JPH0469129A

JPH0469129A - 円板のセンタリング装置

Info

Publication number: JPH0469129A
Application number: JP2182164A
Authority: JP
Inventors: Takaharu Saeki; 敬治佐伯; Tsuneaki Komazawa; 駒沢　恒明
Original assignee: Furukawa Electric Co Ltd
Current assignee: Furukawa Electric Co Ltd
Priority date: 1990-07-10
Filing date: 1990-07-10
Publication date: 1992-03-04
Anticipated expiration: 2014-01-13
Also published as: JP2846423B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明のセンタリング装置は、半導体ウェハにテープを
貼り付けるテープマウンタ、そのテープをウェハの外周
に倣って切断するテープラミネータ、同テープを剥すテ
ープリムーバ等に使用されるものである。

（従来の技術）従来の半導体ウェハのセンタリング装置は、第６図ａの
ような半径ｒＩのウェハＡ１の外周面に、その両側から
第７図のように二つのセンタリングガイドＢ１、Ｂ２の
湾曲面Ｇをあてがって、同ウェハＡ、の芯出しくセンタ
リング）を行なうようにしである。このセンタリングガ
イドＢ。

Ｂ２の湾曲面Ｇは、ウェハＡ１の弧状の外周面に密に接
触するように同ウェハＡ１の外周面の曲率半径と同じ曲
率半径に形成されている。

（発明が解決しようとする課題）しかしながら従来のセンタリング装置では湾曲面Ｇの曲
率半径が定まっているため、その曲率半径より半導体ウ
ェハＡ１の外周面の曲率半径が大きい場合は第８図のよ
うに、小さい場合は第９図のようになり、いずれの場合
も湾曲面ＧがウェハＡ、の外周面に密に接触しない、こ
のため半導体ウェハＡ、のセンタが出にくい。

そこで従来は第６図ａ、ｂのように半径ｒＩ。

ｒ２の異なるウェハＡ１、Ａ２をセンタリングする場合
は、夫々のウェハＡ＋、Ａｚの外周面の曲十半径にあっ
た湾曲面ＧのセンタリングガイドＢ１、Ｂ２に交換しな
ければならなかった。そのため、交換作業が面倒であり
、しかもセンタリングガイドＢ１、Ｂ２を交換する度に
、ガイド自身の芯出し調整を行なわなければならず、手
間がかかっていた。

この交換作業をなくすためには、一種類のセンタリング
ガイドＢ１、Ｂ２を半径の異なる全てのウェハに共用す
ることが考えられる。しかし１例えば第８図のように湾
曲面Ｇの曲率半径がウェハＡ、の外周面の曲率半径より
小さい場合は、湾曲面Ｇの端部がウェハＡ、のオリジナ
ルフラット部０に当接すると、ウェハＡ、はセンタリン
グガイドＢ１、Ｂ２の三点で支持されるので、その支持
がより不安定になる。

一方、第９図のように湾曲面Ｇの曲率半径がウェハＡ２
の外周面の曲率半径より大きい場合は、夫々の湾曲面Ｇ
とウェハＡ２の外周面との接触長が短くなるので、同ウ
ェハＡ２の支持が非常に不安定になる。

（発明の目的）本発明の目的はセンタリングガイドを交換することなく
、半径の異なる二種以上のウェハを確実に芯出しでき、
しかもそれを安定して支持することのできるセンタリン
グ装置を提供することにある。

（課題を解決するた″めの手段）本発明のセンタリング装置は第１図、第２図のように、
半導体ウェハＡ５、Ａ２の外周面に、その両性側から二
つのセンタリングガイドＢ１、Ｂ２の湾曲面Ｇをあてが
って、同ウェハＡ３、Ａ２の芯出しを行なうようにした
センタリング装置において、前記センタリングガイドＢ
１、Ｂ２の一つの湾曲面Ｇに、曲率半径の異なる二以上
の円弧部Ｃ＋　、　Ｃｔが形成されてなることを特徴と
するものである。

（作用）本発明のセンタリング装置では、例えば第１図、第２図
のようにセンタリングガイドＢ１、Ｂ２の湾曲面Ｇの内
側に曲率半径の小さい円弧部ｃ２が形成され、その両性
側に曲率半径の大きい円弧部ｃ１が形成されているので
、第６図ａの大きい半径ｒ１のウェハＡ、の外周面には
第３図のように前記外側の円弧部ＣＩが四箇所で富に接
触し、第６図すのように小さい半径ｒ２のウェハＡ２の
外周面には第４図のように内側の円弧部ｃ２が密に接触
する。また、第５図のように前記ウェハＡ１のオリジナ
ルフラット部Ｏが前記外側の円弧部ｃ１の一つに当接し
ても、残りの三つの円弧部ＣＩが同ウェハＡ、の外周面
に密に接触するので同ウェハＡ、の芯出しが確実に行な
われ、しかも安定して支持される。

（実施例）本発明のセンタリング装置の一実施例である第１図に示
すＢ、、Ｂ、はセンタリングガイドであり、これは二つ
対向して配置されている。

第１図のＧは湾曲面であり、これは夫々のセンタリング
ガイドＢ１．Ｂｚの内側に形成されている。そして本発
明では夫々の湾曲面Ｇに曲率半径の異なる円弧部が形成
されて、夫々の円弧部が半径の異なる半導体ウェハの外
周面に当接して同ウェハの芯出しができるようにしであ
る。この実施例では夫々の湾曲面Ｇの内側に、小さい半
径ｒ２のウェハＡ２の外周面の曲率半径と同じ曲率半径
の円弧部ｃ２が、その両性側に大きい半径ｒ、のウェハ
Ａ１の外周面の曲率半径と同じ曲率半径の円弧部ＣＩが
形成されている。なお、前記内側の円弧部ｃ２の輻ｅ６
は少なくとも前記大きい半径ｒ１のウェハＡｌのオリジ
ナルフラット部Ｏの輻ρ０（第６図ａ）より広くする必
要がある。

第１図の１は同湾曲面Ｇの下方に、内側に向けて突設さ
れている受面である。

第１図の２は同図の右側のセンタリングガイドＢ１、Ｂ
２の底面に、下方に向けて突出された押当片である。

第１図の３はガイドレールであり、これは二本横向きに
並べて設けられている。このガイドレール３には、一方
のセンタリングガイドＢ１が同図の左側に固定され、他
方のセンタリングガイドＢ２が同図の右側に同ガイドレ
ール３に沿ってスライド可能なるよう取付けられている
。

第１図の４はスプリングであり、その一端が左側のセン
タリングガイドＢ１に接続され、他端が右側のセンタリ
ングガイドＢ２に接続されており、これにより二つのセ
ンタリングガイドＢ１、Ｂ２が内側に引き寄せられてい
る。

第１図の５は移動用シリンダであり、前記右側のセンタ
リングガイドＢ２をガイドレール３に沿って移動させる
ためのものである。この移動用シリンダ５は、同シリン
ダ５のロッドが延びると前記右側のセンタリングガイド
Ｂ２の押当片２に押当する位置に取付けられている。

第１図の６はウェハＡ１、Ａ２を吸着する吸着治具であ
る。この吸着治具６はウェハ状の吸着体７と、その下方
に延設された支持棹８とが備えられている。そして吸着
体７の上面７ａには十字溝９が形成され、同情９の交点
に同吸着体７から支持棹８に向けて貫通する吸引穴ｌＯ
が形成され。

同吸引穴１０が図示されていない吸引装置に接続されて
いる。

第１図の１１は前記吸着治具６を昇降させる昇降装置で
ある。この昇降装置ＩＩは前記吸着治具６の支持棹８が
取付けられた基板１２と、同基板１２を上下方向に移動
させる昇降用シリンダ１３と、基板１２の移動をガイド
するアーム１４と力≦備えられている。

このセンタリング装置により、例Ｉｆ小さｌ／）半径ｒ
２のウェハＡ２をセンタリングするには以下のようにす
る。

先ず、昇降装置１１の昇降用シリンダ１３のロッドを伸
ばして吸着治具６を上昇させると共９こ、移動用シリン
ダ５のロッドを伸ばして右側のセンタリングガイドＢ２
を左側のセンタリングガイドＢ１から遠ざけ、両ガイド
Ｂ１、Ｂ２の湾曲面Ｇ間の距離をウェハＡ２の外径より
も広げておく。

この状態で吸着治具６の吸着体７の上面７ａＧこ同ウェ
ハＡ２をのせ、前記吸着治具６に接続されている吸引装
置を起動すると、前記吸引穴ｌＯ及び十字溝９内の空気
が吸引されて、同ウニＡＡ２が同吸着体７の上面７ａに
吸着される。

そして前記昇降用シリンダ１３のロッドを収縮して第１
図すの実線の位置から仮想線の位置まで吸着治具６を降
下させ、然る後、前記吸引装置の吸引を停止するとウェ
ハＡ２が両センタリングガイドＢ１、Ｂ２の受面ｌ上に
のせられる。

次いで前記移動用シリンダ５のロッドを収縮させればス
プリング４の復元力により右側のセンタリングガイドＢ
２が左側のセンタリングガイドＢ１に近づいて、両セン
タリングガイドＢＢ２の湾曲面Ｇに形成されている内側
の円弧部ｃ２が同ウェハＡ２の外周面に当接して、第４
図のように同ウェハＡ、が芯出しされる。

なお、この実施例では前記湾曲面Ｇに曲率半径の異なる
円弧部Ｃ１、Ｃ２が二つだけが形成されたものについて
詳述したが、本発明のセンタリング装置では曲率半径の
異なる円弧部を三点上形成しても差し支えない。

また、本発明のセンタリング装置は半導体ウェハ以外の
円板のセンタリングに使用してもよい。

（発明の効果）本発明のセンタリング装置は以下のような効果がある。

■　センタリングガイドＢ１．Ｂ２の湾曲面Ｇに形成さ
れている曲率半径の異なるの円弧部Ｃ３、Ｃ２・・・に
より、異なる半径ｒ１．ｒ２・・・のウェハＡ、、Ａ２
・・・が芯出しされるので、従来のようにセンタリング
ガイドＢＢ２を交換したり、同ガイドＢ１、Ｂ２自身の
芯出しを行なう面倒がなく１作業性や生産性が向上する
。

■、既存のセンタリングガイドＢ、、Ｂ２に追加工を施
すだけでよいので、格別に高価になることもな（、実用
化し易い。

【図面の簡単な説明】

第１図ａは本発明のセンタリング装置の一実施例を示す
平面図、同図すは同装置の正面図、第２図は同装置のセ
ンタリングガイドの説明図、第３図〜第５図は同ガイド
の使用説明図、第６図ａ、ｂは半導体ウェハの説明図、
第７図は従来のセンタリング装置におけるセンタリング
ガイドの説明図、第８図、第９図は同ガイドの異なる使
用説明図である。Ａ３、Ａ２・・・は半導体ウエノλ等の円板Ｂ、、Ｂ２
はセンタリングガイドＧは湾曲面ｃｌ、ｃ２・・・は円弧部

Claims

【特許請求の範囲】

　半導体ウェハ等の円板Ａ＿１、Ａ＿２・・・の外周面
に、その両外側から二つのセンタリングガイドＢ＿１、
Ｂ＿２の湾曲面Ｇをあてがって、同円板Ａ＿１、Ａ＿２
・・・の芯出しを行なうようにしたセンタリング装置に
おいて、前記センタリングガイドＢ＿１、Ｂ＿２の一つ
の湾曲面Ｇに、曲率半径の異なる二以上の円弧部Ｃ＿１
、Ｃ＿２・・・が形成されてなることを特徴とする円板
のセンタリング装置。