,12G,12B及び金属電極14
R,14G,14Bに到達して両電極12R,1
4R・12G,14G・12B,14B間に光起
電力を発生する。この様にして各感光領域11
R,11G,11Bは特定波長域の照射光に感光
し、その照射光の強度に対応したレベルの信号を
出力する。即ち、前記各感光領域11R,11
G,11Bの出力信号のレベルから入射光の波長
成分比を知ることができ、本実施例の如く光の3
原色である赤色・緑色・青色の色フイルタ15
R,15G,15Bを用いることによつて全ての
色情報を得ることができる。
が、PIN接合のものであるので赤色・緑色・青色
の各色フイルタ15R,15G,15Bで選択さ
れた特定波長域の光照射により自由状態の電子及
び又はホールを生ぜしめ、それらが夫々の透光性
電極12R,12G,12B及び金属電極14
R,14G,14Bに到達して両電極12R,1
4R・12G,14G・12B,14B間に光起
電力を発生する。この様にして各感光領域11
R,11G,11Bは特定波長域の照射光に感光
し、その照射光の強度に対応したレベルの信号を
出力する。即ち、前記各感光領域11R,11
G,11Bの出力信号のレベルから入射光の波長
成分比を知ることができ、本実施例の如く光の3
原色である赤色・緑色・青色の色フイルタ15
R,15G,15Bを用いることによつて全ての
色情報を得ることができる。
ところで、今、各感光領域11R,11G,1
1Bを、各色フイルタ15R,15G,15Bと
同じ面積とすると、以下のような問題が生じる。
1Bを、各色フイルタ15R,15G,15Bと
同じ面積とすると、以下のような問題が生じる。
即ち、各感光領域11R,11G,11Bと各
色フイルタ15R,15G,15Bとの間に透光
性基板10が存在するために、例えば、色フイル
タ15Rの色フイルタ15Gとの境界近傍に斜め
に照射される光は、色フイルタ15Gと対向する
感光領域11Gに入射されてしまう、所謂、クロ
ストークが発生する。従つて、感光領域11Gは
色フイルタ15Gを透過してきた光のみならず、
色フイルタ15Rを透過した光をも検出すること
となるため、正確な信号を得ることができない。
色フイルタ15R,15G,15Bとの間に透光
性基板10が存在するために、例えば、色フイル
タ15Rの色フイルタ15Gとの境界近傍に斜め
に照射される光は、色フイルタ15Gと対向する
感光領域11Gに入射されてしまう、所謂、クロ
ストークが発生する。従つて、感光領域11Gは
色フイルタ15Gを透過してきた光のみならず、
色フイルタ15Rを透過した光をも検出すること
となるため、正確な信号を得ることができない。
それに対し、本発明は、各感光領域11R,1
1G,11Bは、各色フイルタ15R,15G,
15Bより小面積でその内方に位置するように配
されているので、例えば、色フイルタ15Rの色
フイルタ15Gとの境界近傍に斜めに光が照射さ
れても、感光領域11Gは、色フイルタ15Rの
端部から引つ込んで位置するため、この領域11
Gに入射されることはない。よつて、正確な色情
報を得ることができる。
1G,11Bは、各色フイルタ15R,15G,
15Bより小面積でその内方に位置するように配
されているので、例えば、色フイルタ15Rの色
フイルタ15Gとの境界近傍に斜めに光が照射さ
れても、感光領域11Gは、色フイルタ15Rの
端部から引つ込んで位置するため、この領域11
Gに入射されることはない。よつて、正確な色情
報を得ることができる。
次いで本発明の具体的実施例をその製造方法と
共に説明する。
共に説明する。
先ず、透光性電極12R,12G,12Bとし
てインジウム錫酸化物(ITO)がスパツタにより
被着されパターニングされたガラスから成る厚み
0.3mmの透光性基板10をプラズマ反応炉の反応
電極間に配置し、前記透光性基板10を約300℃
に加熱した状態でシラシ(SiH4)ガスと不純物
ガスとしてジボラン(B2H6)を1000PPm導入す
る。そして上記反応電極に13.56MHz100Wの高
周波電力を付与してグロー放電を生起せしめ前記
透光性基板10上に全面にわたつて厚み約100Å
のP型のアモルフアスシリコン(a−Si:H)を
得る。その後B2H6ガスのみを除去して厚み約
5000ÅのI型a−Si:Hを析出せしめ、更にフオ
スフイン(PH3)を不純物ガスとして1000PPm
混入し300Å程度のN型a−Si:Hを形成し、透
光性基板10側からPIN各層を重畳したPIN接合
を有するアモルフアスシリコン(a−Si:H)か
ら成る1枚の光活性層13の製造を終了する。尚
上記a−Si:Hの成長速度は各層とも約1μm//
hrであるので、所望の厚みを得るべく時間制御す
る。
てインジウム錫酸化物(ITO)がスパツタにより
被着されパターニングされたガラスから成る厚み
0.3mmの透光性基板10をプラズマ反応炉の反応
電極間に配置し、前記透光性基板10を約300℃
に加熱した状態でシラシ(SiH4)ガスと不純物
ガスとしてジボラン(B2H6)を1000PPm導入す
る。そして上記反応電極に13.56MHz100Wの高
周波電力を付与してグロー放電を生起せしめ前記
透光性基板10上に全面にわたつて厚み約100Å
のP型のアモルフアスシリコン(a−Si:H)を
得る。その後B2H6ガスのみを除去して厚み約
5000ÅのI型a−Si:Hを析出せしめ、更にフオ
スフイン(PH3)を不純物ガスとして1000PPm
混入し300Å程度のN型a−Si:Hを形成し、透
光性基板10側からPIN各層を重畳したPIN接合
を有するアモルフアスシリコン(a−Si:H)か
ら成る1枚の光活性層13の製造を終了する。尚
上記a−Si:Hの成長速度は各層とも約1μm//
hrであるので、所望の厚みを得るべく時間制御す
る。
そして、上記a−Si:Hの光活性層13を予め
定められたパターンにフオトエツチング若しくは
プラズマエツチング等の手段によつて分割する。
この分割によつて近接する光活性層13R,13
G,13B同士は確実に絶縁された状態となる。
また、上記エツチング手段を使用せず、アモルフ
アスシリコン形成時に金属マスクを用いて初めか
ら選択的に分離した光活性層13R,13G,1
3Bを形成しても良い。
定められたパターンにフオトエツチング若しくは
プラズマエツチング等の手段によつて分割する。
この分割によつて近接する光活性層13R,13
G,13B同士は確実に絶縁された状態となる。
また、上記エツチング手段を使用せず、アモルフ
アスシリコン形成時に金属マスクを用いて初めか
ら選択的に分離した光活性層13R,13G,1
3Bを形成しても良い。
その後、上記光活性層13R,13G,13B
上にアルミニウムに金属電極14を蒸着し不要部
を除去して3個の感光領域11R,11G,11
Bを前記透光性基板10の一方の主面に完成す
る。
上にアルミニウムに金属電極14を蒸着し不要部
を除去して3個の感光領域11R,11G,11
Bを前記透光性基板10の一方の主面に完成す
る。
上述の如く感光領域11R,11G,11Bを
形成後、赤色・緑色・青色の各フイルタ15R,
15G,15Bを透光性基板10の他方の主面に
於いて前記各感光領域11R,11G,11Bの
夫々と対向するように被着する。斯る赤色・緑
色・青色の各フイルタ11R,11G,11Bは
例えばイーストマン・コダツク社製の商品名
WRATTEN GELA−TIN FILTERNo.25(赤
色)・No.58(緑色)・No.47B(青色)であつて、第4
図の如き透過特性を持つている。このコダツク社
製の色フイルタ15R,15G,15Bはフイル
ム状であり所望パターンに形成後透明な樹脂系の
接着剤で接着される。
形成後、赤色・緑色・青色の各フイルタ15R,
15G,15Bを透光性基板10の他方の主面に
於いて前記各感光領域11R,11G,11Bの
夫々と対向するように被着する。斯る赤色・緑
色・青色の各フイルタ11R,11G,11Bは
例えばイーストマン・コダツク社製の商品名
WRATTEN GELA−TIN FILTERNo.25(赤
色)・No.58(緑色)・No.47B(青色)であつて、第4
図の如き透過特性を持つている。このコダツク社
製の色フイルタ15R,15G,15Bはフイル
ム状であり所望パターンに形成後透明な樹脂系の
接着剤で接着される。
第5図A,B,Cは本発明感光装置の他の実施
例であつて、Aに於いては感光領域11が3個、
Bに於いては4個、Cに於いては6個夫々中心対
称に集中的配置せしめられ、夫々の感光領域11
……には透過波長域の異なる光学フイルタ15…
…が対向するべく設けられているが、先の実施例
の如く赤色・緑色・青色の光の3原色を用いれば
全ての可視光域をカバーすることができるので、
相対感度の低い波長域の色フイルタ15……を重
複して使用すれば低感度を補償することもでき
る。また感光領域11……が6個存在するものに
ついては赤色・緑色・青色の3原色と補色の関係
にあるシアン色・マゼンタ色・黄色の色フイルタ
15……を追加しても良い。
例であつて、Aに於いては感光領域11が3個、
Bに於いては4個、Cに於いては6個夫々中心対
称に集中的配置せしめられ、夫々の感光領域11
……には透過波長域の異なる光学フイルタ15…
…が対向するべく設けられているが、先の実施例
の如く赤色・緑色・青色の光の3原色を用いれば
全ての可視光域をカバーすることができるので、
相対感度の低い波長域の色フイルタ15……を重
複して使用すれば低感度を補償することもでき
る。また感光領域11……が6個存在するものに
ついては赤色・緑色・青色の3原色と補色の関係
にあるシアン色・マゼンタ色・黄色の色フイルタ
15……を追加しても良い。
更に図示はしないが、多数の感光領域を一直線
上に配列した構成が特にカラーフアクシミリ用の
光学読み取り装置として有用である。この場合、
赤色・緑色・青色の各色フイルタを備えた3個の
感光領域を1ユニツトとしたものが一直線上に配
列される。
上に配列した構成が特にカラーフアクシミリ用の
光学読み取り装置として有用である。この場合、
赤色・緑色・青色の各色フイルタを備えた3個の
感光領域を1ユニツトとしたものが一直線上に配
列される。
尚、以上の説明に於けるアモルフアス半導体は
反応ガスの組成並びに組成比を適宜選択すること
によつて感光度特性の異なるものが容易に得られ
ることが知られている。例えば反応ガスとして
SiH4にメタン(CH4)を加えアモルフアスシリ
コンカーバイトを形成すれば、短波長側での感光
度が上昇し、ゲルマン(GeH4)を添加すること
によつてアモルフアスシリコンゲルマニウムを得
て長波長側での感光度を増大せしめることもでき
る。
反応ガスの組成並びに組成比を適宜選択すること
によつて感光度特性の異なるものが容易に得られ
ることが知られている。例えば反応ガスとして
SiH4にメタン(CH4)を加えアモルフアスシリ
コンカーバイトを形成すれば、短波長側での感光
度が上昇し、ゲルマン(GeH4)を添加すること
によつてアモルフアスシリコンゲルマニウムを得
て長波長側での感光度を増大せしめることもでき
る。
上記実施例では、光活性層13R,13G,1
3B、透光性電極12R,12G,12Bそして
金属電極14R,14G,14Bのいずれもを、
各感光領域11R,11G,11B毎に夫々分割
せしめている。
3B、透光性電極12R,12G,12Bそして
金属電極14R,14G,14Bのいずれもを、
各感光領域11R,11G,11B毎に夫々分割
せしめている。
とりわけ、本願発明は、光活性層13R,13
G,13Bを各感光素子毎に分離するようにパタ
ーン化している。このことは、各感光領域11
R,11G,11Bを各色フイルタ15R,15
G,15Bより小面積でその内方に位置するよう
に配することで、正確な色検出を行わしめるのと
同様の理由によるものである。
G,13Bを各感光素子毎に分離するようにパタ
ーン化している。このことは、各感光領域11
R,11G,11Bを各色フイルタ15R,15
G,15Bより小面積でその内方に位置するよう
に配することで、正確な色検出を行わしめるのと
同様の理由によるものである。
即ち、上記光活性層13R,13G,13Bを
各感光素子間に跨るように形成したならば、この
素子間に在る光活性層に各色フイルタの境界近傍
から斜めに入射した光が照射されることとなり誤
つた色情報が含まれることとなるからである。
各感光素子間に跨るように形成したならば、この
素子間に在る光活性層に各色フイルタの境界近傍
から斜めに入射した光が照射されることとなり誤
つた色情報が含まれることとなるからである。
本発明感光装置は以上の説明から明らかな如
く、透光性基板を挟んで感光波長域の異なる複数
の感光領域は、感光度特性が大概ね可視光領域に
存在するアモルフアス半導体を主構成要素とする
光活性層を含んでいるので、従来の赤外領域に感
度ピークを有している単結晶シリコンに於いて不
可欠であつた赤外カツトフイルタを省略すること
ができると共に、前記透光性基板が脆弱な光活性
層に悪影響を与えることなく感光波長域を規制す
る光学フイルタを配置せしめる際の保護体並びに
支持体として作用し装置の歩留りの低下を防止す
ることができる。
く、透光性基板を挟んで感光波長域の異なる複数
の感光領域は、感光度特性が大概ね可視光領域に
存在するアモルフアス半導体を主構成要素とする
光活性層を含んでいるので、従来の赤外領域に感
度ピークを有している単結晶シリコンに於いて不
可欠であつた赤外カツトフイルタを省略すること
ができると共に、前記透光性基板が脆弱な光活性
層に悪影響を与えることなく感光波長域を規制す
る光学フイルタを配置せしめる際の保護体並びに
支持体として作用し装置の歩留りの低下を防止す
ることができる。
更に、各感光領域は、各色フイルタより小面積
でその内方に位置するように配されているので、
クロストークが発生せず、正確な色情報を得るこ
とができる。
でその内方に位置するように配されているので、
クロストークが発生せず、正確な色情報を得るこ
とができる。
第1図は従来装置の断面図、第2図は従来装置
の単結晶シリコンと本発明装置のアモルフアス半
導体の感光度特性図、第3図Aは本発明装置の光
照射側から見た正面図、同図BはAに於けるB−
B′線断面図、第4図は本発明装置に用いられる
光学フイルタの透過特性図、第5図A〜Cは本発
明の更に他の実施例断面図、を夫々示している。 10……透光性基板、11,11R,11G,
11B……感光領域、13,13R,13G,1
3B……光活性層、15,15R,15G,15
B……光学フイルタ。
の単結晶シリコンと本発明装置のアモルフアス半
導体の感光度特性図、第3図Aは本発明装置の光
照射側から見た正面図、同図BはAに於けるB−
B′線断面図、第4図は本発明装置に用いられる
光学フイルタの透過特性図、第5図A〜Cは本発
明の更に他の実施例断面図、を夫々示している。 10……透光性基板、11,11R,11G,
11B……感光領域、13,13R,13G,1
3B……光活性層、15,15R,15G,15
B……光学フイルタ。
Claims (1)
- 1 透光性基板の一方の主面に複数の感光領域を
設けると共に、前記透光性基板の他方の主面に透
過波長域の異なる複数の光学フイルタを前記感光
領域の夫々に対向すべく配置せしめた感光装置に
於いて、各々の前記感光領域は、透明電極と、前
記透光性基板側よりp型アモルフアス半導体層、
i型アモルフアス半導体層及びn型アモルフアス
半導体層を順次積層して成る光活性層と、該光活
性層に被着形成された裏面電極とを備えると共
に、前記光学フイルタより小面積にパターン化さ
れ、且つその配置を前記光学フイルタより内方と
なるように配されると共に、感光度特性が概ね可
視光領域に存在するアモルフアス半導体を主構成
要素とする光活性層を含んでいることを特徴とし
た感光装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57009197A JPS58125865A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | 感光装置 |
GB08300968A GB2115980B (en) | 1982-01-22 | 1983-01-14 | Color sensor |
FR8300882A FR2520557B1 (fr) | 1982-01-22 | 1983-01-20 | Capteur chromatique |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57009197A JPS58125865A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | 感光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58125865A JPS58125865A (ja) | 1983-07-27 |
JPH0477470B2 true JPH0477470B2 (ja) | 1992-12-08 |
Family
ID=11713776
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57009197A Granted JPS58125865A (ja) | 1982-01-22 | 1982-01-22 | 感光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58125865A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3800379A1 (de) * | 1988-01-08 | 1989-07-20 | Boehringer Mannheim Gmbh | Vorrichtung zum abwaschen der innenflaeche eines reaktionsgefaesses und/oder der aussenflaeche eines reagenzkugelkoerpers |
JP2717015B2 (ja) * | 1990-03-16 | 1998-02-18 | シャープ株式会社 | カラーセンサ |
US20050073605A1 (en) * | 2003-10-06 | 2005-04-07 | Burns Jeffrey H. | Integrated optical filter |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4846280A (ja) * | 1971-10-05 | 1973-07-02 | ||
JPS562784A (en) * | 1979-06-22 | 1981-01-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Image pickup device |
JPS564286A (en) * | 1979-06-25 | 1981-01-17 | Canon Inc | Photoelectric converter |
JPS56103573A (en) * | 1980-01-22 | 1981-08-18 | Canon Inc | Color reading device |
JPS56135980A (en) * | 1980-03-28 | 1981-10-23 | Canon Inc | Photoelectric conversion element |
JPS56138362A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-28 | Canon Inc | Photoelectric converter |
-
1982
- 1982-01-22 JP JP57009197A patent/JPS58125865A/ja active Granted
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4846280A (ja) * | 1971-10-05 | 1973-07-02 | ||
JPS562784A (en) * | 1979-06-22 | 1981-01-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Image pickup device |
JPS564286A (en) * | 1979-06-25 | 1981-01-17 | Canon Inc | Photoelectric converter |
JPS56103573A (en) * | 1980-01-22 | 1981-08-18 | Canon Inc | Color reading device |
JPS56135980A (en) * | 1980-03-28 | 1981-10-23 | Canon Inc | Photoelectric conversion element |
JPS56138362A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-28 | Canon Inc | Photoelectric converter |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58125865A (ja) | 1983-07-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0809298A1 (en) | Solid-state image pickup device | |
JP2007311664A (ja) | カラーセンサー、カラーセンサーの製造方法、センサー、及び電子機器 | |
JPH06204445A (ja) | 光センサ及びそれを有する画像情報処理装置 | |
US4405915A (en) | Photoelectric transducing element | |
JPH0477470B2 (ja) | ||
US4656109A (en) | Layered solid state color photosensitive device | |
JPH0478019B2 (ja) | ||
JPS5963779A (ja) | 光感知装置 | |
JPH0433147B2 (ja) | ||
JPH0477471B2 (ja) | ||
JP2717015B2 (ja) | カラーセンサ | |
JP2771532B2 (ja) | 光センサ | |
GB2115980A (en) | Color sensor | |
JPH09275202A (ja) | 光検出装置 | |
JP2004214341A (ja) | 半導体光検出装置 | |
JPS617661A (ja) | 光電変換素子およびこれを利用したカラ−原稿読み取り素子 | |
JPH11121728A (ja) | 固体撮像素子 | |
JP2630407B2 (ja) | 電荷結合素子 | |
JPS61286726A (ja) | 色識別素子 | |
JPH08213584A (ja) | 光電変換装置 | |
JPH0335558A (ja) | カラーセンサ | |
JPH0394478A (ja) | 半導体装置 | |
JPS63222473A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS5976461A (ja) | フオトセンサの製造方法 | |
JPH05226686A (ja) | 受光素子 |