JPH0463729B2 - - Google Patents

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JPH0463729B2
JPH0463729B2 JP60215440A JP21544085A JPH0463729B2 JP H0463729 B2 JPH0463729 B2 JP H0463729B2 JP 60215440 A JP60215440 A JP 60215440A JP 21544085 A JP21544085 A JP 21544085A JP H0463729 B2 JPH0463729 B2 JP H0463729B2
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bed
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Tetsuzo Honda
Kimikazu Kido
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Toyo Engineering Corp
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    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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    • B05D1/18Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
    • B05D1/22Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping using fluidised-bed technique
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    • A23FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23GCOCOA; COCOA PRODUCTS, e.g. CHOCOLATE; SUBSTITUTES FOR COCOA OR COCOA PRODUCTS; CONFECTIONERY; CHEWING GUM; ICE-CREAM; PREPARATION THEREOF
    • A23G3/00Sweetmeats; Confectionery; Marzipan; Coated or filled products
    • A23G3/02Apparatus specially adapted for manufacture or treatment of sweetmeats or confectionery; Accessories therefor
    • A23G3/20Apparatus for coating or filling sweetmeats or confectionery
    • A23G3/2092Apparatus for coating with atomised liquid, droplet bed, liquid spray
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61JCONTAINERS SPECIALLY ADAPTED FOR MEDICAL OR PHARMACEUTICAL PURPOSES; DEVICES OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR BRINGING PHARMACEUTICAL PRODUCTS INTO PARTICULAR PHYSICAL OR ADMINISTERING FORMS; DEVICES FOR ADMINISTERING FOOD OR MEDICINES ORALLY; BABY COMFORTERS; DEVICES FOR RECEIVING SPITTLE
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    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、粒子の加工方法、即ち、小粒子の
肥大化あるいはコーテイングにより所望の粒径の
粒状物が製造される方法に関する。
化学工業・製薬工業・食品工業・その他の工業
において種々の固体物質を所望の粒径の粒状製品
に加工する方法に関する。
〔先行技術の問題点〕
造粒法および粒状物のコーテイング法として、
多くの方法が提案され、実用されている。
目的の製品が少量である場合は、いかなる方法
を選択しても、技術的にも経済的にも大差がない
が、大量生産用の方法においては、まず方法の選
定に始まり、採用方法の実施のための装置の加工
原料への適合性と、加工の効率とが密接に関連し
ており、改良されるべき問題が多い。
流動床方式、噴流床方式、および流動床・噴流
床方式が大量生産用に適当する方法であることが
知られている。
稼働状態の安定性が他の方法に比較して良好で
あるため、これら三方式の方法においては、 当面の重要な技術的・経済的課題は、高品質の
製品を高い生産性を以て製造し得る方法への一層
の改良である。
これらの方法は、いずれも大量の粒子の一括的
処理であり、その改良は、試行錯誤を伴う実験に
よる他はない。
これらの方法中において、重要なことは、噴霧
された微細な液滴と、気流中に浮遊している加工
される粒子との衝突付着の機会が可及的に大きく
維持されていることであり、 一方、加工粒子の肥大化あるいはコーテイング
は、加工粒子表面が、一時的に、噴霧された微細
な液滴の付着による濡れた状態となるため、微小
時間ではあるが、濡れた状態にある期間は加工粒
子相互の衝突の機会が減少させられていることで
あり、また、肥大化などを受ける加工粒子の表面
に付着した液滴の固化あるいは乾燥による濡れた
状態の消滅までの所要時間が、確保されることで
ある。
以上の三つの必要性が、可及的に小さいエネル
ギー消費を以て充足されなければならない。
この発明の方法とは方式が相違するが、流動床
方式の特公昭60−13735の方法が提案されている。
この方法では、流動床中に噴霧用の空所を形成
させるために、補助気体が使用されるのであり、 補助気体により流動床中に流動床上面に空所が
到達・通過しないように噴霧用の空所を形成させ
る方法であつて、流動床・噴流床方式ではなく、
加工粒子の上昇速度と距離が限定され、本質的に
流動床方式である。
この方法は、流動床の底面に散在させられ、上
方へ被覆用物質を噴射するノズルがあり、このノ
ズルから噴射される微細液滴の噴霧角度が20度以
内となり、また、流動化相中の空所が各噴霧器上
に形成され維持されるために、大きい垂直速度の
補助気体がノズルの周縁に開口する同心状、環
状、収斂状気流噴出ノズルから噴出されるもので
あるが、噴霧角度が小さくされることと前記の通
り、補助気体が噴流床を形成しないよう制限され
るため、高圧補助気体の供給のための動力消費は
大きいにも拘らず、噴霧角度が小さくされ、噴霧
用の空所の直径が小さく、噴霧された微細な液滴
と加工される加工粒子との衝突付着用の空間は小
さく、流動床の単位面積当たりの噴霧用の空所の
数、即ち、ノズルの数が多いなど若干の難点があ
る。
〔発明の構成〕
発明者らは、特公昭60−12895その他の一連の
公告公報などが示すように、粒子の静止層中に噴
流床を形成させる方式の粒子の加工方法から出発
して、流動床中に噴流床を形成させる方式、即
ち、流動床・噴流床方式の加工方法に至る長期の
開発研究によつて与えられた知見が基盤となり、
次に述べる構成の発明が与えられた。
即ち、この発明は、流動床・噴流床方式の粒子
の加工方法であつて、装置内の加工される全ての
粒子が、噴霧された微細液滴と衝突する機会が可
及的に頻繁に均等に与えられるためと熱と物質の
移動の自由度が大きくされて加工粒子の冷却、、
あるいは逆に加熱、あるいは乾燥などが容易に行
われるために、一定容積の空間中で全ての加工粒
子の運動量が比較的に大きく維持される流動床が
使用され、この目的に適合する空間として、流動
床の厚さは静止状態において、0.10〜1.00mの範
囲内とされ、流動状態において0.30〜1.50mの範
囲内とされること、 個々の加工粒子が、相互に衝突する機会が小さ
く、気流中に自由に浮遊する空間が提供されるた
め、および、個々の加工粒子の表面に付着した微
細な噴霧液滴の固化あるいは乾燥による濡れた状
態の消滅までの時間が確保されるために、流動床
を貫通する噴流床が流動床中に散在させられ、流
動床の直上に、2〜10m高の範囲内の、噴流床中
の加工粒子の自由な上昇落下用の空間が用意され
ること、 個々の加工粒子が、可及的に大きく形成されて
いる噴流床に進入させられ、可及的に稠密に存在
する微細な噴霧液滴と衝突させられるために、 流動床の底床上に配設された直径2〜10mmの範
囲内の孔径の被覆用物質の供給ノズルから被覆用
物質が拡大角度30〜80度の範囲内の円錐状に大量
噴霧されること、 個々の加工粒子は、噴流床中において必要充分
な流速と流量の気流中に浮遊させられながらも、
噴流床形成用の動力消費は小さくされるために、 被覆用物質の供給ノズルを包囲する水平断面が
環状の各気流放出孔から噴流床形成用の気流が5
〜50m/sec.の噴出速度と250〜10000Nm3/時の
流量の範囲内を以て供給されること、 および、この粒子加工装置内全体に関する熱と
物質の移動の効率が限界内に維持され、装置の設
備費が低減させられるために、 被覆用物質の供給ノズルと水平断面が環状の気
流放出孔一対からなる噴流床の起生部は流動床の
水平面積基準において0.5〜5基/m2の範囲内の
密度を以て配設されることにより構成される粒子
の加工方法である。
〔図面による説明〕
第1図は、この発明の方法が実施されている装
置の縦断端面図である。
第2図は、第1図中に示される噴霧ノズル・気
流放出孔の中の1基と、その周辺を示す拡大され
た縦断端面図である。
第1図において、装置の垂直に設置される筒状
の側壁1は、その上端が排気口2を備えた天井3
によつて、下端が底床4によつて封じられてい
る。
側壁1の水平断面は、任意の形状が選択される
が、内部の上昇気流の流速を低下させて気流中の
固形物の沈降が促進されるために、側壁1の上部
水平断面は、下部の水平断面に相似の拡大形状と
される。
側壁1の下方部に流動床用の気体の給気口5が
備えられ、底床4上に流動床用の気体の均等分配
用の空間が確保されて、底床4の上方に流動床の
底面を区画する通気性の底床6が水平もしくは僅
かに傾斜して備えられる。
天井3と流動床の底床6との間の空間は、下方
から上方へ順次、流動床用の空間7、噴流床中を
上昇する粒子の上昇落下用の空間8、および気流
の集合用の空間9として、それぞれ機能する。
流動床用の空間7は、その高さが0.3〜1.5mの
範囲内とされ、噴流床中を上昇する粒子の上昇落
下用の空間8は、その高さが2〜10mの範囲内と
される。
気流の集合用の空間9は、その高さが0.50〜
3.00mの範囲内とされる。
流動床用の空間7の上端部付近の側壁1上に所
望数の加工粒子の供給口10が備えられ、同様
に、供給口10から可及的に遠距離の位置に粒子
の排出口11が備えられる。
流動床用の気体の均等分配用の空間中に垂直に
配設され、流動床の底床6を貫通して流動床用の
空間7へ開口する噴流床形成用の気体の供給管1
2が流動床の水平面基準において0.5〜5基/m2
の範囲内の密度を以て配設される。
各供給管12の開口の中心に、液体の粒子の被
覆用物質を、鉛直上方へ、拡大角度30〜80度の範
囲内の円錐状に噴霧するノズル13が備えられ
る。
次に、供給管12の開口とノズル13が中心と
され、周縁の底床6も含め、その詳細な構造と作
動条件が、第2図により説明される。
第2図の流動床の底床6は多孔板であり、2〜
6mmの孔径の通気孔14が5〜15mmのピツチで穿
設されており、開孔率は5〜20%である。
相互に等距離をおいて、噴流床形成用の気体の
供給管12が、底床6の水平面の面積1m2当り
0.5〜5本の密度を以て、底床6の下方の流動床
用気体の分配用空間中に鉛直に配設されている
が、 第2図には、その中の1本が示されている。
供給管12の上端は底床6を貫通して、流動床
用の空間7に開口する。
供給管12の内径と開口の内径は、同一一であ
り、100〜400mm、好ましくは、150〜250mmの範囲
内とされる。
供給管12の鉛直部の長さは、開口から少なく
とも1m程度が必要である。
供給管12の開口の放出気流の圧力は、0.03〜
0.2Kg/cm2Gの範囲内に、流動床の厚さと加工粒
子の比重によつて選定され、放出気流の流速は最
大50m/sec.、好ましくは10〜20m/sec.の範囲
内とされる。
供給管12の外方の、流動床用気体の分配用空
間の圧力は、同様に流動床の厚さと加工粒子の比
重によつて、0.03〜0.2Kg/cm2Gの範囲内に選定
される。
各供給管12の開口の中心部に、底床6の上面
の高さを基準として、−100〜+100mmの高さの位
置にに、2〜10mmの範囲内の内径の被覆用物質の
供給ノズル13が開口する。
この供給ノズルの外径は、10〜50mmの範囲内で
あり、必要に応じて、供給ノズルには被覆用物質
の流動性の確保のための加熱手段として水蒸気な
どの熱媒が流通させられる外套が設備される。
装置の作動中、供給ノズル13から3〜20Kg/
cm2Gの範囲内の圧力を以て液体の被覆用物質が微
細液滴となり30〜80度の拡大角度を以て放出され
る。
第2図に、示されるように、この発明の方法の
特徴の一つは、噴流床の基底部の直径が、100〜
400mmの範囲内にあつて大きく、供給管12によ
る噴流床形成用の放出気流の圧力は、0.03〜0.2
Kg/cm2Gの範囲内にあつて低いことである。実験
の結果、この寸法の装置構成と圧力条件によつ
て、流動床中に、噴霧液滴の供給位置として最適
の、加工粒子の存在が疎である空間、即ち、安定
した噴流床が形成され、噴流床中において加工粒
子への微細液滴の付着と固化は完結し、流速5〜
50m/secの気流によつて加速され、流動床上の
空間へ飛躍する。
噴流床を形成した気流は流動床内の通過後、流
路の拡大によつて急激に流速が低下する。
流動床の直上の空間へ飛躍した加工粒子は、流
動床の上面上、1〜10mの高さに達して失速して
流動床へ落下し、流動床中において、乾燥させら
れ冷却される。
流動床中へ落下した加工粒子は、再び噴流床へ
巻き込まれ、微細液滴の付着を受ける。
加工粒子の加工は、以上に述べた動作の反復で
ある。
この発明の方法の特徴の一つは、流動床を貫通
して流動床の上方の空間中へ延伸されて形成され
る噴流床中の加工粒子の上昇、失速と落下であ
る。
この動作態様の重要な理由は、噴流床の下端部
において微細液滴の付着を受けて濡れた加工粒子
が、流動床の上方に延伸された噴流床中を上昇
し、失し、落下し、流動床表面に到達する時間内
に、加工粒子の表面に付着した微細液滴が乾固
し、その付着性が完全に消失させられることであ
る。
基底部の直径が大きく、高く延伸された噴流床
がある、この発明の方法に相違して、噴流床がな
く、噴霧用の空所の基底部の直径も小さい特公昭
60−13735の方法の場合は、噴霧用の空所の形成
用の放出気流圧力が、この発明の方法の圧力より
も高くても、加工粒子が流動床の直上の空間中へ
噴出することはなく、従つて、加工粒子の流動床
上の空間中の上昇、失速と落下はなく、加工粒子
は流動床上面の高さ以下において、噴霧用の空所
から直接的に流動床へ移行するのであり、加工粒
子の表面に付着した微細液滴の乾固と付着性の消
失が不十分となる可能性が大きく、表面が濡れて
相互の付着性が大きい加工粒子は凝集するため、
噴霧用の空所へ大量の噴霧液滴の供給は不可能で
あり、装置の加工機能部の水平単位面積当りの生
産能力の増大は困難である。
この発明の方法の特徴の一つは、供給ノズル1
3から3〜20Kg/cm2Gの範囲内の圧力を以て液体
の被覆用物質が微細液滴となり、30〜80度の拡大
角度を以て放出され、流動床中から流動床上の空
間に延長されている大直径の噴流床の下端部分に
可及的に大量の被覆用物質が供給されて、装置の
生産能力が増大されていることである。
この発明の方法の特徴の一つは、噴流床形成用
の気流の供給圧力が低いことであり、例えば、尿
素造粒の場合、0.1Kg/cm2G以下の空気の使用で
充分であり、特公昭60−13735例示の0.4Kg/cm2
の空気が補助気体として使用される場合に比較し
て、この空気圧差による電力節約は、製品1トン
当り約10KWHである。
この発明の方法の特徴の一つは、ノズル13が
大口径の供給管12の中心に設置されるため、ノ
ズル13自体とノズル13に至る被覆用物質の供
給管に、必要に応じて、被覆用物質の流動性を確
保する加熱媒体が流通する外套が容易に設備され
得ることである。
この外套が設備され得ない場合は、被覆用物質
の供給管とノズルを収容している気流管中の気体
が高温とされなければならず、装置内の熱収支
上、装置内を冷却する必要がある場合には、気流
管により流入する気体と等量以上、流動床への気
体が増量される必要が生じ、気流管の高温気体に
よる入熱は、設備費および動力費の高騰を招き、
甚だ不利である。
〔実施例〕
尿素濃度95%の尿素融液から平均粒径3mmの尿
素顆粒が1000t/日の生産量を以て製造される場
合、加工粒子とされる平均粒径2mmの尿素粒子が
供給される造粒機能部の水平断面の形状は、一辺
が2m、他の一辺が5mの長方形であり、加工粒子
が21000Kg/時の供給量で2mの一辺側に設備され
た2ケ所の供給口から造粒機能部内の流動床に供
給される。
圧力0.08Kg/cm2G、流量61000Nm3/時、30℃
の流動用空気により約1mの厚さの流動床が造粒
機能部内に形成される。
流動床下の多孔の底床に均等に間隔を置いて、
内径200mmの噴流床用気流の放出口が、10個配設
され、圧力0.08Kg/cm2G、流量20000Nm3/時、
30℃の噴流床形成用の空気が噴出する。
噴流床用気流の各放出口の中心に内径6mmの尿
素融液の噴霧口が設備され、各々、圧力10Kg/cm2
G、流量4400Kg/時、125℃の尿素融液が、噴霧
される。
噴流床中の加工粒子は流動床の上表面上、平均
5mの高さまで上昇した後、流動床へ落下する。
加工粒子の供給口がある一辺の対辺に開口する
排出口から平均粒径3mmの製品の尿素顆粒を85%
含有する粒状尿素が62700Kg/時の流量で以て排
出される。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の方法が実施されている装
置の縦断端面図であり、第2図は、第1図中に示
される噴霧ノズル・気体ノズルの中の1基と、そ
の周辺を示す拡大された縦断端面図である。 記号リスト 1…側壁、2…排気口、3…天
井、4…底床、5…給気口、6…底床(通気性)、
7…空間(流動床用)、8…空間(上昇落下)、9
…空間(気流集合)、10…供給口、11…排出
口、12…供給管、13…ノズル、14…開口
(通気底床)、15…スチームジヤケツト。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 水平もしくは僅かに傾斜する通気性の底床上
    に、加工粒子が形成し、噴流床を散在させる流動
    床中の噴流床へ、粒子の被覆用物質が微細液滴と
    して供給され床中の粒子が加工される方法におい
    て、 流動床の厚さは静止状態において0.10〜1.00m
    の範囲内、流動状態において、0.30〜1.50mの範
    囲内とされること、 流動床の直上の、加工粒子の飛躍上昇落下用の
    空間は2〜10m高の範囲内とされること、 流動床の底床上に配設された被覆用物質の供給
    ノズルから被覆用物質が拡大角度30〜80度の範囲
    内の円錐状に上方に噴霧されること、 被覆用物質の供給ノズルを包囲する水平断面が
    環状の各々の気流防出孔から流動床形成用の気流
    が、噴出速度5〜50m/sec.、流量250〜10000N
    m3/時の範囲内を以て供給されること、 および、被覆用物質の供給ノズルと気流放出孔
    一対からなる噴流床起生部が、流動床の水平面積
    基準において0.5〜5基/m2の範囲内の密度を以
    て配設されることを特徴とする粒子の加工方法。
JP60215440A 1985-09-27 1985-09-27 粒子の加工方法 Granted JPS6274443A (ja)

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JP60215440A JPS6274443A (ja) 1985-09-27 1985-09-27 粒子の加工方法
US06/906,041 US4749595A (en) 1985-09-27 1986-09-11 Process for processing granules
IN809/DEL/86A IN167486B (ja) 1985-09-27 1986-09-12
BR8604489A BR8604489A (pt) 1985-09-27 1986-09-19 Processo para o tratamento de granulos
CN86106645A CN1008422B (zh) 1985-09-27 1986-09-26 颗粒的制备方法

Applications Claiming Priority (1)

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JP60215440A JPS6274443A (ja) 1985-09-27 1985-09-27 粒子の加工方法

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JPS6274443A JPS6274443A (ja) 1987-04-06
JPH0463729B2 true JPH0463729B2 (ja) 1992-10-12

Family

ID=16672382

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