JPH0473928A - 縦型露光転写装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

［０００１］

【産業上の利用分野】

本発明はシンクロトロン放射光（ＳＯＲ）等を用いてウ
ェハ上にマスクパターンを露光転写させる縦型露光転写
装置に関する。 ［０００２］ 半導体の製造工程にはウェハ上にマスクパターンを露光
転写させる工程が含まれ、この露光転写工程を実施する
露光方式には種々のタイプのものが知られている。露光
転写のために用いられる照射光として、一般的には紫外
線が知られているが、近年シンクロトロン放射光（Ｘ線
）が注目されている。というのは、シンクロトロン放射
光は拡散光としてではなく平坦なシート状の平行光とし
て得られまたその波長は紫外線よりも短く、このためサ
ブミクロンのオーダの寸法精度を持つマスクパターンの
露光転写に適しているからであり、更にシンクロトロン
放射光は大きな強度を持つために高いスループットが期
待し得るからである。シンクロトロン放射光を用いる露
光方式としては、照射光を光学系で偏向させてマスクを
その偏向光で走査する方式のものと、照射光を固定させ
たままでマスクをウェハと共に変位させて該マスクをそ
の固定光でもって走査する方式のものとが知られている
。いずれにしても、シンクロトロン放射光はシンクロト
ロンから水平光として取り出されるので、露光転写の際
にはマスク及びウェハはそれらの面を縦方向すなわち鉛
直方向に向けた状態で保持されなければならない。 ［０００３］

【従来の技術】

図２９を参照すると、露光転写のための照射光として紫
外線を用いる水平型露光転写装置が示され、この水平型
露光転写装置は基台１０上に設置された粗動ＸＹステー
ジ１２を具備する。粗動ＸＹステージ１２は一対の平行
案内レール１２ａと、この一対の平行案内レール１２ａ
のそれぞれに沿って案内される一対の可動体１２ｂと、
この一対の可動体１２ｂ間に張り渡された一対の平行案
内レール１２ｃと、この一対の平行案内レール１２ｃに
沿って案内させられる可動台１２ｄとを包含する。一対
の平行案内レール１２ａのそれぞれに隣接してリニアモ
ータ１２ｅが配置され、これにより一対の可動体１２ｂ
は一対の平行案内レール１２Ｃと共に一対の平行案内レ
ール１２ａに沿って移動させられる。また、可動台１２
ｄは一対の案内レール１２ｃのそれぞれに隣接して配置
されたりニアモータ１２ｆによって一対の平行案内レー
ル１２ｃに沿って移動させられる。要するに可動台１２
ｄは基台１０上をＸＹ方向に移動し得ることになる。な
お、参照記号１２ｇ及び１２ｈはそれぞれリニアスケー
ルを示し、リニアスケール１２ｇは一対の案内レール１
２ａに沿う可動体１２ｂの移動量を検出し、またリニア
スケール１２ｈは一対の案内レール１２ｃに沿う可動台
１２ｄの移動量を検出する。 ［０００４］ 粗動ＸＹステージ１２の可動台１２ｄ上には微動ステー
ジ１４が設置され、この微動ステージ１４はウェハ搭載
盤１４ａと、このウェハ搭載盤１４ａと可動台１２ｄと
の間に配置された水平方向ばね１４ｂ及び垂直方向ばね
１４ｃとを包含し、ウェハ搭載盤１４ａは適当な駆動素
子例えば圧電素子（図示されない）がＸＹＺ方向（すな
わち、水平面内での直交方向ＸＹと該水平面に対する直
角方向Ｚ）に適用され、これによりウェハ搭載盤１４ａ
は３次元方向に微動を行うことができる。なお、ウェハ
搭載盤１４ａ上にはウェハＷを真空吸着させるための溝
（図示されない）が形成される。 ［０００５］ 基台１０の中心箇所の上方側の所定位置には、可動台１
２ｄ及びウェハ搭載盤１４ａの移動とは無関係に環状形
マスク保持体１６が配置される。環状形マスク保持体１
６は上側環状部分１６ａと下側環状部分１６ｂとからな
り、マスクＭは下側環状部分１６ｂの底面側に保持され
る。下側環状部分１６ｂは上側環状部分１６ａに対して
回転し得るようになっており、これによりウェハＷに対
するマスクＭの角度位置が調節される。 ［０００６］ 露光転写時、ウェハＷ上の所定箇所が粗動ＸＹステージ
１２によってマスクＭに対して粗位置決めされ、次いで
微動ステージ１４によって三次元方向で精密位置決めさ
れると共にウェハＷに対するマスクＭの角度位置も調節
される。続いて、紫外線が環状形マスク保持体１６の上
方側からマスクＭに対して照射され、その結果マスクパ
ターンがマスクＭの該所定箇所に露光転写される。次に
、ウニハＷ上の別の所定箇所がマスクＭに対して同様に
位置決めされて露光転写が行われる。このような露光転
写は順次繰り返されてウェハＷの全面に亘って施される
。 ［０００７］ 上述したような水平型露光転写装置には参照言己号１８
で全体的に示されたウェハ自動交換装置が組み込まれ、
このウェハ自動交換装置１８によりウェハＷはウェハ搭
載盤１４ｂ上に搭載され、また露光転写の終了後に該ウ
ェハＷはウェハ搭載盤１４から取り出されることになる
。ウェハ自動交換装置１８は基台１０の一側辺に沿って
配置されたウェハ供給マガジン１８ａ及びウェハ収納マ
ガジン１８ｂと、これら両マガジンに隣接して基台１０
上に設置されたウェハ移送ロボット１８ｃと、このウェ
ハ移送口ボッ）１８ｃと協働すべく基台１０上に設置さ
れたプリアライメントユニットすなわちウェハ方向付は
台１８ｄとを包含する。ウェハ供給マガジン１８ａ内に
は多数のウェハが上下方向に搭載され、そこからウェハ
が一枚ずつウェハ移送口ボッ）　、１８　ｃによって取
り出される。なお、ウェハ供給マガジン１８ａは適当な
昇降装置（図示されない）によって上下動させられ、こ
れにより多数のウェハが一枚ずつ順次取出し位置に位置
決めされる。ウェハ移送ロボット１８ｃによって取り出
されたウェハはウェハ方向付は台１８ｄ上に載置され、
そこでウェハの方向付けが行われる。すなわち、各ウェ
ハの周囲縁の一部が切り欠かれ、その切欠き部（所謂オ
リエンテーションフラット）が方向付けの目印とされ、
ウェハは該切欠き部が所定位置となるようにウェハ方向
付は台１８ｄ上で方向付けられる。ウェハ方向付は台１
８ｄ上で方向付けされたウェハはウェハ移送口ボッ）１
８ｃによってウェハ搭載盤１４上に搭載される。ウェハ
搭載盤１４上に搭載されたウェハには上述したような露
光転写が施され、露光転写が完了すると、ウェハはウェ
ハ移送口ボッ）１８ｃによってウェハ収納マガジン１８
ｂ内に収納される。なお、ウェハ供給マガジン１８ａと
同様、ウェハ収納マガジン１８ｂも適当な昇華装置（図
示されない）によって上下動させられ、ウェハが順次収
納位置に収容される。 ［０００８］

【発明が解決しようとする課題】

シンクロトロン放射光等を用いてウェハ上にマスクパタ
ーンを露光転写させる縦型露光転写装置に上述のウェハ
自動交換装置をそのまま組み込むことはできない。とい
うのは、先に述べたように、露光転写の際にウェハはそ
の面を縦方向すなわち鉛直方向に向けた状態で保持され
なければならないからである。すなわちプリアライメン
トユニット上で方向付けされたウェハはその面を鉛直方
向に向けた姿勢で縦型露光転写装置に搭載されなければ
ならないからである。勿論、縦型露光転写装置に適した
ウェハ自動交換装置を再開発することは可能ではあるが
この場合には該ウェハ自動交換装置を基本設計から取り
組まなければならず、その開発コストは大巾に嵩むこと
になる。 ［０００９］ 本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、従来の
水平型露光転写装置用に開発されたウェハ自動交換装置
の大部分の構成要素を利用し得る縦型露光転写装置を提
供することを目的とする。 ［００１０］

【課題を解決するための手段】

上記課題を解決するために本発明では、垂直面内で二次
元方向に移動可能な可動台と、この可動台に取り付けら
れたウェハ搭載盤とを持つ縦型露光転写装置において、
ウェハを水平状態で搭載してその方向付けを行うウェハ
方向付は台と、このウェハ方向付は台上での水平状態の
ウェハを保持して垂直状態に変位させた後に該ウェハを
前記ウェハ搭載盤のウェハ吸着保持面に適用させるウェ
ハ搬送手段と、 を具備するウェハ自動交換装置を設けたことを特徴とす
るものである。 ［００１１］ また、垂直面内で二次元方向に移動可能な可動台と、こ
の可動台に取り付けられたウェハ搭載盤とを持つ縦型露
光転写装置であって、露光前ウェハを水平状態で搭載し
てその方向付けを行うウェハ方向付は台と、露光済ウェ
ハを一時的に保管するウェハ一時保管機構と、前記ウェ
ハ方向付は台上での水平状態の露光前ウェハを保持して
垂直状態に変位させた後に露光前ウェハを前記ウェハ搭
載盤のウェハ吸着保持面に適用させると共に、露光済ウ
ェハを前記ウェハ一時保管機構に載置するウェハ搬送手
段とを具備し、 上記ウェハ搬送手段が露光前ウェハを保持して変位させ
る際、前記ウェハ一時保管機構が露光済ウェハを露光前
ウェハの変位軌跡より退いた位置に保管するよう構成し
たウェハ自動交換装置を設けたことを特徴とするもので
ある。 ［００１２］

【作用】

以上の構成から明らかなように、本発明によれば、ウェ
ハ方向付は台上のウェハがウェハ搬送手段によって水平
状態から垂直状態に変位された後にウェハ搭載盤に適用
されるようになっているので、従来の水平型露光転写装
置に用いられたウェハ方向付は台ならびにそれに関連し
た付帯設備例えばウェハ移送ロボット、ウェハ供給マガ
ジン、ウェハ収納マガジン等を縦型露光転写装置にも利
用することができる。 ［００１３］ また、露光済ウェハを一時的に保管するウェハ一時保管
機構を設けることにより、露光済ウェハを収納する前に
露光前ウェハをウェハ搭載盤に装着することが可能とな
り、露光前ウェハの露光中にこれと平行して露光済ウェ
ハの収納１次に露光を行う露光前ウェハの取り出し及び
この露光前ウェハのウェハ方向付は台への装着等を行う
ことができる。よって、露光処理時間を長くすることが
できると共に、ウェハ交換に要する時間を短縮でき、露
光転写処理の効率を向上することができる。 ［００１４］

【実施例】

次に、本発明の実施例について図面と共に説明する。 ［００１５］ 図１は本発明の第１実施例である縦型露光転写装置を示
している。この縦型露光転写装置は基台２０上に設置さ
れた粗動ＸＹステージ２２を具備する。粗動ＸＹステー
ジ２２は基台２０から上方に延びる直立支持フレーム２
２ａと、この直立支持フレーム２２ａの垂直壁面に取り
付けられた一対の水平案内レール２２ｂと、この一対の
水平案内レール２２ｂに沿って水平方向に案内移動させ
られる可動キャリッジ２２ｃと、この可動キャリッジ２
２ｃに取り付けられた一対の垂直案内レール２２ｄと、
この一対の垂直案内レール２２ｄに沿って垂直方向に案
内移動させられる可動台２２ｅと、この可動台２２ｅに
取り付けられたウェハ搭載盤２２ｆとを具備する。要す
るに、ウェハ搭載盤２２ｆを担持した可動台２２ｅは垂
直面内で二次元方向に移動し得る。図２に詳しく図示す
るように、ウェハ搭載盤２２ｆのウェハ保持面には多数
の垂直溝２２ｇが形成され、これら垂直溝２２ｇは真空
ポンプ等の真空源（図示されない）と連通し得るように
なっており、これによりウェハがウェハ搭載盤のウェハ
保持面に真空吸着により保持されることになる。可動台
２２ｅには微動ステージ（図示されない）が組み込まれ
、ウェハ搭載盤２２ｆは該微動ステージを介して可動台
２２ｅに支持される。かかる微動ステージは例えば井桁
状に組まれた板ばねと、この井桁状板ばねの隣接した側
辺に適用された圧電素子とから構成される。それら圧電
素子によって井桁状板ばねを変形させることによって、
ウェハ搭載盤２２は例えばＸＹ力方向微動を行うことが
できる。なお、かかる微動ステージは図２９の水平型露
光転写装置に用いられたものであってもよい。以上のよ
うな構成により、ウェハが所定の露光転写位置に位置決
めされることは図２９の水平型露光転写装置の場合と同
様である。 ［００１６］ 本発明の特徴となるウェハ自動交換装置は基台２０の一
隅に設けられたウェハ方向付は台２４を具備し、このウ
ェハ方向付は台２４の機能は図２９に示したウェハ方向
付は台１８ｄの機能と同様である。ウェハ方向付は台２
４には回転盤２４ａ（図４乃至図９）が設けられ、この
回転盤２４ａの上にウェハＷが載せられて、その方向付
けが行われる。また、ウェハ自動交換装置はウェハ供給
マガジン２６、ウェハ収納マガジン２８及びウェハ移送
口ボッ）３０を具備し、これら構成要素も図１７に示し
たウェハ供給マガジン１８ａ、ウェハ収納マガジン１８
ｂ及びウェハ移送口ボッ）１８ｃと同様な機能を持つ。 図１に示す実施例では、ウェハ供給マガジン２６．ウェ
ハ収納マガジン２８及びウェハ移送ロボット３０は基台
３２上にユニット化されて搭載され、また基台３２には
ウェハ供給マガジン２６及びウェハ収納マガジン２８を
それぞれ上下動させる昇降装置３４及び３６もユニット
化される。図４乃至図９から明らかなように、昇降装置
３４は基台３２から直立する案内ポスト３４ａと、この
案内ポスト３４ａに沿って上下方向に案内させられる可
動支持板３４ｂとからなり、この可動支持板上にウェハ
供給マガジン２６が搭載される。可動支持板３４ｂは基
台３２内に設けられた駆動装置例えば空気シリンダ等に
よって上下動させられ、これによりウェハ供給マガジン
２６内の多数のウェハＷ（図４乃至図９）は−枚ずつ順
次ウェハ移送ロボット３０に対する取出し位置に位置決
めされることになる。なお、ウェハ収納マガジン１８ｂ
の昇降装置３６もウェハ収納マガジン２８の昇降装置３
４と同様な構成とされる。要するに、基台３２にユニッ
ト化されて搭載された上述の構成要素２６２８．３０．
３４及び３６ならびにウェハ方向付は台２４は従来の水
平型露光転写装置に組み込まれていなウェハ自動交換装
置の構成要素ともなり得るものである。 ［００１７］ 本発明になる縦型露光転写装置に設けられるウェハ自動
交換装置はウェハ搬送手段３８によって特徴付けられ、
このウェハ搬送手段３８により、ウェハ方向付は台２４
上に水平状態で載せられたウェハＷが保持されて垂直状
態に変位させられ、その後に該ウェハＷはウェハ搭載盤
２２ｆの吸着保持面に適用させられることになる。本実
施例においては、ウェハ搬送手段３８は可動体３８ａを
具備し、この可動体３８ａは基台２０に取り付けられた
支持板４０上に設けられた一対の案内レール４０ａに沿
って案内移動させられる。すなわち、可動体３８ａは図
１から明らかなように粗動ＸＹステージ２２の可動台２
２ｅに対して前後方向に移動させられる。また、ウェハ
搬送手段３８は回動アーム３８ｂを具備し、この回動ア
ーム３８ｂの一端は可動体３８ａの側面から突出する回
転駆動軸に取り付けられ、その他方端部すなわち自由端
にはウェハ保持器３８ｃが取り付けられる。 なお、該回転駆動軸は可動体３８ａ内に設けられた駆動
モータに適当な減速歯車列を介して連結される。図３に
詳しく図示するように、ウェハ保持器３８ｃは細長の板
状片として形成され、その中間部の一方の側辺には弧状
切欠き部３８ｄが形成される。また、ウェハ保持器すな
わち板状片３８ｃには弧状切欠き部３８ｄの内側縁部に
沿って弧状溝３８ｅが形成され、この弧状溝３８ｅには
真空ポンプ等の真空源に連通させられ、これによりウェ
ハＷがその円弧縁部でウェハ保持器３８ｃによって吸着
保持され得る。ウェハ保持器すなわち板状片３８ｃの中
間部の他方の側辺からは一対のロッド要素３８ｆが直立
し、この一対のロッド要素３８ｆは回動アーム３８ｂの
自由端に固着されたブロック片３８ｇに摺動自在に挿通
させられる。ブロック片３８ｇには例えば空気シリンダ
が内蔵され、この場合一対のロッド要素３８ｆは該空気
シリンダの作動ロッドとされ、これによりウェハ保持器
３８ｃは回動アーム３８ｂの長手軸線方向に沿って変位
自在とされる。 ［００１８］ 次に、図４乃至図９を参照して、本発明による縦型露光
転写装置の作動について説明する。なお、可動台３８ａ
は一対の案内レール４０ａに沿って第１の位置（図６）
と第２の位置（図８）との間で移動し得るようになって
おり、また回動アーム３８ｂは第１の位置（図４乃至図
６）と第２の位置（図７乃至図９）との間で回動し得る
ようになっている。 ［００１９］ 図４にはウェハ供給マガジン２６からウェハＷをウェハ
移送ロボット３０によって取り出す工程が示され、この
とき可動体３８ａは第２の位置あるいはそこに接近した
位置に置かれ、また回動アーム３８ｂは第１の位置に置
かれる。次いでウェハ供給マガジンから取り出されたウ
ェハＷはウェハ移送ロボット３０によってウェハ方向付
は台２４側に移送されて、図５に示すようにウェハ方向
付は台２４の回転盤２４ａ上に水平状態で載せられ、そ
こでウェハＷは図１７を参照して説明したように方向付
けされる。 ［００２０］ ウェハＷの方向付けが終了すると、可動体３８ａが第１
の位置に向かって移動させられ、このとき回動アーム３
８ｂは第］の位置に置かれている。可動体３８ａが図６
に示すように第１の位置に到達すると、回動アーム３８
ｂに取り付けられたウェハ保持器３８ｃはウェハＷの円
弧縁の直下に位置させられ、そこでウェハＷはウェハ保
持器３８ｃの弧状溝３８ｅによって吸着保持されると共
にウェハ保持器３８ｃがブロック片３８ｇ内に内蔵され
た空気シリンダの作動により上方に変位される。次いで
、可動体３８ａは第２の位置に向かって移動させられ、
−方回動アーム３８ｂは第１の位置から第２の位置まで
回動させられる。その結果ウェハＷは図７に示すように
水平状態から垂直状態に変位されて、ウェハＷはウェハ
搭載盤２２ｆのウェハ吸着保持面と向かい合うことにな
る。 ［００２月 可動体３８ａが図８に示すように第２の位置まで移動さ
せられると、ウェハＷはウェハ搭載盤２２ｆのウェハ吸
着保持面に密接状態で適用される。なお、このときウェ
ハ保持器３８ｃはウェハ搭載盤２２ｆの周囲縁部に沿っ
て形成された弧状窪み部２２ｈ（図２）内に収容される
ので、ウェハ搭載盤２２ｆのウェハ吸着保持面に対する
ウェハＷの密接状態がウェハ保持器３８ｃの存在によっ
て阻害されることはない。次いで、ウェハＷはウェハ搭
載盤２２ｆの垂直溝２２ｇによって吸着保持され、一方
ウエハ保持器３８ｃによるウェハＷの吸着保持が解除さ
れる。続いて、粗動ＸＹステージ２２の作動により、ウ
ェハ保持器３８ｃがウェハ搭載盤２２ｆの弧状窪み部２
２ｈから外され、可動体３８ａは図９に示すように第２
の位置から第１の位置に向かって幾分後退させられる。 ［００２２］ その後、縦型露光転写装置では、ウェハＷに対するマス
クパターンの露光転写が行われ、露光転写作業が完了す
ると、ウェハ搭載盤２２ｆは可動台２２ｅの移動によっ
て再び図９に示す位置に戻される。次いで、上述の工程
とは逆の工程が行われ、これによりウェハＷはウェハ方
向付は台２４の回転盤２４ａまで戻され続いて゛ウェハ
Ｗはウェハ移送ロボット３０によってウェハ収納マガジ
ン２８に収納される。以上の操作を繰り返し行うことに
より、ウェハ供給マガジン２６内のウェハＷは縦型露光
転写装置に順次送り出されてそこで露光転写され、露光
転写の終了されたウェハＷはウェハ収納マガジン内に順
次収容されることになる。 ［００２３］ 図１乃至図９に示した実施例において、ウェハ保持器３
８ｃとウェハ搭載盤２２ｆとの間でのウェハＷの受渡し
を確実に行い得るようにするためには、ウェハ搭載盤２
２ｆのウェハ吸着保持面に対してウェハＷが平行に適用
されなければならない。このため回動アーム３８ｂが第
２の位置に置かれた際に該回動アーム３８ｂが水平に延
在するようにその取付位置が調節され、これによりウェ
ハ搭載盤２２ｆのウェハ吸着保持面に対するウェハＷの
適用時にその間に平行関係が得られるようにされている
。しかしなから、回動アーム３８ｂが外力を受けた場合
にはその取付位置が狂うためにその取付位置の再調整が
必要となり、また回動アーム３８ｂ駆動歯車列のバラク
ラシュ等のためにウェハ搭載盤２２ｆのウェハ吸着保持
面に対するウェハＷの平行関係が常に保証されるとは限
らない。要するに、図１乃至図９に示した実施例にあっ
ては、回動アーム３８ｂの取付位置の再調整がしばしば
行わなければならない。なお、ウェハＷがウェハ搭載盤
２２ｆのウェハ吸着保持面に対して非平行状態で適用さ
れる場合にはウェハＷが該ウェハ吸着保持面から抗力を
受けてウェハ保持面３８ｃから脱落あるいは破損し得る
。 ［００２４］ かかる問題を解消するためには、図１０に示すような回
動アーム３８ｂを用いればよい。図１０では、回動アー
ム３８ｂの中間部分の一部が例えばウレタンゴムから形
成された弾性ゴム材料部分３８ｈとして構成され、これ
により回動アーム３８ｂは弾性ゴム材料部分３８ｈの箇
所で弾性的に変形し得ることになる。このような構成に
よれば、回動アーム３８ｂが第２の位置に置かれた際に
水平状態から多少傾いていたとしても、ウェハＷを的確
にウェハ搭載盤２２ｆのウェハ吸着保持面に適用するこ
とが可能である。これについて図１１（ａ）乃至図１１
（Ｃ）を参照して説明する。図１１には、−例として、
回動アーム３８ｂが第１の位置から第２の位置まで回動
させられた際に回動アーム３８ｃが水平状態から下方側
に傾いた場合が示されている。この状態でウェハＷがウ
ェハ搭載盤２２ｆのウェハ吸着保持面に適用されると、
図１１（ｂ）に示すようにウェハＷの上方側が先ず該ウ
ェハ吸着保持面に接触し、このためウェハＷは右廻りの
抗力を受けることになるが、このとき弾性ゴム材料部分
３８ｈが弾性変形を起こし、その結果ウェハＷは図１１
（ｃ）に示すようにウェハ搭載盤２２ｆのウェハ吸着保
持面に的確に適用され得ることになる。なお、図１０に
示した実施例では、回動アーム３８ｂの中間部分の一部
が弾性ゴム材料によって起き替えられたが、回動アーム
３８ｂの全体を比較的硬質の弾性ゴム材料あるいは板ば
ねから形成してもよく。 また回動アーム３８ｂの中間箇所を枢着させてその枢着
部の両側にコイルばねを張り渡してもよい。要するに、
回動アームの少なくとも一部が弾性変形し得るようにな
っていればよい。 ［００２５］ 回動アーム３８ｂを図１０に示したように構成したとし
ても、ウェハ保持器３８Ｃの第２の位置での傾きが比較
的太きかったりした場合には、ウェハ搭載盤２２ｆのウ
ェハ吸着保持面から受ける抗力も大きくなるので、ウェ
ハＷがウェハ保持器３８ｃから脱落し得る。これを阻止
するためには、ウェハ搭載盤２２ｆのウェハ吸着保持面
に対するウェハＷの適用前に該ウェハＷと該ウェハ吸着
保持面との間に平行関係を与えるように該ウェハＷの姿
勢を矯正するための姿勢矯正手段を設けることが好まし
い。 ［００２６］ 図１２及び図１３（ａ）乃至図１３（ｃ）を参照すると
、かかる姿勢矯正手段はウェハ搭載盤２２ｆを支持する
可動台２２ｅ側に設けられる衝合部材４２を具備し、こ
の衝合部材４２はその前面側で垂直係合面を持つヘッド
部分４２ａと、このヘッド部分４２ａの後面側から突出
する一対の突出部分４２ｂとからなる。 図１３（ａ）乃至図１４（ｃ）から明らかなように、衝
合部材４２はその一対の突出部分４２ｂを可動台２２ｅ
に形成された凹部２２ｉ内に収容するような態様で該可
動台２２ｅ上に配置され、このとき衝合部材４２は図１
３（ａ）に示す前進位置と図１３（ｃ）に示す後退位置
との間で移動し得るようになっている。また、姿勢矯正
手段は衝合部材４２を常時その前進位置に弾性的に偏倚
させる弾性部材例えば圧縮コイルばね４４を具備し、こ
の圧縮コイルばね４４は図１３（ａ）乃至図１３（ｃ）
から明らかなように可動台２２ｅに凹部２２ｉの間の箇
所に形成された凹部２２ｊ内に収容される。更に、姿勢
矯正手段は衝合部材４２のヘッド部分４２ａの垂直衝合
面と係合し得るようにウェハ保持器３８ｃの一部として
形成された係合部分３８ｉを具備する。 ［００２７］ 以上に述べたような姿勢矯正手段によれば、ウェハ搭載
盤２２ｆのウェハ吸着保持面に対するウェハＷの適用前
に該ウェハＷと該ウェハ吸着保持面との間に平行関係が
与えられることになる。すなわち、ウェハ保持器３８ｃ
によって保持されたウェハＷが図１３（ａ）に示すよう
にウェハ搭載盤２２ｆのウェハ吸着保持面に向かって移
動させられると、ウェハＷが該ウェハ吸着保持面に適用
される直前に係合部分３８ｉが衝合部材４２のヘッド部
分４２ａの垂直衝合面と部分的に係合させられ（図１３
（ｂ））　　この係合により弾性ゴム材料部分３８ｈが
弾性変形を起こし、その結果ウェハＷが図１３（ｃ）に
示すようにウェハ搭載盤２２ｆのウェハ吸着保持面に適
用されるときには該ウェハＷと該ウェハ吸着保持面との
間に平行関係が得られることになる。 ［００２８］ 図１４及び図１５（ａ）乃至図１５（ｃ）には上述の姿
勢矯正手段の変形例が示され、この変形例による姿勢矯
正手段はウェハ保持器３８ｃ側に設けられた衝合部材４
６を具備し、この衝合部材４６もその前面側で垂直係合
面を持つヘッド部分４６ａと、このヘッド部分４６ａの
後面側から突出する一対の突出部分４６ｂとからなる。 また、姿勢矯正手段はウェハ保持器３８ｃの下面側に取
り付けられた収容部材４８を具備し、この収容部材４８
には衝合部材４６の一対の突出部分４６ｂを収容保持す
るようになった凹部４８ａが形成され、衝合部材４６は
凹部４８ａ内で図１５（ａ）に示す前進位置と図１５（
ｃ）に示す後退位置との間で移動し得るようになってい
る。更に、姿勢矯正手段は収容部材４８の凹部４８ａ内
に配置された圧縮コイルばね５０を具備し、この圧縮コ
イルばね５０により衝合部材４６は常時その前進位置に
弾性的に偏倚される。更に、姿勢矯正手段は衝合部材４
６のヘッド部分４６ａの垂直衝合面と係合し得るように
可動台２２ｅ上に形成された係合面２２ｊを具備する。 ［００２９］ 図１２及び図１３（ａ）乃至図１３（ｃ）に示した場合
と同様に、ウェハ保持器３８ｃによって保持されたウェ
ハＷが図１５（ａ）に示すようにウェハ搭載盤２２ｆの
ウェハ吸着保持面に向かって移動させられると、ウェハ
Ｗが該ウェハ吸着保持面に適用される直前に衝合部材４
６のヘッド部分４６ａの垂直衝合面が可動台２２ｅ上の
係合面２２ｊと部分的に係合させられ（図１５（ｂ））
、この係合により弾性ゴム材料部分３８ｈが弾性変形を
起こし、その結果ウェハＷが図１５（Ｃ）に示すように
ウェハ搭載盤２２ｆのウェハ吸着保持面に適用されると
きには該ウェハＷと該ウェハ吸着保持面との間に平行関
係が得られることになる。 ［００３０］ 図１６（ａ）及び図１６（ｂ）を参照すると、縦型露光
転写装置の可動台２２ｅに搭載されるウェハ搭載盤２２
ｆの変形例が示され、この変形例によるウェハ搭載盤５
２は固定部分５２ａ及び可動部分５２ｂの２つに二分割
される。ウェハ搭載盤５２もウェハ搭載盤２２ｆと同じ
く微動ステージを介して可動台２２ｅ上に取り付けられ
るが、この場合固定部分５２ａは該微動ステージ２２ｅ
に直接的に固着されるが、可動部分５２ｂは例えば底に
内蔵された空気シリンダ等を介して該微動ステージ２２
ｅに連結される。すなわち、可動部分５２ｂはその内蔵
空気シリンダの作用によって図１６（ａ）に示す通常位
置と図１６’（ｂ）に示す突出位置との間で移動し得る
ようになっている。図１６（ａ）に示す通常位置では、
可動部分５２ｂのウェハ吸着保持面は固定部分５２ａの
ウェハ吸着保持面と一致した状態にあるが、図１６（ｂ
）に示す突出位置では、可動部分５２ｂのウェハ吸着保
持面は固定部分５２ａのウェハ吸着保持面よりも前方に
突出した状態となる。このような構成のウェハ搭載盤５
２を用いる利点はウェハ保持器３８ｃによってウェハＷ
を保持する際の保持面が大きく得られるということであ
る。すなわち、図２に示すようなウェハ搭載盤２２ｆの
場合にはウェハの周囲縁部の一部に沿う領域（すなわち
、弧状窪み部２２ｈに該当する領域）に対応した保持面
として利用され得ないが、ウェハ搭載盤５２を用いた場
合には固定部分５２ａの領域に対応したウェハＷの領域
を保持面として利用し得るという点が利点となる。 ウェハ搭載盤５２にウェハＷを吸着保持させるとき、可
動部分５２ｂを図１６（ｂ）に示す突出位置に置き、該
ウェハＷを先ず可動部分５２ｂのウェハ吸着保持面に適
用されてそこに吸着保持させ、次いで可動部分５２ｂを
図１６（ｂ）の通常位置に戻した後にウェハＷを固定部
分ａの吸着保持面で吸着保持させ、これによりウェハ搭
載盤５２によるウェハＷの完全な吸着保持が達成される
。 ［００３１］ またここで、回動アーム３８ｂが第１の位置と第２の位
置で停止する機構について考察する。回動アーム３８ｂ
が第１の位置と第２の位置で停止する機構としては、■
回動アーム３８ｂを回動させる可動体３８ａにより位置
決めする方法、■回動アーム３８ｂの回転中心位置近傍
にセンサを設け、このセンサによりアーム位置を検出し
可動体３８ａを停止させる方法、■前記センサに代えて
位置決め突起を形成し、この位置決め突起に回動アーム
３８ｂを当接させることにより回動アーム３８ｂを位置
決めする方法等が考えられる。本実施例では構成が簡単
な■の方法を採用しているが、上記■〜■のいづれの方
法でも回動アーム３８ｂの回転中心近傍において回動ア
ーム３８ｂの位置決めを行う構成となる。 ［００３２］ このように回動アーム３８ｂの回転中心近傍において回
動アーム３８ｂの位置決めを行う方法では、回転中心近
傍の僅かな位置決め誤差が、所定の長さを有する回動ア
ーム３８ｂの先端においてはこの誤差が拡大されてしま
い大きな誤差となってしまう。また、前記したようにウ
ェハ（Ｗ）は回転中心から離間した回動アーム３８ｂの
先端位置に装着される構成であるため、上記の位置決め
誤差はウェハ（Ｗ）の取付は精度にも大きく影響を及ぼ
し、ウェハ（Ｗ）を高い再現性でウェハ搭載盤２２ｆに
位置決めすることは困難であった。 ［００３３］ 尚、ここでいう高い再現性とは、ウェハ（Ｗ）が回動ア
ーム３８ｂにより変位された時における回動アーム３８
ｂの上記位置決め誤差に起因する変位誤差が、ウェハの
表面にＸＹ座標を想定した場合、このＸＹ力方向の誤差
が夫々±２０μｍ程度（ブリイライメント精度を含む）
以内であることをいう。この値は、露光前に行う位置合
わせマーク捜索範囲を狭くし位置合わせに要する時間を
短縮する点と、縦型露光転写装置の可動台２２ｅの可動
範囲（約±３０μｍ程度）とを考慮したものである。 ［００３４］ 図１７は、ウェハ（Ｗ）の取付は誤差を低減しうる構造
を示している。同図に示す実施例では、回動アーム３８
ｂの先端部分に設けられたウェハ保持器３８ｃの両端部
位に位置決め用のつきあて部３８ｍ、３８ｎを設けると
共に、可動台２２ｅに位置決め用ピン５４ａ、５４ｂを
設けている。また、図１８に示すように、ウェハ方向付
は台２４の回転盤２４ａ近傍位置にも位置決め用ピン５
５ａ、５５ｂが設けられている。この可動台２２ｅに設
けられた位置決め用ピン５４ａ。 ５４ｂと回転盤２４ａ近傍位置に設けられた位置決め用
ピン５５ａ、５５ｂとは相互に対応するよう構成されて
いる。また、つきあて部３８ｍ、３８ｎの内、つきあて
部３８ｍはｖ字溝形状とされており、またつきあて部３
８ｎは平坦面とされている。尚、図中５６は回動アーム
３８ｂが当接することにより回動アーム３８ｂを第２の
位置で停止するための停止ピンであり、また５７は回動
アーム３８ｂを第１の位置で停止するための停止ピンで
ある。 回動アーム３８ｂが図６に示した状態でウェハ（Ｗ）を
吸着保持する際、ウェハ保持器３８ｃに形成されたつき
あて部３８ｍ、３８ｎは、回転盤２４ａ近傍位置に設け
られた位置決め用ピン５５ａ、５５ｂにつきあてられる
。つきあて部３８ｍ、３８ｎが位置決め用ピン５５ａ、
５５ｂと係合することにより、ウェハ保持器３８ｃはウ
ェハ方向付は台２４に対して一義的に位置決めされ、よ
ってウェハ方向付は台２４により方向付けされたウェハ
（Ｗ）に対しても一義的に位置決めされる。 ［００３５］ 一方、回動アーム３８ｂにより保持されたウェハ（Ｗ）
が水平状態から垂直状態に変位されウェハ搭載盤２２ｆ
に適用される際、ウェハ保持器３８ｃに形成されたつき
あて部３８ｍ、３８ｎは、可動台２２ｅに設けられた位
置決め用ピン５４ａ、５４ｂにつきあてられる。つきあ
て部３８ｍ、３８ｎが位置決め用ピン５４ａ、５４ｂと
係合することにより、ウェハ保持器３８ｃは可動台２２
ｅに対して一義的に位置決めされ、この位置決めされた
状態においてウェハ（Ｗ）はウェハ搭載盤２２ｆに装着
される。 ［００３６］ 上記構成とすることにより、回動アーム３８ｂの位置決
め精度は、停止ピン５６．５７と回動アーム３８ｂとの
当接により決まるのではなく、つきあて部３８ｍ、３８
ｎが位置決め用ピン５４ａ、５４ｂ、５５ａ、５５ｂと
係合する位置により決まる構成となる。従って、回動ア
ーム３８ｂ及び可動体３８ａの位置決め精度に影響され
ることなくウェハ保持器３８ｃの位置出しを行うことが
できる。 回動アーム３８ｂにおいて最も高い精度出しを要求され
る部位は、ウェハ（Ｗ）を吸着保持するウェハ保持器３
８ｃである。よって、このウェハ保持器３８ｃに形成さ
れたつきあて部３８ｍ、３８ｎにより位置決めを行う構
成とすることによリウエハ保持器３８ｃを直接的に位置
決めすることができ、ウエノＸ（Ｗ）の高精度の位置決
めを行うことができる。 ［００３７］ また、前記したようにつきあて部３８ｍはＶ字溝形状と
されているため、つきあて部３８ｍを位置決め用ピン５
４ａ、５５ａに押圧させることによりＶ字溝の溝形状に
沿ってウェハ保持器３８ｃは位置決めされるため、高精
度に位置決めされる。尚、上記実施例ではＶ字溝形状を
一方のつきあて部３８ｍのみに形成した例を示したが、
つきあて部３８ｍ、３８ｎの両方をＶ字溝形状としても
よく、また可動台２２ｅ及び回転盤２４ａにつきあて部
を設けると共にウェハ保持器３８Ｃに位置決め用ピンを
設けた構成としてもよい。 ［００３８］ 次に本発明の第２実施例について説明する。図１９は本
発明の第２実施例である縦型露光転写装置を示している
。尚、同図において図１乃至図９を用いて説明した第１
実施例に係る縦型露光転写装置と同一構成部分について
は、同一符号を付してその説明を省略する。 ［００３９］ 第２実施例である縦型露光転写装置は、ウェハ（Ｗ）を
一時的に保管することができる構成とされたウェハ一時
保管機構６０を設けたことを特徴とするものである。ウ
ェハ一時保管機構６０は、大略すると昇降台６０ａと、
この昇降台６０ａの上面に形成されたウェハ保管盤６０
ｂとにより構成されている。昇降台６０ａには、この昇
降台６０ａを昇降動作させる昇降機構（図示せず）が内
設されており、この昇降機構により昇降台６０ａはレー
ル６０Ｃ（図２０に示す）に沿って昇降動作する構成と
なっている。また、昇降台６０ａの上部にはウェハを吸
着保持しうる構成とされたウェハ保管盤６０ｂが設けら
れており、このウェハ保管盤６０ｂも昇降台６０ａの昇
降動作に伴い昇降動作する構成となっている。上記構成
とされたウェハ一時保管機構６０は、ウェハ方向付は台
２４と粗動ＸＹステージ２２との開位置に配設位置を選
定されて設けられている。 ［００４０］ 上記構成とすることにより、露光効率の向上を図ること
ができるが、以下この理由について縦型露光転写装置の
動作と共に説明する。 ［００４１］ 尚、以下の説明では装置起動後、最初に露光処理するウ
ェハがウェハ供給マガジン２６から取り出された時の動
作について説明する。また、最初のウェハがウェハ供給
マガジン２６から取り出され、ウェハ方向付は台２４に
載置され方向付けが行われるまでの動作は、図４乃至図
６を用いて第１実施例で説明したのと同じ動作であるた
め、その説明を省略する。 ［００４２］ 図２０はウェハ方向付は台２４に載置され方向付けが行
われたウェハ（Ｗ１）がウェハ搬送手段３８に保持され
た状態を示している。同図に示されるように、この状態
においてウェハ一時保管機構６０の昇降台６０ａは下動
位置に移動しており、またこの状態においてウェハ移送
ロボット３０はウェハ供給マガジン２６から次に処理さ
れるウェハ（Ｗ２）を取り出す作業を開始している。尚
、以下の説明において、露光処理が行われていないウェ
ハを露光前ウェハといい、露光処理が行われたウェハを
露光済ウェハといい区別する。 ［００４３］ 図２１は露光前ウェハ（Ｗ１）が回動アーム３８ｂによ
り水平状態より垂直状態に変位されウェハ搭載盤２２ｆ
と対向した状態を示している。前記したようにウェハ一
時保管機構６０の昇降台６０ａは下動位置に移動してい
る。このため回動アーム３８ｂが露光前ウェハ（Ｗ１）
を移送する際、昇降台６０ａが邪魔になるようなことは
ない。また、回動アーム３８ｂが露光前ウェハ（Ｗ１）
を移送することにより、ウェハ方向付は台２４が空の状
態となると、ウェハ移送ロボット３０はウェハ供給マガ
ジン２６より次に処理される露光前ウェハ（Ｗ２）をウ
ェハ方向付は台２４の回転盤２４ａに装着する。 ［００４４］ 続いて図２２に示されるように露光前ウェハ（Ｗ１）は
ウェハ搭載盤２２　ｆに吸着保持されるが、この動作に
伴い、次に処理される露光前ウェハ（Ｗ２）はウェハ方
向付は台２４により方向付けが行われると共に、ウェハ
一時保管機構６０も起動して昇降機構により昇降台６０
ａは上動する。図２２は昇降台６０ａが上動限位置まで
移動した状態を示している。この状態において、昇降台
６０ａの上部に設けられたウェハ保管盤６０ｂは回転盤
２４ａと略同−高さまで上動するよう構成されている。 ［００４５］ その後、露光前ウェハ（Ｗ１）を搭載したウェハ搭載盤
２２ｆは所定露光位置に移動され、縦型露光転写処理が
行われる。 ［００４６］ ウェハ（Ｗ１）に対する露光処理が終了すると、粗動Ｘ
Ｙステージ２２等の動作により露光済ウェハ（Ｗ１）は
回動アーム３８ｂによる装着脱位置まで移動され、第２
の位置まで変位した回動アーム３８ｂによりウェハ搭載
盤２２ｆから離脱される。続いて回動アーム３８ｂは第
２の位置に向は回動するが、前記したようにウェハ一時
保管機構６０の昇降台６０ａは上動位置にあり、回動ア
ーム３８ｂが第２の位置まで回動した状態において露光
済ウェハ（Ｗ１）をウェハ保管盤６０ｂに装着しうる構
成となっている。図２３は、露光済ウェハ（Ｗ１）がウ
ェハ一時保管機構６０のウェハ保管盤６０ｂに装着され
た状態を示している。この状態において、ウェハ方向付
は台２４には露光前ウェハ（Ｗ２）が、ウェハ一時保管
機構６０には露光済ウェハ（Ｗ１）がウェハ搬送手段３
８の移動方向に夫々並んだ状態となっている。よって、
この状態では露光前ウェハ（Ｗ２）をウェハ搭載台２２
ｆに搭載することはできない。 ［００４７］ 続いて図２４に示すように、ウェハ一時保管機構６０は
昇降台６０ａを下動させ、露光済ウェハ（Ｗ１）を露光
前ウェハ（Ｗ２）がウェハ方向付は台２４からウェハ搭
載台２２ｆまで変位される変位軌跡より退いた位置に移
動させる。 ［００４８］ ウェハ一時保管機構６０により露光済ウェハ（Ｗ１）が
露光前ウェハ（Ｗ２）の変位軌跡より退いた位置に保管
されると、ウェハ搬送手段３８及び回動アーム３８ｂは
作動し、既に方向付けされた露光前ウェハ（Ｗ２）を水
平状態より垂直状態に変位させ、ウェハ搭載盤２２ｆと
対向させる。この状態を図２５に示す。 続いて露光前ウェハ（Ｗ２）はウェハ搭載盤２２ｆに吸
着保持され、所定露光位置に移動され縦型露光転写処理
が行われる。この動作と平行してウエノ１−時保管機構
６０は、ウェハ搬送手段３８が露光済つエノｚ　（Ｗ　
１　）を保持しうる位置まで昇降台６０ａを上動させる
。図２６はウェハ一時保管機構６０が露光済ウニ／’Ｓ
　（Ｗ１）を上動させた状態を示している。 ［００４９］ 回動アーム３８ｂが露光済ウェハ（Ｗ１）を保持しうる
位置まで露光済ウニ／５（Ｗ１）が上動すると、図２７
に示すようにウェハ搬送手段３８は露光済ウニ／）（Ｗ
１）を保持し、続いてウェハ搬送手段３８は移動して露
光済つエノｚ　（Ｗ　１　）をウェハ方向付は台２４に
移送する。また、露光済ウェハ（Ｗ１）がウェハ方向付
は台２４に移送されると図２８に示されるように、ウェ
ハ搬送ロボット３０は駆動し露光済ウェハ（Ｗ１）をウ
ェハ収納マガジン２８に収納する。続いてウェハ搬送口
ボッ）３０はウェハ供給マガジン２６より露光前ウエノ
５（Ｗ３）を取り出し、ウェハ方向付は台２４に装着す
る。以後、図２２以降の処理が実施され、順次ウェハに
対して露光処理が実施される。尚、回動アーム３８ｂが
露光済ウェハ（Ｗ１）を移送している間に、ウェハ一時
保管機構６０は再び昇降台６０ａを下動させる。 ［００５０］ 上記のように、ウェハ一時保管機構６０により一時的に
露光前ウェハ（Ｗ２）の変位軌跡より退いた位置に保管
されていた露光済ウェハ（Ｗ１）はウェハ収納マガジン
２８に収納されるが、この図２６乃至図２８に示される
露光済ウェハ（Ｗ１）の収納処理は、露光前ウェハ（Ｗ
２）の露光処理と平行して行われている。従って、第１
実施例のようにウェハが露光され収納されるまで次のウ
エノｚ−ｆ）τ全く処理量ない構成と異なり、第１実施
例の構成では別個に必要とされていた、■露光前ウェハ
（Ｗ１）の処理中に次に処理する露光前ウェハ（Ｗ２）
の方向付は処理に要する時間、■露光前ウェハ（Ｗ２）
をウェハ供給マガジン２６から取り出す処理に要する時
間、■露光前ウェハ（Ｗ１）をウェハ収納マガジン２８
に収納する処理に要する時間を短縮することができ、露
光効率を向上することができる。よって、短時間に多数
のウェハに対して露光処理することが可能となる。 ［００５１］

【発明の効果】

以上の記載から明らかなように、本発明によれば、従来
の水平型露光転写装置に用いられたウェハ方向付は台な
らびにそれに関連した付帯設備例えばウェハ移送ロボッ
ト、ウェハ供給マガジン、ウェハ収納マガジン等を縦型
露光転写装置にも利用することが可能であるので、縦型
露光転写装置を低コストで稼働させることができる。 ［００５２］ また、露光済ウェハを一時的に保管するウェハ一時保管
機構を設けることにより、露光済ウェハを収納する前に
露光前ウェハをウェハ搭載盤に装着することが可能とな
り、露光前ウェハの露光中にこれと平行して露光済ウェ
ハの収納９次に露光を行う露光前ウェハの取り出し及び
この露光前ウェハのウェハ方向付は台への装着等を行う
ことができる。よって、露光処理時間を長くすることが
できると共に、ウェハ交換に要する時間を短縮でき、露
光転写処理の効率を向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１実施例である縦型露光転写装置を示す斜視
図である。

【図２】 図１の縦型露光転写装置の一部を構成するウェハ搭載盤
の拡大斜視図である。

【図３】 図１の回動アームならびにウェハ保持器の拡大斜視図で
ある。

【図４】 図１の縦型露光転写装置の立面図であって、ウェハ供給
マガジンよりウェハをウェハ移送ロボットにより取り出
す動作を説明する作動説明図である。

【図５】 図１の縦型露光転写装置の立面図であって、ウェハをウ
ェハ移送ロボットによりウェハ方向付は台に載置する動
作を説明する作動説明図である。

【図６】 図１の縦型露光転写装置の立面図であって、回動アーム
がウェハを吸着保持する動作を説明する作動説明図であ
る。

【図７】 図１の縦型露光転写装置の立面図であって、回動アーム
によりウェハが水平状態より垂直状態に変位される動作
を説明する作動説明図である。

【図８】 図１の縦型露光転写装置の立面図であって、ウェハをウ
ェハ搭載盤に適用する動作を説明する作動説明図である
。

【図９】 図１の縦型露光転写装置の立面図であって、ウェハをウ
ェハ搭載盤に適用する動作を説明する作動説明図である
。

【図１０１ 図３に示した回動アームの変形例を示す斜視図である。 【図１１】 （ａ）乃至（Ｃ）は図１０の回動アームを用いた際の作
動説明図である。

【図１２】 縦型露光転写装置の一部を構成する可動台であって、ウ
ェハ姿勢矯正手段の一部を設けた可動台の斜視図である
。

【図１３】 （ａ）乃至（Ｃ）はウェハ姿勢矯正手段を用いた際の作
動説明図である。

【図１４】 縦型露光転写装置の一部を構成する可動台であって、ウ
ェハ姿勢矯正手段の一部を形成する係合面を形成した可
動台の斜視図である。

【図１５】 （ａ）乃至（Ｃ）はウェハ姿勢矯正手段を用いた際の作
動説明図である。

【図１６】 （ａ）及び（ｂ）は分割タイプのウェハ搭載盤を示す斜
視図である。

【図１７】 回動アームの位置決め機構を説明するための斜視図であ
る。

【図１８】 回動アームの位置決め機構を説明するための斜視図であ
る。

【図１９】 本発明の第１実施例である縦型露光転写装置を示す斜視
図である。

【図２０１ 図１９の縦型露光転写装置の立面図であって、回動アー
ムがウェハを保持すると共に、ウェハ移送ロボットが次
に露光されるウェハを取り出す動作を説明する作動説明
図である。 【図２１】 図１９の縦型露光転写装置の立面図であって、回動アー
ムがウェハを水平状態より垂直状態に変位させると共に
、ウェハ移送ロボットが次に露光されるウェハをウェハ
方向付は台に装着する動作を説明する作動説明図である
。

【図２２】 図１９の縦型露光転写装置の立面図であって、回動アー
ムがウェハをウェハ搭載盤に適用すると共に、ウェハ方
向付は台が次に露光されるウェハの方向付けを行う動作
を説明する作動説明図である。

【図２３】 図１９の縦型露光転写装置の立面図であって、露光済ウ
ェハがウェハ保管盤に保持される動作を説明する作動説
明図である。

【図２４】 図１９の縦型露光転写装置の立面図であって、ウェハ一
時保管機構が露光済ウェハを保管すると共に、回動アー
ムが露光前ウェハを保持する動作を説明する作動説明図
である。

【図２５】 図１９の縦型露光転写装置の立面図であって、ウェハ一
時保管機構が露光済ウェハを保管した状態において、次
に露光されるウェハを水平状態より垂直状態に変位させ
る動作を説明する作動説明図である。

【図２６】 図１９の縦型露光転写装置の立面図であって、次に露光
されるウェハが露光状態においてウェハ保管盤に保管さ
れた露光済ウェハが回動アームに保持される動作を説明
する作動説明図である。

【図２７】 図１９の縦型露光転写装置の立面図であって、次に露光
されるウェハが露光状態において露光済ウェハが回動ア
ームによりウェハ方向付は台に移送される動作を説明す
る作動説明図である。

【図２８】 図１９の縦型露光転写装置の立面図であって、次に露光
されるウェハが露光状態において露光済ウェハが回動ア
ームによりウェハ方向付は台に移送される動作を説明す
る作動説明図である。

【図２９】 図１９の縦型露光転写装置の立面図であって、次に露光
されるウェハが露光状態においてウェハ方向付は台に移
送された露光済ウェハがウェハ移送ロボットによりウェ
ハ収納マガジンに収納される動作を説明する作動説明図
である。

【図３０１ 水平型露光転写装置とそこに用いられるウェハ自動交換
装置とを示す斜視図である。 【符号の説明】 ０．３２　基台 ２　粗動ＸＹステージ ２ａ　直立支持フレーム ２ｂ　水平案内レール ２０　可動キャリッジ ２ｄ　垂直案内レール ２ｅ　可動台 ２ｆ、５２ ２ｇ　垂直溝 ２ｈ　弧状窪み部 ２ｉ、４８ａ　　凹部 ２ｊ　係合面 ウェハ搭載盤 ２４　ウェハ方向付は台 ２４ａ　　回転盤 ２６　ウェハ供給マガジン ２８　ウェハ収納マガジン ３０　ウェハ移送ロボット ３４．３６　　昇降装置 ３８　ウェハ搬送装置 ３８ａ　　可動体 ３８ｂ　　回動アーム ３８ｃ　　ウェハ保持器 ３８ｄ　　弧状切欠き部 ３８ｅ　　弧状溝 ３８ｆ　　ロッド要素 ３８ｇ　　ブロック片 ３８ｈ　　弾性ゴム材料部分 ３８ｉ　　係合部分 ３８ｍ、３８ｎ　　つきあて部 ４０　支持板 ４０ａ　　案内レール ４２．４６　　衝合部材 ４２ａ、４６ａ　　ヘッド部分 ４２ｂ、４６ｂ　　突出部分 ４４．５９　　圧縮コイルばね ４８　収容部材 ５０ａ　　固定部分 ５０ｂ　　可動部分 ５４ａ、５４ｂ、５５ａ、５５ ５６．５７　　停止ピン ６０　ウェハ一時保管機構 す 位置決め用ピン ６０ａ 昇降台 ０ｂ ウェハ保管盤

【書類名】

図面

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【図５】

【図６】

【図７】

【図８】

【図９】

【図１０１ 【図１２】

【図１３】

【図１４】

【図１５】

【図１６】

【図１７】

【図１８】

【図１９】

【図２０】

【図２１】

【図２２】

【図２３】

【図２４】

【図２５】

【図２６】

【図２７】

【図２８】

【図２９】

【図３０】

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】垂直面内で二次元方向に移動可能な可動台
   （２２ｅ）と、この可動台（２２ｅ）に取り付けられた
   ウェハ搭載盤（２２ｆ）とを持つ縦型露光転写装置であ
   って、 ウェハ（Ｗ）を水平状態で搭載してその方向付けを行う
   ウェハ方向付け台（２４）と、 このウェハ方向付け台（２４）上での水平状態のウェハ
   （Ｗ）を保持して垂直状態に変位させた後に該ウェハを
   前記ウェハ搭載盤（２２ｆ）のウェハ吸着保持面に適用
   させるウェハ搬送手段（３３）と、を具備するウェハ自
   動交換装置を設けたことを特徴とする縦型露光転写装置
   。
2. 【請求項２】垂直面内で二次元方向に移動可能な可動台
   （２２ｅ）と、この可動台（２２ｅ）に取り付けられた
   ウェハ搭載盤（２２ｆ）とを持つ縦型露光転写装置であ
   って、 露光前ウェハ（Ｗ１））を水平状態で搭載してその方向
   付けを行うウェハ方向付け台（２４）と、 露光済ウェハ（Ｗ１）を一時的に保管するウェハ一時保
   管機構（６０）と、前記ウェハ方向付け台（２４）上で
   の水平状態の露光前ウェハ（Ｗ１、Ｗ２）を保持して垂
   直状態に変位させた後に該露光前ウェハを前記ウェハ搭
   載盤（２２ｆ）のウェハ吸着保持面に適用させると共に
   、該露光済ウェハ（Ｗ１）を該ウェハ一時保管機構（６
   ０）に載置するウェハ搬送手段（３３）とを具備し、該
   ウェハ搬送手段（３３）が露光前ウェハ（Ｗ１）を保持
   して変位させる際、該ウェハ一時保管機構（６０）が該
   露光済ウェハ（Ｗ１）を該露光前ウェハ（Ｗ２）の変位
   軌跡より退いた位置に保管するよう構成したウェハ自動
   交換装置を設けたことを特徴とする縦型露光転写装置。
3. 【請求項３】ウェハ自動交換装置は、 前記ウェハ搬送手段（３８）が第１の位置と第２の位置
   との間で移動し得るようになった可動体（３８ａ）と、
   第１の位置と第２の位置との間で回動し得るように前記
   可動体に取り付けられた回動アーム（３８ｂ）と、この
   回動アーム（３８ｂ）の自由端に取り付けられたウェハ
   保持器（３８ｃ）とを包含し、前記可動体（３８ａ）が
   その第１の位置に置かれかつ前記回動アーム（３８ｂ）
   がその第１の位置に置かれた際に前記ウェハ保持器（３
   ８ｃ）が前記ウェハ方向付け台（２４）上の水平状態の
   ウェハ（Ｗ）を保持し得るようになっており、前記回動
   アーム（３８ｂ）がその第２の位置まで回動させられた
   際に前記ウェハ保持器（３８ｃ）によって保持されたウ
   ェハ（Ｗ）が垂直状態にされ、前記可動体（３８ａ）が
   その第２の位置まで移動された際に前記ウェハ保持器（
   ３８ｃ）によって垂直状態に保持されたウェハ（Ｗ）が
   前記ウェハ搭載盤（２２ｆ）のウェハ吸着保持面に適用
   されるようになっていることを特徴とする請求項１また
   は２の縦型露光転写装置。
4. 【請求項４】前記回動アーム（３８ｂ）が少なくとも部
   分的に弾性変形し得るように構成され、前記ウェハ搭載
   盤（２２ｆ）のウェハ吸着保持面に対するウェハ（Ｗ）
   の適用時に前記回動アーム（３８ｂ）の少なくとも部分
   的な弾性変形により該ウェハ（Ｗ）がその全周に亘って
   該ウェハ吸着保持面に密着し得るようになっていること
   を特徴とする請求項３の縦型露光転写装置。
5. 【請求項５】前記ウェハ搭載盤（２２ｆ）のウェハ吸着
   保持面に対するウェハ（Ｗ）の適用に先立って該ウェハ
   （Ｗ）と該ウェハ吸着保持面との間に平行関係を与える
   べく該ウェハ（Ｗ）の姿勢を矯正するための姿勢矯正手
   段（４２、４４、３８ｉ、４６：４８、５０、２２ｊ）
   が設けられることを特徴とする請求項４の縦型露光転写
   装置。
6. 【請求項６】前記姿勢矯正手段が前進位置と後退位置と
   の間で移動し得るように前記可動台（２２ｅ）に支持さ
   れた衝合部材（４２）と、この衝合部材（４２）をその
   後退位置から前進位置に常時弾性的に偏倚させる弾性部
   材（４４）とからなり、 前記縦型露光転写装置のウェハ搭載盤（２２ｆ）のウェ
   ハ吸着保持面に対するウェハ（Ｗ）の適用に先立って前
   記衝合部材（４２）がその前進位置で前記ウェハ保持器
   （３８ｃ）の一部（３８ｉ）が前記衝合部材（４２）と
   係合し、これにより前記回動アーム（３８ｂ）が少なく
   とも部分的に弾性変形させられて、該ウエハ（Ｗ）と該
   ウェハ吸着保持面との間に平行関係が与えられることを
   特徴とする請求項５の縦型露光転写装置。
7. 【請求項７】前記姿勢矯正手段が前進位置と後退位置と
   の間で移動し得るように前記ウェハ保持器（３８ｃ）に
   よって支持された衝合部材（４６）と、この、衝合部材
   （４６）をその後退位置から前進位置に常時弾性的に偏
   倚させる弾性部材（５０）とからなり、前記ウェハ搭載
   盤（２２ｆ）のウェハ吸着保持面に対するウェハ（Ｗ）
   の適用に先立って前記衝合部材（４６）がその前進位置
   で前記可動台（２２ｅ）の一部（２２ｊ）と係合し、こ
   れにより前記回動アーム（３８ｂ）が少なくとも部分的
   に弾性変形させられて、該ウェハ（Ｗ）と該ウェハ吸着
   保持面との間に平行関係が与えられることを特徴とする
   請求項５の縦型露光転写装置。
8. 【請求項８】前記ウェハ保持器（３８ｃ）に第１の位置
   決め部（３８ｍ、３８ｎ）を設け、かつ前記可動台（２
   ２ｅ）に第２の位置決め部（５４ａ、５４ｂ）を設ける
   と共に、前記ウェハ方向付け台（２４）に第３の位置決
   め部（５５ａ、５５ｂ）を設けた構成とし、前記回動ア
   ーム（３８ｂ）が第１の位置にある時、該第１の位置決
   め部（３８ｍ、３８ｎ）が該第３の位置決め部（５５ａ
   、５５ｂ）と係合することにより、該ウェハ方向付け台
   （２４）に対して該ウェハ保持器（３８ｃ）の位置決め
   を行い、 前記回動アーム（３８ｂ）が第２の位置にある時、該第
   １の位置決め部（３８ｍ、３８ｎ）が該第２の位置決め
   部（５４ａ、５４ｂ）と係合することにより、該可動台
   （２２ｅ）に対して該ウェハ保持器（３８ｃ）の位置決
   めを行う構成としたことを特徴とする請求項３の縦型露
   光転写装置。
9. 【請求項９】請求項１から８までのいずれかに記載のウ
   ェハ自動交換装置において、前記ウェハ搭載盤（５０）
   が２つの部分（５０ａ：５０ｂ）に分割され、その一方
   の分割部分（５０ｂ）が他方の分割部分（５０ａ）に対
   して突出し得るように移動可能となっていることを特徴
   とする請求項１乃至７の縦型露光転写装置。