JPS6365443A - アライメント付両面自動露光装置 - Google Patents

アライメント付両面自動露光装置

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JPS6365443A
JPS6365443A JP61211178A JP21117886A JPS6365443A JP S6365443 A JPS6365443 A JP S6365443A JP 61211178 A JP61211178 A JP 61211178A JP 21117886 A JP21117886 A JP 21117886A JP S6365443 A JPS6365443 A JP S6365443A
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JP
Japan
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workpiece
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work
section
exposure
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JP61211178A
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Tadao Komata
小俣 忠男
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Orc Manufacturing Co Ltd
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Orc Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プリント基板等のワークの両面に印刷配線等
の画像を同時露光する際に、画像マスクとワークを精度
良く位置合せして能率良く露光することができるアライ
メント付両面自動露光装置に関する。
〔従来の技術〕
プリント基板等のワークに所定の配線パターン等の画像
を露光焼付けするには、ワークと画像マスクを位置合せ
した後、近接または密着して平行光等を透過照射するこ
とにより行なわれる。ワークの両面を同時露光する際の
ワークと画像マスクの位置合せ装置に関する従来の技術
として、本出願人は昭和61年8月13日付の特許出@
「両面露光用ワークアライメント装置」において開示し
ている。この両面露光におけるワークと上下両面の画像
マスクとの位置合せ方法は、上下の焼枠で構成された露
光部の外部にアライメントステージを設け、アライメン
トステージ上でワークの位置合せを行ない、そのワーク
を搬送手段で前記露光部へ搬入し、その露光部でワーク
の位置ズレ量をチェックし算出して、ワークをアライメ
ントステ−ジに戻し再位置合せしたり、次回以降のワー
クの位置合せに反映させたりするもので、ワークの位置
合+!4光よを流ゎ作業的ッ行4いワール処理能力(ス
ループット)を高めるとともに、ワーク位置合せ機構の
簡単化を目的としたものであった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
近年、プリント基板等における配線パターンは搭載部品
(特に集積回路)の集積度が向上するにつれ高密度、高
精細度が要求され、フォトリソグラフィーの露光におい
てワークと画像マスクとの位置合せも高精度が要求され
るようになってきた。
上記従来のアライメント装置においては、ワークは露光
部の外部のアライメントステージでの位置合せ後、ハン
ドラやトランスフッといった搬送手段によって露光部の
露光位置へ搬入セットされるものであったので、この搬
送手段によるワークの保持、*送および露光位置への到
着後の保持開放といった動作の間にワークの位置に狂い
が生ずる虞れがあり高精度を期待できないという問題点
があった。
このワーク位置の狂いが生ずる虞れのため露光部では、
ワーク位置のチェックを頻繁に行なう必要があり、さら
に狂いの生じたワークはアライメント装置へ戻して再位
置合せをするか、排除するかしなければならないことも
あり年産能率を向上させる上で問題点となっていた。
本発明は上記問題点を解決するために創案されたもので
、画像マスクとワークの高精度な位置合せができるとと
もに、生産能率を向上させることができるアライメント
付両面自動露光装置を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明における上記目的を達成するための手段は、一方
の画像マスクを保持する一方の焼枠とその一方の画像マ
スクに位置合せした他方の画像マスクを保持する他方の
焼枠との間でワークの両面を露光する露光部と、前記一
方の焼枠を取付は前記露光部とその外部の所定位置の間
を移動する移動テーブルと、ワークを保持すると共にそ
のワークを前記所定位置に移動される一方の画像マスク
に位置合せするアライメント部と、前記一方の焼枠に配
設され前記位置合せされたワークを前記アライメント部
から受け取って保持するワーク保持手段とを備えて成る
アライメント付両面自動露光装置である。
〔作用〕
本発明では、露光部の焼枠の一方を移動テーブルでアラ
イメント部へ移動させ、このアライメント部によって一
方の焼枠の画像マスクに位置合せされたワークをワーク
保持手段によって一方の焼枠に直接保持し、再び露光部
へ戻して他方の焼枠との間でワークを両面露光する。従
ってワークの位置合せ後、このワークを一方の焼枠に保
持するまでに搬送手段によるワークの保持、搬送や保持
解除が介在しないので、それらによるワークの位置狂い
が生じることがな(なり、また一方の焼枠の移動テーブ
ルはくり返し精度の良い位置決めが可能なので、ワーク
と画像マスクとの高精度な位置合せが可能になる。
以上のように露光部におけるワークと画像マスクの位置
合せ状態に狂いが出なければ、露光工程には位置合せチ
ェックが不要となり、またチェックの結果位置狂いのワ
ークをアライメント部へ戻したりすることもないので、
生産能率を向上させることができる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。
第1図は本発明の一実施例の正面より見た装置構成図で
ある。まず露光部の構成を述べる。露光部lは一方の焼
枠(以下上焼枠と記す)2と他方焼枠(以下上焼枠と記
す)3と両面露光用の照射光学系4a、4bから構成さ
れる。下焼枠2には透明なアクリル板2aが固着され、
その上面に一方の画像マスクとして下面マスクフィルム
5がその周辺部をアクリル板2a上に形成された溝によ
り真空吸着されている。同様に上焼枠3には透明なアク
リル板3aが固着され、他方の画像マスクとして上面マ
スクフィルム6が真空吸着されている。上焼枠3はガイ
ド軸7に支持されて上下動可能に構成され、下焼枠2に
接近可能になっている。
下焼枠のアクリル板2aにはエアーシリンダ等によりア
クリル板面上に突出可能に適宜個数のマスクフィルム位
置合せ用のビン8が埋設されており、上下面マスクフィ
ルムの位置合せ時において、最初に上下面マスクフィル
ム5.6を重ね合せて夫々の位置合せ孔をこのビン8へ
挿入載置し、上焼枠のアクリル板3aを下動させて接近
させ上面マスクフィルム6を吸着させることにより上下
面マスクフィルムの位置合せを行なう。この位置合せ後
、ビン8はアクリル板2日面下に埋没させる。
次に移動テーブルの構成を述べる。移動テーブル9は上
記の下焼枠2を保持し、2本のレール10上に図示しな
いエアーシリンダ等により水平移動可能に配設される。
露光部1の移動テーブル9の停止位置へはストッパ11
に上記のエアーシリンダ等で押し付けられて精度良く位
置決めされる。
同様にして移動テーブル9は他のストッパ12により露
光部1の外部の所定位置に精度良く位置決めされる。
次にアライメント部の構成を述べる。アライメント部1
3は前述した所定位置上部に配設され、ワークを保持し
て下面マスクフィルムに位置合せし、所定位置に移動し
た下焼枠2に上記位置合せしたワークを渡すものである
。このアライメント部13は平面上で直交する2方向(
X、Y)のうちX方向に移動制御されるXテーブル14
と、Y方向に移動制御されるYテーブル15と、回転方
向にθ角だけ回動制御されるθテーブル16と、ワーク
17を吸着保持するアクリル板18と、下面マスクフィ
ルム5の位置合せ基準マークおよびワーク17の位置合
せマークを読み取る2台のテレビカメラエ9と、各テー
ブルの位置制御を行なう制御部などから構成され、上記
各テーブルはガイド軸20によって上下動可能な基台2
1に保持されている。上記のアライメント部13の構成
の詳細は第2図および第3図に示されている。第2図は
下面より見たアライメント部13の構成と制御部の構成
を示す図であり、第3図は各テーブルの支持部材の断面
図である。各テーブルはその上側のテーブルまたは基台
21に支持部材22によって要所をスライド可能に支持
される。まずXテーブル14は支持部材22aにより基
台21にX方向にスライド可能に支持されている。基台
21のX方向の一方の辺部にはパルスモータ等によって
指定量だけX方向に進退するXテーブル押圧手段14a
が設けられ、その他方の辺部にはX−プル付勢部材14
bがXテーブル押圧手段14aの退却方向にXテーブル
を付勢するように配設される。上記の構成によりXテー
ブルはX方向に位置決め制御される。Yテーブル15は
Xテーブル14に支持部材22bによりY方向へ摺動可
能に支持される。Xテーブル14のY方向の一方の辺部
には、パルスモータ等によって指定量だけY方向に進退
するYテーブル押圧手段15aが設けられ、その他方の
辺部にはYテーブル付勢部材15bがYテーブル押圧手
段15aの退却方向にYテーブルを付勢するように配設
される。上記構成によりYテーブルはY方向に位置決め
制御される。θテーブル16は支持部材22cによって
Yテーブル15へ回動可能に支持される。Yテーブル1
5にはパルスモータ等によって指定量だけθテーブル1
6の回動方向に進退するθテーブル押圧手段16aが設
けられ、このθテーブル押圧手段16aはθテーブル1
6の縁部に固着された突起片16bを進退させる。この
突起片16bはYテーブル15に設けられたθテーブル
付勢部材16cによって押圧手段16aの退却方向へ付
勢される。上記構成によりθテーブルは回動方向に指定
角度θだけ回動制御がなされる。上記においてX、Y移
動用の支持部材22a、22bはポールベアリング22
dを保持する■溝22eを直線に形成され、回動用の支
持部材22cは■溝22eを円弧状に形成される。アク
リル板18はθテーブル16に取り付けられていて、ワ
ーク17はアクリル板1日の下面に配設された格子状の
溝18aにより真空吸着される。なお、各テーブルの支
持構造および移動機構は上記に限定するものではなく、
例えば移動機構はスクリュー棒とナツトを使用するもの
など他のものでも良い。
制御部23は基台21に固定された2台のテレビカメラ
19に接続され、最初にアライメント部13の所定位置
に移動された下面マスクフィルム5の2点の位置合せ基
準マークを読み取り記憶する。以後この記憶基準マーク
に基づいて保持したワーク17の位置合せマークを読み
取り、そのズレ量を算出し、Xm動部24.Y駆動部2
5.θ駆動部26を介して各押圧手段14a、15a。
16aに指定移動量、指定角度をパルス数として与える
。ワーク17の位置合せマーク寸法と基準マーク寸法と
の間に誤差があるときは、その誤差を夫々の基準マーク
に対し案分して位置合せするのが好適である。
第4図はアライメントされたワークをアライメント部1
3から受け取りこれを下焼枠2に保持するワーク保持手
段の実施例の縦断面図である。このワーク保持手段27
は下焼枠のアクリル板2aの辺部に埋設されたエアーシ
リンダ2Bにより、レバー29を回動可能とする。この
レバー29の先端にはワーク押え爪29aが形成され、
エアーシリンダ28のロッド28aを突出させたときに
ワーク17の縁部を押えて保持する。このワーク保持手
段27が突出する部分の上面および下面マスクフィルム
5,6には切欠が設けられ、さらに上境粋のアクリル板
3aには露光時に接近するための逃げ部分として凹部3
bが設けられる。ワーク保持手段はこの実施例に限定す
るものではなく、アクリル板2aとマスクフィルム5に
連通して設けた溝または多数の孔によりワークの辺部を
真空吸着するなどの手段を用いても良い。
次に露光前のワークを供給するローダ部と露光後のワー
クを取り出すアンローダ部とを第1図で説明する。ロー
ダ部30は露光前のワークをストックし、このワークを
ハンドラ31が下動して真空吸着等で保持し、再び上動
してアライメント部13へ搬入する。この搬入時には移
動テーブル9は露光のため露光部1に移動し、アライメ
ント部13の所定位置下方に上下動可能に配設されたワ
ーク受取テーブル32がマスクフィルムの位置まで上昇
しハンドラ31よりワークを受け取る。ここでハンドラ
31は復帰し、アライメント部13は下降してワーク受
取テーブル32のワーク17をθテーブルに吸着し、x
、y、  θの位置合せを行なう。一方アンローダ部3
3はハンドラ34を備え、露光後のワークを上焼枠3が
上昇退避した後に真空吸着等により搬出する。
以上のように構成された実施例の作用を述べる。
まず、始めにマスクフィルムの上下位置合せセットが手
操作で行なわれる。このとき移動テーブル9は露光部1
に位置決めし、下焼わく2のマスクフィルムの位置合せ
用ピン8は突出させておく。
そのピン8にマスクフィルム5と6の位置合せ用孔を重
ねて嵌入し、夫々上下の焼枠のアクリル板3a、3bに
吸着させる。以上のマスクフィルムのセントが終了した
らピン8は埋没させ、上焼枠3は上昇させて待機させ、
移動テーブル9はアライメント部13の所定位置へ位置
決めする。続いてアライメント部13は下降しテレビカ
メラ19によって下面マスクフルム5の位置合せ基準マ
ークを読み取り、制御部23に記憶する。以上の準備段
階が終了すると移動テーブル9は露光部1へ戻り、以下
の順序でワークの露光工程が実行される。
(1)  アライメント部13下のワーク受取テーブル
32をマスクフィルムが来る位置まで上昇させ、ローダ
部30のハンドラ31によりワーク17を受け取る。
(2)アライメント部13が下降しワーク17を吸着保
持して上昇した後、ワークの位置合せマークをテレビカ
メラ19で読み取り、x、y、  θのアライメントを
行なう。
(3)  ワーク受取テーブル32は待避し、ワークな
しの移動テーブル9がアライメント部13の所定位置へ
移動してアライメント部13の下降によりアライメント
済みのワーク17を受け取る。
(4)受け取ったワークはワーク押え爪29aによって
下焼枠2に固定された後、移動テーブル9によって露光
部1へ移動され位置決めされる。
(5)  上焼枠3が下降し、アクリル板2a、3a間
の真空引き等によってワーク17とマスクフィルム5.
6が近接ないし密着され露光が行なわれる。
(6)上焼枠3は上昇して待機し、露光後のワークはハ
ンドラ34によってアンローダ部33へ搬出される。
以上において、(1)、 (2)のアライメント動作と
(5)。
(6)の露光動作とは2回目以降は流れ作業的に同時に
行なう。このことによって作業時間のムダがなくなり、
生産能率が向上する。またアライメントされたワークは
直接焼枠に保持されるので露光時における位置合せの精
度を高めることができる。
なお、本発明は以上の実施例に限るものではな(、本発
明の主旨に沿って種々の応用と実施態様を取り得るもの
である。例えば一方の焼枠や一方の画像マスクは上焼枠
と上面の画像マスクであっても良い。この場合上下の機
構は逆にすれば良い。
またローダ部、アンローダ部の構成はハンドラに限るも
のではなくロボット等を用いても良い。ローダ部ではワ
ークを反転して搬入し直接アライメント部へワークを渡
せばワーク受取テーブルは省略できる。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、露光部の外部でアラ
イメントしたワークを直接一方の焼枠に保持するので、
高精度なワークと画像マスクとの位置合せができる。ま
たワークのアライメント動作と露光動作が流れ作業的に
同時に実行でき、露光部における位置合せのチェックや
位置合せ不良時の処理が不要なので生産能率を向上させ
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の正面より見た装置構成図、
第2図はアライメント部の下面より見た構成と制御部の
構成を示す図、第3図はアライメント部の支持部材の断
面図、第4図はワーク保持手段の実施例の縦断面図であ
る。 1・・・露光部 2・・・下読枠(一方の焼枠) 3・・・上焼枠(他方の焼枠)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一方の画像マスクを保持する一方の焼枠とその一方の画
    像マスクに位置合せした他方の画像マスクを保持する他
    方の焼枠との間でワークの両面を露光する露光部と、 前記一方の焼枠を取付け前記露光部とその外部の所定位
    置の間を移動する移動テーブルと、ワークを保持すると
    共にそのワークを前記所定位置に移動される一方の画像
    マスクに位置合せするアライメント部と、 前記一方の焼枠に配設され前記位置合せされたワークを
    前記アライメント部から受け取って保持するワーク保持
    手段とを備えて成ることを特徴とするアライメント付両
    面自動露光装置。
JP61211178A 1986-09-08 1986-09-08 アライメント付両面自動露光装置 Granted JPS6365443A (ja)

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JPS6365443A true JPS6365443A (ja) 1988-03-24
JPH0541982B2 JPH0541982B2 (ja) 1993-06-25

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0487390A (ja) * 1990-07-31 1992-03-19 Toppan Printing Co Ltd 基板の露光装置及び露光方法
JPH04271355A (ja) * 1991-02-27 1992-09-28 Ii & S:Kk フィーチャアライナ

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5080122A (ja) * 1973-11-14 1975-06-30

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5080122A (ja) * 1973-11-14 1975-06-30

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0487390A (ja) * 1990-07-31 1992-03-19 Toppan Printing Co Ltd 基板の露光装置及び露光方法
JPH04271355A (ja) * 1991-02-27 1992-09-28 Ii & S:Kk フィーチャアライナ

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