JPH0459754A - アミド誘導体 - Google Patents
アミド誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は一般式
(式中、Rr、Rz及びR1は、水素原子、)10ゲン
原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ア
シルオキシ基、ヒドロキシアルキル基、低級アルコキシ
アルキル基又はアシルオキシアルキル基、R4は、水素
原子又は低級アルキル基であり、Aは−C−で表される
基、環状アルキレR& ン基、含素複素環基、環状アルキルアミノ基又は−N−
で表される基である。(R,及びR7は水素原子又は低
級アルキル基である)。R4又はR1は R4とメチレ
ン鎖で結合して環を形成してもよく、R3は、置換又は
無置換の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基であり、
Bは、置換又は無置換のメチレン鎖である。Qは1〜2
、!はO〜3、mは0〜8であり、Pは0〜2である。
原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ア
シルオキシ基、ヒドロキシアルキル基、低級アルコキシ
アルキル基又はアシルオキシアルキル基、R4は、水素
原子又は低級アルキル基であり、Aは−C−で表される
基、環状アルキレR& ン基、含素複素環基、環状アルキルアミノ基又は−N−
で表される基である。(R,及びR7は水素原子又は低
級アルキル基である)。R4又はR1は R4とメチレ
ン鎖で結合して環を形成してもよく、R3は、置換又は
無置換の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基であり、
Bは、置換又は無置換のメチレン鎖である。Qは1〜2
、!はO〜3、mは0〜8であり、Pは0〜2である。
)で表されるアミド誘導体に関する。
また本発明の前記−殺伐(I)で表されるアミド誘導体
は、5−リポキシゲナーゼ阻害作用を有するため、抗ア
レルギー剤として有用である。
は、5−リポキシゲナーゼ阻害作用を有するため、抗ア
レルギー剤として有用である。
(従来の技術)
アレルギー反応による疾患には気管支喘息、鼻炎、季節
性結膜炎、じんましん等がある。これら疾患は、ヒスタ
ミン、ロイコトリエン類、プロスタグランジン類、トロ
ンボキサン(TX)類、血小板活性化因子(PAF)等
の化学伝達物質が係っていることが知られ、これら各種
化学伝達物質に個々に作用する抗アレルギー剤が種々開
発されて来た。しかし、複雑に化学伝達物質が関係しあ
った結果もたらされる症状を治癒するには前記抗アレル
ギー剤ではしばしば困難であった。そのため複数の化学
伝達物質を同時に阻害する化合物を見出すべく種々研究
がなされ、いくつかのアミド化合物が見い出されるに至
った(特公昭63−55508号、63−55510号
参照)。
性結膜炎、じんましん等がある。これら疾患は、ヒスタ
ミン、ロイコトリエン類、プロスタグランジン類、トロ
ンボキサン(TX)類、血小板活性化因子(PAF)等
の化学伝達物質が係っていることが知られ、これら各種
化学伝達物質に個々に作用する抗アレルギー剤が種々開
発されて来た。しかし、複雑に化学伝達物質が関係しあ
った結果もたらされる症状を治癒するには前記抗アレル
ギー剤ではしばしば困難であった。そのため複数の化学
伝達物質を同時に阻害する化合物を見出すべく種々研究
がなされ、いくつかのアミド化合物が見い出されるに至
った(特公昭63−55508号、63−55510号
参照)。
(発明が解決しようとする問題点)
これらアミド化合物は5−リポキシゲナーゼ阻害作用に
よるロイコトリエン類の産生を抑制する作用及びヒスタ
ミン拮抗作用を有するものである。
よるロイコトリエン類の産生を抑制する作用及びヒスタ
ミン拮抗作用を有するものである。
しかしながら、ヒスタミン拮抗作用を有する薬剤は、い
ずれもねむけ、口の渇き、排尿障害等の副作用を有する
ことが知られている。
ずれもねむけ、口の渇き、排尿障害等の副作用を有する
ことが知られている。
そこでヒスタミン拮抗作用を除き、且つ複数の化学伝達
物質へ作用する新たな抗アレルギー剤が望まれている。
物質へ作用する新たな抗アレルギー剤が望まれている。
(問題点を解決するための手段)
本発明者等は、前記問題点を解決するため種々研究を行
い、5−リポキシゲナーゼ阻害作用を有し、さらにTX
A2合成酵素阻害作用(TχA2拮抗作用)及びヒスタ
ミンを遊離する肥満細胞の膜安定化作用の複数の作用を
持つ前記−殺伐(I)で表されるアミド誘導体を見い出
し本発明を完成した。
い、5−リポキシゲナーゼ阻害作用を有し、さらにTX
A2合成酵素阻害作用(TχA2拮抗作用)及びヒスタ
ミンを遊離する肥満細胞の膜安定化作用の複数の作用を
持つ前記−殺伐(I)で表されるアミド誘導体を見い出
し本発明を完成した。
前記−殺伐(1)で表されるアミド誘導体は、−殺伐
(式中、R+ 、Rz 、R3およびQは前記−殺伐(
1)と同じである。)で表されるカルボン酸誘導体と、
−殺伐 (式中、l、m、P、A、R4及びR3は、前記−殺伐
(I)と同じである。)で表されるアミン誘導体とを反
応させることにより製造することができる。
1)と同じである。)で表されるカルボン酸誘導体と、
−殺伐 (式中、l、m、P、A、R4及びR3は、前記−殺伐
(I)と同じである。)で表されるアミン誘導体とを反
応させることにより製造することができる。
前記−殺伐(IF)で表されるカルボン酸誘導体は、市
販のカルボン酸よりハロゲン化反応、アルキル化反応、
アシル化反応等を組み合わせた反応により常法により製
造することができる(以下参考側参照)。この製造の際
、必要に応じカルボキシル基を保護して反応を行うこと
もできる。
販のカルボン酸よりハロゲン化反応、アルキル化反応、
アシル化反応等を組み合わせた反応により常法により製
造することができる(以下参考側参照)。この製造の際
、必要に応じカルボキシル基を保護して反応を行うこと
もできる。
前記−殺伐(II)で表されるカルボン酸誘導体におい
て、R+、Rz及びR3は、水素原子、フッ素、塩素、
臭素及びヨウ素であるノλロゲン原子、水酸基、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基、アシルオキシ基、ヒドロ
キシアルキル基、低級アルコキシアルキル基又はアシル
オキシアルキル基である。低級アルキル基としては、炭
素数1〜6の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基である。
て、R+、Rz及びR3は、水素原子、フッ素、塩素、
臭素及びヨウ素であるノλロゲン原子、水酸基、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基、アシルオキシ基、ヒドロ
キシアルキル基、低級アルコキシアルキル基又はアシル
オキシアルキル基である。低級アルキル基としては、炭
素数1〜6の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基である。
このアルキル基として具体的にはメチル基、エチル基、
プロピル基、2−プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基等を挙げることができる。低級アルコキシ基
としては炭素数1〜6の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキ
シ基であり、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、2−プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオ
キシ基、ヘキシルオキシ基等を挙げることができる。ア
シルオキシ基としては炭素数2〜6のアシルオキシ基で
あり、具体的にはアセトキシ基、プロピオニルオキシ基
、ブチリルオキシ基等を挙げることができる。
プロピル基、2−プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基等を挙げることができる。低級アルコキシ基
としては炭素数1〜6の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキ
シ基であり、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、2−プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオ
キシ基、ヘキシルオキシ基等を挙げることができる。ア
シルオキシ基としては炭素数2〜6のアシルオキシ基で
あり、具体的にはアセトキシ基、プロピオニルオキシ基
、ブチリルオキシ基等を挙げることができる。
ヒドロキシアルキル基としては炭素数1〜6のヒドロキ
シアルキル基であり、具体的にはヒドロキシメチル基、
ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキ
シブチル基等を挙げることができる。低級アルコキシア
ルキル基としては、炭素数2〜8の低級アルコキシアル
キル基であり具体的にはメトキシメチル基、メトキシエ
チル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、メトキ
シプロピル基、プロポキシメチル基、メトキシブチル基
等を挙げることができる。アシルオキシアルキル基とし
ては炭素数3〜8のアシルオキシアルキル基であり具体
的には、アセトキシメチル基、アセトキシエチル基、プ
ロポキシメチル基、プロポキシエチル基等を挙げること
ができる。
シアルキル基であり、具体的にはヒドロキシメチル基、
ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキ
シブチル基等を挙げることができる。低級アルコキシア
ルキル基としては、炭素数2〜8の低級アルコキシアル
キル基であり具体的にはメトキシメチル基、メトキシエ
チル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、メトキ
シプロピル基、プロポキシメチル基、メトキシブチル基
等を挙げることができる。アシルオキシアルキル基とし
ては炭素数3〜8のアシルオキシアルキル基であり具体
的には、アセトキシメチル基、アセトキシエチル基、プ
ロポキシメチル基、プロポキシエチル基等を挙げること
ができる。
前記−殺伐(n)で表されるカルボン酸誘導体をより具
体的に例示すると、3.4−ジアセトキシケイ皮酸、3
−アセトキシケイ皮酸、4−アセトキシ−3−メトキシ
ケイ皮酸、4−アセトキシケイ皮酸、3−アセトキシ−
4−メトキシケイ皮酸、3.5−ジアセトキシケイ皮酸
、3,4.6− )ジアセトキシケイ皮酸、3−メトキ
シケイ皮酸、3.4−ジメトキシケイ皮酸、4−アセト
キシ−3,5−ジメトキシケイ皮酸、3−プロピオニル
オキシケイ皮酸、4−プロピオニルオキシケイ皮酸、3
.4−ジブロピオニルオキシケイ皮酸、4−アセトキシ
−3−エトキシケイ皮酸、3−アセトキシ−4−エトキ
シケイ皮酸、5−(4−アセトキシ−3−メトキシフェ
ニル)−2,4−ペンタジェン酸、5−(3−アセトキ
シフェニル) −2,4−ペンタジェン酸、5−(4−
アセトキシフェニル) −2,4−ペンタジェン酸、5
−(3−アセトキシ−4−メトキシフェニル)−2,4
−ペンタジェン酸、5−(3,5−ジアセトキシフェニ
ル)−2,4−ペンタジェン酸、5− (3,4,6−
トリアセトキシフェニル)−2,4−ペンタジェン酸、
5−(3−メトキシフェニル)−2,4−ペンタジェン
酸、5−(3゜4−ジメトキシフェニル)−2,4−ペ
ンタジェン酸、5−(4−アセトキシ−3,5−ジメト
キシフェニル)−2,4−ペンタジェン酸、5−(3−
プロピオニルオキシフェニル)−2,4−ペンタジェン
酸、5−(4−プロピオニルオキシフェニル)−2,4
−ペンタジェン酸、5−(3,4−ジプロピオニルオキ
シフェニル)−2,4−ペンタジェン酸、5−(4−ア
セトキシ−3−エトキシエチル基−2,4−ペンタジェ
ン酸、5−(3−アセトキシ−4−エトキシフェニル”
)−2,4−ペンタジェン酸等を挙げることができる。
体的に例示すると、3.4−ジアセトキシケイ皮酸、3
−アセトキシケイ皮酸、4−アセトキシ−3−メトキシ
ケイ皮酸、4−アセトキシケイ皮酸、3−アセトキシ−
4−メトキシケイ皮酸、3.5−ジアセトキシケイ皮酸
、3,4.6− )ジアセトキシケイ皮酸、3−メトキ
シケイ皮酸、3.4−ジメトキシケイ皮酸、4−アセト
キシ−3,5−ジメトキシケイ皮酸、3−プロピオニル
オキシケイ皮酸、4−プロピオニルオキシケイ皮酸、3
.4−ジブロピオニルオキシケイ皮酸、4−アセトキシ
−3−エトキシケイ皮酸、3−アセトキシ−4−エトキ
シケイ皮酸、5−(4−アセトキシ−3−メトキシフェ
ニル)−2,4−ペンタジェン酸、5−(3−アセトキ
シフェニル) −2,4−ペンタジェン酸、5−(4−
アセトキシフェニル) −2,4−ペンタジェン酸、5
−(3−アセトキシ−4−メトキシフェニル)−2,4
−ペンタジェン酸、5−(3,5−ジアセトキシフェニ
ル)−2,4−ペンタジェン酸、5− (3,4,6−
トリアセトキシフェニル)−2,4−ペンタジェン酸、
5−(3−メトキシフェニル)−2,4−ペンタジェン
酸、5−(3゜4−ジメトキシフェニル)−2,4−ペ
ンタジェン酸、5−(4−アセトキシ−3,5−ジメト
キシフェニル)−2,4−ペンタジェン酸、5−(3−
プロピオニルオキシフェニル)−2,4−ペンタジェン
酸、5−(4−プロピオニルオキシフェニル)−2,4
−ペンタジェン酸、5−(3,4−ジプロピオニルオキ
シフェニル)−2,4−ペンタジェン酸、5−(4−ア
セトキシ−3−エトキシエチル基−2,4−ペンタジェ
ン酸、5−(3−アセトキシ−4−エトキシフェニル”
)−2,4−ペンタジェン酸等を挙げることができる。
一方、前記−殺伐(III)で表されるアミン誘導体に
おいて、R4は水素原子又は低級アルキル基である。低
級アルキル基としては、炭素数1〜6の直鎖状又は分校
鎖状のアルキル基を表わすことができ具体的には、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、2−プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基等を挙げることができる。
おいて、R4は水素原子又は低級アルキル基である。低
級アルキル基としては、炭素数1〜6の直鎖状又は分校
鎖状のアルキル基を表わすことができ具体的には、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、2−プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基等を挙げることができる。
Aは、−CH−で表される基、環状アルキレンh
基、含窒素複素環基、環状アルキルアミノ基及び−N−
で表される基(R&及びR1は、水素原R? 子又は低級アルキル基)である。R6及びR?における
低級アルキル基は、炭素数1〜6の直鎖状又は分枝鎖状
のアルキル基を表すことができ、具体的には、メチル基
、エチル基、プロピル基、2−プロビル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基等を挙げることができる。また
、R4又はR?は、R4といっしょになりメチレン鎖を
介して結合して環を形成することができる。環状アルキ
レン基としては、具体的にはシクロプロピレン基、シク
ロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン
基等を挙げることができる。含窒素複素環基としては、
具体的には l−λ イミダプリジン−1,3−ジイル基(−11N−)\、
/ 等を挙げることができる。
で表される基(R&及びR1は、水素原R? 子又は低級アルキル基)である。R6及びR?における
低級アルキル基は、炭素数1〜6の直鎖状又は分枝鎖状
のアルキル基を表すことができ、具体的には、メチル基
、エチル基、プロピル基、2−プロビル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基等を挙げることができる。また
、R4又はR?は、R4といっしょになりメチレン鎖を
介して結合して環を形成することができる。環状アルキ
レン基としては、具体的にはシクロプロピレン基、シク
ロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン
基等を挙げることができる。含窒素複素環基としては、
具体的には l−λ イミダプリジン−1,3−ジイル基(−11N−)\、
/ 等を挙げることができる。
環状アルキルアミノ基としては、具体的にはがR4とメ
チレン鎖を介して形成した環の具体例としては、ピペラ
ジン−1,4−ジイル基る。
チレン鎖を介して形成した環の具体例としては、ピペラ
ジン−1,4−ジイル基る。
R3は、置換又は無置換の芳香族炭化水素基又は芳香族
複素環基を表す。ここで、芳香族炭化水素基及び芳香族
複素環基として、具体的には、フェニル基、ナフチル基
、フリル基、チエニル基、ピロリル基、オキサシリル基
、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基等を挙げ
ることができる。また芳香族炭化水素基又は芳香族複素
環基の置換基として具体的には、フ・ノ素、塩素、臭素
又はヨウ素であるハロゲン原子、低級アルキJし基、低
級アルコキシ基、低級アルコキシアルキル基、アシルオ
キシル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル
基、水酸基、アミノ基、イミダゾリル基、イミダゾリル
メチル基等を挙げることができる。低級アルキル基、低
級アルコキシ基、アシルオキシル基、低級アルコキシア
ルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、2−プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基等の炭素数1〜6の直鎖状又は分枝鎖状の低級ア
ルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、2
−プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキ
シルオキシ基等の炭素数1〜6の直鎖状又は分枝鎖状の
低級アルコキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ
基、ブチリルオキシ基等のアシルオキシ基、メトキシメ
チル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキ
シプロピル基、プロポキシメチル基等の低級アルコキシ
アルキル基を挙げることができる。また低級アルコキシ
カルボニル基として具体的には、メトキシカルボニル基
、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブ
トキシカルボニル基等を挙げることができる。
複素環基を表す。ここで、芳香族炭化水素基及び芳香族
複素環基として、具体的には、フェニル基、ナフチル基
、フリル基、チエニル基、ピロリル基、オキサシリル基
、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基等を挙げ
ることができる。また芳香族炭化水素基又は芳香族複素
環基の置換基として具体的には、フ・ノ素、塩素、臭素
又はヨウ素であるハロゲン原子、低級アルキJし基、低
級アルコキシ基、低級アルコキシアルキル基、アシルオ
キシル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル
基、水酸基、アミノ基、イミダゾリル基、イミダゾリル
メチル基等を挙げることができる。低級アルキル基、低
級アルコキシ基、アシルオキシル基、低級アルコキシア
ルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、2−プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基等の炭素数1〜6の直鎖状又は分枝鎖状の低級ア
ルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、2
−プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキ
シルオキシ基等の炭素数1〜6の直鎖状又は分枝鎖状の
低級アルコキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ
基、ブチリルオキシ基等のアシルオキシ基、メトキシメ
チル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキ
シプロピル基、プロポキシメチル基等の低級アルコキシ
アルキル基を挙げることができる。また低級アルコキシ
カルボニル基として具体的には、メトキシカルボニル基
、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブ
トキシカルボニル基等を挙げることができる。
Bは、置換又は無置換のメチレン鎖であり、こここで置
換基としてはR5と同じ置換又は無置換の芳香族炭化水
素基又は芳香族複素環基を表し、メチレン鎖としては、
炭素数1〜8のメチレン基を表しより具体的にはメチレ
ン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基
、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレ
ン基、オクタメチレン基、メチルエチレン基、エチルエ
チレン基等を挙げることができる。
換基としてはR5と同じ置換又は無置換の芳香族炭化水
素基又は芳香族複素環基を表し、メチレン鎖としては、
炭素数1〜8のメチレン基を表しより具体的にはメチレ
ン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基
、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレ
ン基、オクタメチレン基、メチルエチレン基、エチルエ
チレン基等を挙げることができる。
Pは、0〜2を表わし、Pが0のときはスルフィド誘導
体、Pが1のときはスルフィニル誘導体であり、Pが2
のときはスルホニル誘導体である。
体、Pが1のときはスルフィニル誘導体であり、Pが2
のときはスルホニル誘導体である。
前記−殺伐(III)で表されるアミン誘導体として具
体的には、2−(3−フルフリルメチルチオ)エタンア
ミン、2−(3−フルフリルメチルスルフィニル)エタ
ンアミン、2− (3−フルフリルメチルスルホニル)
エタンアミン、2−(2−フルフリルメチルチオ)エタ
ンアミン、2−(2フルフリルメチルスルフィニル)エ
タンアミン、2−(2−フルフリルメチルスルホニル)
エタンアミン、2− (2−チエニルメチルチオ)エタ
ンアミン、2−(ベンズヒドリルチオ)エタンアミン、
2−(4−クロロフェニルメチルチオ)エタンアミン、
2−(2−ピリジルメチルチオ)エタンアミン、2−(
ベンズヒドリルスルボニル)エタンアミン、2−(2−
ピリジル−フェニルメチルチオ)エタンアミン、2−
(4−(1−イミダゾリルメチル)フェニルメチルチオ
)エタンアミン、5−(2−チエニルメチルチオ)ペン
タンアミン、2−((4−メトキシフェニル−2−チエ
ニル)メチルチオ)エタンアミン、2− (4−(1−
イミダゾリル)フェニルメチルチオ)エタンアミン、3
−(2−チエニルメチルチオ)プロパンアミン、3−
(3−(2−チエニル)プロピルチオ)プロパンアミン
、3− (2−(2−チエニル)エチルチオ)プロパン
アミン、2− (2=(2−チエニル)エチルチオ)エ
タンアミン、4−(3−(2−チエニル)プロピルチオ
)ブタンアミン、4−(2−チエニルメチルチオ)ブタ
ンアミン、8−(’2−チエニルメチルチオ)オクタン
アミン、4−(2−(2−チエニル)エチルチオ)ブタ
ンアミン、2−(2−ピリジルチオ)エタンアミン、2
−(2−ピリミジルチオ)エタンアミン、2−(1−イ
ミダゾール−2−イルチオ)エタンアミン、1−(2−
アミノエチル)−4−(2−(2−チエニル)エチルチ
オ)ピペラジン、1−(2−アミノエチル)−4−ジフ
ェニルメチルチオピペリジン、N−(2−アミノエチル
)−N’ −(2−(2−チエニルメチルチオ)エチル
)ピペラジン、2−〔N−メチル−N’ −(2−(2
−チエニルメチルチオ)エチル)アミノコエタンアミン
、N−(2−アミノエチル)−N′(2−(ジフェニル
メチルチオ)エチル)ピペラジン、4−(2−アミノエ
チル)−1−(2−(ジフェニルメチルチオ)エチル)
ピペリジン、1−(2−アミノエチル)−4−(2−(
ジフェニルメチルチオ)エチル)ホモピペラジン、N−
(2−アミノエチル)−N’ −(2−(4−(1−イ
ミダゾリルメチル)フェニルメチルチオ)エチル)ピペ
ラジン、4〜(2−アミノエチル)−1=(2−(4−
(1−イミダゾリルメチル)フェニルメチルチオ)エチ
ル)ピペリジン、1−(2−アミノエチル)−4−(2
−(4−(1−イミダゾリルメチル)フェニルメチルチ
オ)エチル)ホモピペラジン、N−(2−(ジフェニル
メチルチオ)エチル)ピペラジン、4− (2−(ジフ
ェニルメチルチオ)エチル)ピペリジン、N−(2=(
ジフェニルメチルチオ)エチル)ホモピペリジン、N−
(2−(4−(1−イミダゾリルメチル)フェニルメチ
ルチオ)エチル)ピペラジン、4−(2−(4−(1−
イミダゾリルメチル)フェニルメチルチオ)エチル)ピ
ペリジン、N−(2−(4−(1−イミダゾリルメチル
)フェニルメチルチオ)エチル)ホモピペリジン、N−
(2−アミノエチル)−N’ −(2−(6−(1−イ
ミダゾリルメチル)ピリジン−2−イル−メチルチオ)
エチル)ピペラジン、4−(2−アミノエチル)−1−
(2−(6−(1−イミダゾリルメチル)ピリジン−2
−イル−メチルチオ)エチル)ピペリジン、1−(2−
アミノエチル)−4−(2−(6−(1−イミダゾリル
メチル)ピリジン−2−イル−メチルチオ)エチル)ホ
モピペラジン、N−(2−アミノエチル)−N’ −(
2−(2−ピリジル−フェニルメチルチオ)エチル)ピ
ペラジン、4−(2−アミノエチル)−1−(2−(2
−ピリジル−フェニルメチルチオ)エチル)ピペリジン
、1−(2−アミノエチル)−4−(2−(2−ピリジ
ル−フェニルメチルチオ)エチル)ホモピペリジン、N
−(2−(2−ピリジル−フェニルメチルチオ)エチル
)ピペラジン、4− (2−(2−ピリジル−フェニル
メチルチオ)エチル)ピペリジン、N−(2−(2−ピ
リジル−フェニルメチルチオ)エチル)ホモピペリジン
、N−(2−アミノエチル)−N’ −(2−(4−(
l−イミダゾリル)フェニルメチルチオ)エチル)ピペ
ラジン、4−(2−アミノエチル)−1−(2−(4−
(1−イミダゾリル)フェニルメチルチオ)エチル)ピ
ペリジン、1−(2−アミノエチル)−4−(2−(4
−(1−イミダゾリル)フェニルメチルチオ)エチル)
ホモピペラジン、N−(2−アミノエチル)−N’ −
(2−(3ピリジルフエニルメチルチオ)エチル)ピペ
ラジン、4−(2−アミノエチル)−1−(2−(3ピ
リジルフエニルメチルチオ)エチル)ピペリジン、■−
(2−アミノエチル”)−4−(2−(3ピリジルフエ
ニルメチルチオ)エチル)ホモピペラジン、N−(2−
アミノエチル) −N’ −(2(4−(4−クロロフ
ェニル)フェニルメチルチオ)エチル)ピペラジン、4
−(2−アミノエチル)−1−(2−(4−(4−クロ
ロフェニル)フェニルメチルチオ)エチル)ピペリジン
、1−(2−アミノエチル)−4−(2−(4−(4ク
ロロフエニル)フェニルメチルチオ)エチル)ホモピペ
ラジン、N−(2−アミノエチル)−N゛−<2− (
ジー(4−クロロフェニル)メチルチオ)エチル)ピペ
ラジン、4− (2−アミノエチル)−1−(2−(ジ
ー (4−クロロフェニル)メチルチオ)エチル)ピペ
リジン、4−(2−アミノエチル)−1−(2−(ジー
(4−クロロフェニル)メチルチオ)エチル)ホモピペ
ラジン等を挙げることができる。 前記−殺伐(II)
で表されるカルボン酸誘導体と前記−殺伐(II[)で
表されるアミン誘導体との反応は、縮合剤の存在下に行
なうことが好ましくペプチド合成で多用されている縮合
剤、例えばN、 N’−ジシクロへキシルカルボジイミ
ド(DCC)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノ
プロピル)カルボジイミド塩酸塩(WSC)等のカルボ
ジイミド試薬を使用することができる。
体的には、2−(3−フルフリルメチルチオ)エタンア
ミン、2−(3−フルフリルメチルスルフィニル)エタ
ンアミン、2− (3−フルフリルメチルスルホニル)
エタンアミン、2−(2−フルフリルメチルチオ)エタ
ンアミン、2−(2フルフリルメチルスルフィニル)エ
タンアミン、2−(2−フルフリルメチルスルホニル)
エタンアミン、2− (2−チエニルメチルチオ)エタ
ンアミン、2−(ベンズヒドリルチオ)エタンアミン、
2−(4−クロロフェニルメチルチオ)エタンアミン、
2−(2−ピリジルメチルチオ)エタンアミン、2−(
ベンズヒドリルスルボニル)エタンアミン、2−(2−
ピリジル−フェニルメチルチオ)エタンアミン、2−
(4−(1−イミダゾリルメチル)フェニルメチルチオ
)エタンアミン、5−(2−チエニルメチルチオ)ペン
タンアミン、2−((4−メトキシフェニル−2−チエ
ニル)メチルチオ)エタンアミン、2− (4−(1−
イミダゾリル)フェニルメチルチオ)エタンアミン、3
−(2−チエニルメチルチオ)プロパンアミン、3−
(3−(2−チエニル)プロピルチオ)プロパンアミン
、3− (2−(2−チエニル)エチルチオ)プロパン
アミン、2− (2=(2−チエニル)エチルチオ)エ
タンアミン、4−(3−(2−チエニル)プロピルチオ
)ブタンアミン、4−(2−チエニルメチルチオ)ブタ
ンアミン、8−(’2−チエニルメチルチオ)オクタン
アミン、4−(2−(2−チエニル)エチルチオ)ブタ
ンアミン、2−(2−ピリジルチオ)エタンアミン、2
−(2−ピリミジルチオ)エタンアミン、2−(1−イ
ミダゾール−2−イルチオ)エタンアミン、1−(2−
アミノエチル)−4−(2−(2−チエニル)エチルチ
オ)ピペラジン、1−(2−アミノエチル)−4−ジフ
ェニルメチルチオピペリジン、N−(2−アミノエチル
)−N’ −(2−(2−チエニルメチルチオ)エチル
)ピペラジン、2−〔N−メチル−N’ −(2−(2
−チエニルメチルチオ)エチル)アミノコエタンアミン
、N−(2−アミノエチル)−N′(2−(ジフェニル
メチルチオ)エチル)ピペラジン、4−(2−アミノエ
チル)−1−(2−(ジフェニルメチルチオ)エチル)
ピペリジン、1−(2−アミノエチル)−4−(2−(
ジフェニルメチルチオ)エチル)ホモピペラジン、N−
(2−アミノエチル)−N’ −(2−(4−(1−イ
ミダゾリルメチル)フェニルメチルチオ)エチル)ピペ
ラジン、4〜(2−アミノエチル)−1=(2−(4−
(1−イミダゾリルメチル)フェニルメチルチオ)エチ
ル)ピペリジン、1−(2−アミノエチル)−4−(2
−(4−(1−イミダゾリルメチル)フェニルメチルチ
オ)エチル)ホモピペラジン、N−(2−(ジフェニル
メチルチオ)エチル)ピペラジン、4− (2−(ジフ
ェニルメチルチオ)エチル)ピペリジン、N−(2=(
ジフェニルメチルチオ)エチル)ホモピペリジン、N−
(2−(4−(1−イミダゾリルメチル)フェニルメチ
ルチオ)エチル)ピペラジン、4−(2−(4−(1−
イミダゾリルメチル)フェニルメチルチオ)エチル)ピ
ペリジン、N−(2−(4−(1−イミダゾリルメチル
)フェニルメチルチオ)エチル)ホモピペリジン、N−
(2−アミノエチル)−N’ −(2−(6−(1−イ
ミダゾリルメチル)ピリジン−2−イル−メチルチオ)
エチル)ピペラジン、4−(2−アミノエチル)−1−
(2−(6−(1−イミダゾリルメチル)ピリジン−2
−イル−メチルチオ)エチル)ピペリジン、1−(2−
アミノエチル)−4−(2−(6−(1−イミダゾリル
メチル)ピリジン−2−イル−メチルチオ)エチル)ホ
モピペラジン、N−(2−アミノエチル)−N’ −(
2−(2−ピリジル−フェニルメチルチオ)エチル)ピ
ペラジン、4−(2−アミノエチル)−1−(2−(2
−ピリジル−フェニルメチルチオ)エチル)ピペリジン
、1−(2−アミノエチル)−4−(2−(2−ピリジ
ル−フェニルメチルチオ)エチル)ホモピペリジン、N
−(2−(2−ピリジル−フェニルメチルチオ)エチル
)ピペラジン、4− (2−(2−ピリジル−フェニル
メチルチオ)エチル)ピペリジン、N−(2−(2−ピ
リジル−フェニルメチルチオ)エチル)ホモピペリジン
、N−(2−アミノエチル)−N’ −(2−(4−(
l−イミダゾリル)フェニルメチルチオ)エチル)ピペ
ラジン、4−(2−アミノエチル)−1−(2−(4−
(1−イミダゾリル)フェニルメチルチオ)エチル)ピ
ペリジン、1−(2−アミノエチル)−4−(2−(4
−(1−イミダゾリル)フェニルメチルチオ)エチル)
ホモピペラジン、N−(2−アミノエチル)−N’ −
(2−(3ピリジルフエニルメチルチオ)エチル)ピペ
ラジン、4−(2−アミノエチル)−1−(2−(3ピ
リジルフエニルメチルチオ)エチル)ピペリジン、■−
(2−アミノエチル”)−4−(2−(3ピリジルフエ
ニルメチルチオ)エチル)ホモピペラジン、N−(2−
アミノエチル) −N’ −(2(4−(4−クロロフ
ェニル)フェニルメチルチオ)エチル)ピペラジン、4
−(2−アミノエチル)−1−(2−(4−(4−クロ
ロフェニル)フェニルメチルチオ)エチル)ピペリジン
、1−(2−アミノエチル)−4−(2−(4−(4ク
ロロフエニル)フェニルメチルチオ)エチル)ホモピペ
ラジン、N−(2−アミノエチル)−N゛−<2− (
ジー(4−クロロフェニル)メチルチオ)エチル)ピペ
ラジン、4− (2−アミノエチル)−1−(2−(ジ
ー (4−クロロフェニル)メチルチオ)エチル)ピペ
リジン、4−(2−アミノエチル)−1−(2−(ジー
(4−クロロフェニル)メチルチオ)エチル)ホモピペ
ラジン等を挙げることができる。 前記−殺伐(II)
で表されるカルボン酸誘導体と前記−殺伐(II[)で
表されるアミン誘導体との反応は、縮合剤の存在下に行
なうことが好ましくペプチド合成で多用されている縮合
剤、例えばN、 N’−ジシクロへキシルカルボジイミ
ド(DCC)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノ
プロピル)カルボジイミド塩酸塩(WSC)等のカルボ
ジイミド試薬を使用することができる。
前記−殺伐(n)で表されるカルボン酸誘導体に対する
前記−殺伐(III)で表されるアミン誘導体の使用量
は、一般に一般式(n)で表されるカルボン酸誘導体1
モル当り、−殺伐(I[[)で表されるアミン誘導体を
等モル程度用いることができる。
前記−殺伐(III)で表されるアミン誘導体の使用量
は、一般に一般式(n)で表されるカルボン酸誘導体1
モル当り、−殺伐(I[[)で表されるアミン誘導体を
等モル程度用いることができる。
反応は溶媒中行なうことが望ましく例えばジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)
、ジメトキシエタン(DME)、ジオキサン等のエーテ
ル類、ジメチルホルムアミド(DMF)のアミド類等を
単独又は混合して使用することができる。
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)
、ジメトキシエタン(DME)、ジオキサン等のエーテ
ル類、ジメチルホルムアミド(DMF)のアミド類等を
単独又は混合して使用することができる。
反応は、0°C〜150°Cで進行するが、10〜10
0 ’Cで行なうことが効率よく反応が進行する点で好
ましい。
0 ’Cで行なうことが効率よく反応が進行する点で好
ましい。
また、上記反応には、N、N−ジメチルアミノピリジン
等を触媒として使用することもできる。
等を触媒として使用することもできる。
前記−殺伐(1)で表されるアミド誘導体を製造するに
あたり、前記−殺伐(II)で表されるカルボン酸誘導
体は、例えば活性エステル誘導体、酸クロライド誘導体
等に変換したのち、前記−殺伐(III)で表わされる
アミン誘導体との反応を不活性溶媒中で製造することも
できる。
あたり、前記−殺伐(II)で表されるカルボン酸誘導
体は、例えば活性エステル誘導体、酸クロライド誘導体
等に変換したのち、前記−殺伐(III)で表わされる
アミン誘導体との反応を不活性溶媒中で製造することも
できる。
活性エステル誘導体は、常法に従い製造することができ
、例えば前記−殺伐(II)で表わされるカルボン酸と
アルコール具体的にはN−ヒドロキシコハク酸イミド、
N−ヒドロキシフタル酸イミド、2−二トロフェノール
、4−ニトロフェノール、2,4−ジニトロフェノール
等とをカルボジイミド試薬の存在下、不活性溶媒中で行
なう方法により製造することができる。
、例えば前記−殺伐(II)で表わされるカルボン酸と
アルコール具体的にはN−ヒドロキシコハク酸イミド、
N−ヒドロキシフタル酸イミド、2−二トロフェノール
、4−ニトロフェノール、2,4−ジニトロフェノール
等とをカルボジイミド試薬の存在下、不活性溶媒中で行
なう方法により製造することができる。
また、酸クロライド誘導体としては、例えばカルボン酸
クロライド、カルボン酸ブロマイド等を挙げることがで
きる。酸クロライドは、常法に従い例えば塩基の存在下
、前記−殺伐(n)で表されるカルボン酸誘導体より不
活性溶媒中塩化チオニル、臭化チオニル、五塩化リン等
のハロゲン化剤との反応により製造することができる。
クロライド、カルボン酸ブロマイド等を挙げることがで
きる。酸クロライドは、常法に従い例えば塩基の存在下
、前記−殺伐(n)で表されるカルボン酸誘導体より不
活性溶媒中塩化チオニル、臭化チオニル、五塩化リン等
のハロゲン化剤との反応により製造することができる。
また、本工程を実施するための一方の出発原料である前
記−殺伐(II)で表わされるアミン誘導体は、公知の
方法を組合せ、例えば以下に示す式1〜2の方法に従い
製造することができる。
記−殺伐(II)で表わされるアミン誘導体は、公知の
方法を組合せ、例えば以下に示す式1〜2の方法に従い
製造することができる。
(式中、Rs、B、1.m、P及びx、は前記と同U
(0)。
H2N−(CH,)、−A−(CH2)、−5−B−R
5、(I[)(式中、R,、B、 j!、 m及びPは
前記と同じであり、xlはハロゲン原子である。) υ (0) P HJ−(CHz) *−A−(CHz) −5−B−R
s (In )である。) さらに−殺伐(I[I)で表されるアミン誘導体におい
て、Aがメチレン基で表される誘導体番まチオール化合
物より特開昭63−297373号に開示された方法に
従い製造することができる。
5、(I[)(式中、R,、B、 j!、 m及びPは
前記と同じであり、xlはハロゲン原子である。) υ (0) P HJ−(CHz) *−A−(CHz) −5−B−R
s (In )である。) さらに−殺伐(I[I)で表されるアミン誘導体におい
て、Aがメチレン基で表される誘導体番まチオール化合
物より特開昭63−297373号に開示された方法に
従い製造することができる。
前記−殺伐(I)で表されるアミド誘導番よ、具体的に
例示する、前記−殺伐(II)で表されるカルボン酸誘
導体と前記−殺伐(I[)で表されるアミン誘導体を縮
合して得られるアミド誘導体を挙げることができる。
例示する、前記−殺伐(II)で表されるカルボン酸誘
導体と前記−殺伐(I[)で表されるアミン誘導体を縮
合して得られるアミド誘導体を挙げることができる。
また製造された前記−殺伐(I)で表されるアミド誘導
体においてR1及びR8が水酸基で表わされる誘導体は
、原料化合物である前記−殺伐(n)で表されるカルボ
ン酸誘導体におし1てR。
体においてR1及びR8が水酸基で表わされる誘導体は
、原料化合物である前記−殺伐(n)で表されるカルボ
ン酸誘導体におし1てR。
及びRxがアセトキシ基である誘導体を用J、z、前記
−殺伐(1)で表されるアミド誘導体を製造した後、加
水分解して製造することもできる。加水分解反応は、常
法に従い、塩基例えば、炭酸力IJウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等を用い不
活性溶媒中で行うことができる。
−殺伐(1)で表されるアミド誘導体を製造した後、加
水分解して製造することもできる。加水分解反応は、常
法に従い、塩基例えば、炭酸力IJウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等を用い不
活性溶媒中で行うことができる。
さらに製造された前記−殺伐(1)で表されるアミド誘
導体のうちアミノ基を有する化合物については、通常の
方法に従い薬学的に許容される酸との反応により対応す
る酸付加塩に変えることもできる。酸としては無機酸、
例えば塩化水素酸、臭化水素酸、リン酸、硫酸、硝酸等
、有機酸、例えば酢酸プロピオン酸、乳酸、クエン酸等
を使用することができる。
導体のうちアミノ基を有する化合物については、通常の
方法に従い薬学的に許容される酸との反応により対応す
る酸付加塩に変えることもできる。酸としては無機酸、
例えば塩化水素酸、臭化水素酸、リン酸、硫酸、硝酸等
、有機酸、例えば酢酸プロピオン酸、乳酸、クエン酸等
を使用することができる。
本発明の前記−殺伐(1)で表されるアミド誘導体を抗
アレルギー剤として用いる場合には、経口以外にも静脈
内、皮下、筋肉内または吸入により投与することができ
る。そのため、これらの化合物は、種々の投与形態、例
えば錠剤、カプセル、液体または生薬等の形で使用する
ことができる。
アレルギー剤として用いる場合には、経口以外にも静脈
内、皮下、筋肉内または吸入により投与することができ
る。そのため、これらの化合物は、種々の投与形態、例
えば錠剤、カプセル、液体または生薬等の形で使用する
ことができる。
(実施例)
以下、実施例、参考例及び試験例により本発明を更に詳
細に説明する。
細に説明する。
1考拠土 3.4−ジアセトキシケイ皮酸の合成3.4
−ジヒドロキシケイ皮酸1g(5,6蒙1lon)、無
水酢酸1−4 g (13,9mmof)をピリジン3
0m1に溶解し、室温にて一夜攪拌した。反応終了後、
溶媒を減圧下除いた。残渣を酢酸エチル100I11!
に溶かし、飽和硫酸水素カリウム溶液50−2、飽和食
塩水50mj!で2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥させ、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィー(溶出液5%メタノール−ジクロロメタン)で
精製し、1.3gの標記化合物を得た(収率88%)。
−ジヒドロキシケイ皮酸1g(5,6蒙1lon)、無
水酢酸1−4 g (13,9mmof)をピリジン3
0m1に溶解し、室温にて一夜攪拌した。反応終了後、
溶媒を減圧下除いた。残渣を酢酸エチル100I11!
に溶かし、飽和硫酸水素カリウム溶液50−2、飽和食
塩水50mj!で2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥させ、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィー(溶出液5%メタノール−ジクロロメタン)で
精製し、1.3gの標記化合物を得た(収率88%)。
(δ、CD(/!s) ; 2.31(3H,s) 2
.32(38,s) 6.40(18゜d、J=15H
z) 7.25(IH,d、J=7Hz) 7.39(
1B。
.32(38,s) 6.40(18゜d、J=15H
z) 7.25(IH,d、J=7Hz) 7.39(
1B。
d、J= 2Hz)7.44(IH,dd、J=7Hz
、2Hz) 7.72(IH,d、J=15Hz) 1考12−二旦 カルボン酸誘導体の合成水酸基を有す
るカルボン酸誘導体を参考例1と同様にアセチル化する
ことによりアセチル体を得た。
、2Hz) 7.72(IH,d、J=15Hz) 1考12−二旦 カルボン酸誘導体の合成水酸基を有す
るカルボン酸誘導体を参考例1と同様にアセチル化する
ことによりアセチル体を得た。
結果を表−1に示す。
薬考■ユN −(2−(2−ベンズオキサゾリルチオ)
エチル)フタルイミドの合成 mp : 133.5−134.2℃1考拠■ 2−
(2−チエニルメチルチオ)エタンアミンの合成 υ N−(2−ブロモエチル)フタルイミド42.02g
(0,1655on)と2−メルカブトペンズオキサソ
゛−ル25. Og (0,165ypoll )とア
セトニトリJし700ml1に溶解し、無水炭酸カリウ
ム22.85 g(0,1651loi、 )を加えて
2時間半加熱還流した。
エチル)フタルイミドの合成 mp : 133.5−134.2℃1考拠■ 2−
(2−チエニルメチルチオ)エタンアミンの合成 υ N−(2−ブロモエチル)フタルイミド42.02g
(0,1655on)と2−メルカブトペンズオキサソ
゛−ル25. Og (0,165ypoll )とア
セトニトリJし700ml1に溶解し、無水炭酸カリウ
ム22.85 g(0,1651loi、 )を加えて
2時間半加熱還流した。
反応後冷却沈殿を炉遇し、溶媒を減圧下除いた。
残渣にベンゼン、水を加え、抽出、ベンゼン層をIN−
水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を留去した。エタノール
から再結晶して上記化合物45.36 gを得た(収率
85%)。
水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を留去した。エタノール
から再結晶して上記化合物45.36 gを得た(収率
85%)。
2−チオフェンメタノール2g(17,5mm+ofン
をジメチルホルムアミド15mlに溶解し、水冷下、窒
素気流下60%水素化ナトリウム800■(20s+n
ojりを加え攪拌した。水素の発生が終了した後DMF
30mfに溶かした参考例7で製造したN−(2−(2
−ベンズオキサゾリルチオ)エチル)フタルイミド6.
5gの溶液を滴下し、水冷下3時間、室温で60時間攪
拌した。反応終了後氷水にあけ、ベンゼンで抽出、ベン
ゼン層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製しN−(2−(2−チエニルメチ
ルチオ)エチルフタルイミドを得た3、2g(収率60
%)。
をジメチルホルムアミド15mlに溶解し、水冷下、窒
素気流下60%水素化ナトリウム800■(20s+n
ojりを加え攪拌した。水素の発生が終了した後DMF
30mfに溶かした参考例7で製造したN−(2−(2
−ベンズオキサゾリルチオ)エチル)フタルイミド6.
5gの溶液を滴下し、水冷下3時間、室温で60時間攪
拌した。反応終了後氷水にあけ、ベンゼンで抽出、ベン
ゼン層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製しN−(2−(2−チエニルメチ
ルチオ)エチルフタルイミドを得た3、2g(収率60
%)。
次いでフタルイミド化合物2 g (6,6mmof
)をメタノール30m1にとかし、ヒドラジン水和物6
08■(8蒙■of)を加えて1時間半加熱還流した。
)をメタノール30m1にとかし、ヒドラジン水和物6
08■(8蒙■of)を加えて1時間半加熱還流した。
冷却後、生した沈殿を炉遇し、沈殿をエーテルで洗い、
炉液と洗液を合せた。溶媒を留去し残渣にエーテルを加
えて沈殿を生じなくなるまで操作を繰り返し、上記2−
(2−チエニルメチルチオ)エタンアミンを得た。収率
1.03g(収率90%)。
炉液と洗液を合せた。溶媒を留去し残渣にエーテルを加
えて沈殿を生じなくなるまで操作を繰り返し、上記2−
(2−チエニルメチルチオ)エタンアミンを得た。収率
1.03g(収率90%)。
NMR(δ、CDCj! s) ; 1.92(2H,
s)、 2.63(21,t、J=6Hz)。
s)、 2.63(21,t、J=6Hz)。
2.87(28,t、J=6Hz)、 3.94(2
H,s)、 6.90〜6.94(2H,m、)、
7.22(IH,dd、J=5Hz、2)1x)11
1例Jゴニλ擾−アミン誘導体の合成各アルコール体よ
り参考例8と同様に処理することによりアミン誘導体を
得た。結果を表−2に示す。
H,s)、 6.90〜6.94(2H,m、)、
7.22(IH,dd、J=5Hz、2)1x)11
1例Jゴニλ擾−アミン誘導体の合成各アルコール体よ
り参考例8と同様に処理することによりアミン誘導体を
得た。結果を表−2に示す。
寺!2
ミンの合成
(2−ピリジルチオ)エタンア
2−ピリジンチオール994mg(8,5mmol )
とN−(2−ブロモエチル)フタルイミド1.02g
(9,0mmof)をアセトニトリル20mfに溶解し
無水炭酸カリウム1.25 g (9,On+moI!
、)を加えて5時間加熱還流した。反応終了後、沈殿を
決過し、溶媒を減圧上留去し、残渣に酢酸エチル、水を
加え抽出した。さらに酢酸エチル層を水、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理し、
N−(2−(2−ピリジルチオ)エチル)フタルイミド
2gを得た(収率85%)。
とN−(2−ブロモエチル)フタルイミド1.02g
(9,0mmof)をアセトニトリル20mfに溶解し
無水炭酸カリウム1.25 g (9,On+moI!
、)を加えて5時間加熱還流した。反応終了後、沈殿を
決過し、溶媒を減圧上留去し、残渣に酢酸エチル、水を
加え抽出した。さらに酢酸エチル層を水、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理し、
N−(2−(2−ピリジルチオ)エチル)フタルイミド
2gを得た(収率85%)。
次いで、フタルイミド化合物を実施例8と同様に処理し
、上記2−(2−ピリジルチオ)エタンアミンを得た(
収率50%)。
、上記2−(2−ピリジルチオ)エタンアミンを得た(
収率50%)。
NMR(δ、CDCf! 3) ; 1.69(2H,
br−s)、2.95〜3.02(28,m)3.29
(2H,t、J=5Hz)、 6.96〜7.0O(I
H,m)。
br−s)、2.95〜3.02(28,m)3.29
(2H,t、J=5Hz)、 6.96〜7.0O(I
H,m)。
7.18(IH,d、J=IHz)、 7.44〜7.
50(LH,m)。
50(LH,m)。
8.41(18,d、J=IHz)
参考孤l工 2−(2−ピリミジルチオ)−エタンアミ
ンの合成 参考例26に従い2−ピリミジルチオールより上記2−
(2−ピリミジルチオ)エタンアミンを得た。
ンの合成 参考例26に従い2−ピリミジルチオールより上記2−
(2−ピリミジルチオ)エタンアミンを得た。
NMR(δ、CDCj!3) ; 1.84(s、2H
)、 3.05(t、2H,J=6Hz)。
)、 3.05(t、2H,J=6Hz)。
3.27(t、2H,J=6Hz)、 6.96〜7
.00(m、LH)7.44〜7.48(m IH)
、8.48〜8.52(m 2H)1考炎1主 2−
(1−メチルイミダゾール−2イルチオ)エタンアミ
ンの合成 CI(3 CH。
.00(m、LH)7.44〜7.48(m IH)
、8.48〜8.52(m 2H)1考炎1主 2−
(1−メチルイミダゾール−2イルチオ)エタンアミ
ンの合成 CI(3 CH。
参考例26に従い1−メチルイミダゾール−2−イミダ
ゾールより上記2−(1−メチルイミダゾール−2−イ
ルチオ)エタンアミンを得た。
ゾールより上記2−(1−メチルイミダゾール−2−イ
ルチオ)エタンアミンを得た。
NMR(δ、CDIJ 3) ; 1.83(s、2H
)、 2.98(t、28.J=6Hz)。
)、 2.98(t、28.J=6Hz)。
3.14(t、28.J=6Hz)、 3.63(d、
3H,J=3Hz)6.92(s、IH)、 7.04
(s、LH)■主炎l豆 1−(2−アミノエチル)−
4(2−(2−チエニル)エチルチオ)ヒペリジンの合
成 2− (2−チエニル)エチルチオール(1.3 9
mmof)ジメチルホルムアミドに溶解し、水冷下、
窒素気流下60%水素下ナトリウム62■(1.53.
mmol2)を加えた。水素の発生が終了した後ジメチ
ルホルムレアミドに溶解したN−アセチル−4−メタン
スlレホニlレオキシピペリジン262■(1.3 9
mmoffi)の溶液を滴下し、室温にて5時間攪拌
した。反応終了後、溶媒を減圧上瞼いた。残渣を酢酸エ
チルで抽出、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥させ、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィーで精製し、N−アセチル−4−(2−
(2−チエニル)エチルチオ)ピペリジン230■を得
た(収率60%)。
3H,J=3Hz)6.92(s、IH)、 7.04
(s、LH)■主炎l豆 1−(2−アミノエチル)−
4(2−(2−チエニル)エチルチオ)ヒペリジンの合
成 2− (2−チエニル)エチルチオール(1.3 9
mmof)ジメチルホルムアミドに溶解し、水冷下、
窒素気流下60%水素下ナトリウム62■(1.53.
mmol2)を加えた。水素の発生が終了した後ジメチ
ルホルムレアミドに溶解したN−アセチル−4−メタン
スlレホニlレオキシピペリジン262■(1.3 9
mmoffi)の溶液を滴下し、室温にて5時間攪拌
した。反応終了後、溶媒を減圧上瞼いた。残渣を酢酸エ
チルで抽出、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥させ、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィーで精製し、N−アセチル−4−(2−
(2−チエニル)エチルチオ)ピペリジン230■を得
た(収率60%)。
次いでN−アセチル−4−(2−(2−チエニル)エチ
ルチオ)ピペリジン200■(0,81mmoiりをメ
タノール10mlに溶解し、水10mf!に溶解した水
酸化ナトリウム40■(1,00IIllIlOR)の
溶液を加え、10時間加熱還流した。反応終了後、溶媒
を減圧上瞼いた。残渣をクロロホルムで抽出、水、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒
を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精
製し、4− (2−(2−チエニル)エチルチオ)ピペ
リジン180■を得た(収率98%)。
ルチオ)ピペリジン200■(0,81mmoiりをメ
タノール10mlに溶解し、水10mf!に溶解した水
酸化ナトリウム40■(1,00IIllIlOR)の
溶液を加え、10時間加熱還流した。反応終了後、溶媒
を減圧上瞼いた。残渣をクロロホルムで抽出、水、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒
を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精
製し、4− (2−(2−チエニル)エチルチオ)ピペ
リジン180■を得た(収率98%)。
さらに4− (2−(2−チエニル)エチルチオ)ピペ
リジン180■(0,8mmol 、N −(2−フロ
モエチル)フタルイミド262■(1,4mmof)を
メチルエチルケトン 無水炭酸カリウム2 2 0mg (1. 6 mmo
f ) 、ヨウ化ナトリウム226■(1.5mmof
)を加え、8時間加熱還流した。反応終了後、溶媒を減
圧上瞼いた。残渣をクロロホルムで抽出、水、飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を留
去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し
、N−[ 2’−[ 4− (2− (2−チエニル)
エチルチオピペリジン]エチル]フタルイミド200■
を得た(収率63%)。
リジン180■(0,8mmol 、N −(2−フロ
モエチル)フタルイミド262■(1,4mmof)を
メチルエチルケトン 無水炭酸カリウム2 2 0mg (1. 6 mmo
f ) 、ヨウ化ナトリウム226■(1.5mmof
)を加え、8時間加熱還流した。反応終了後、溶媒を減
圧上瞼いた。残渣をクロロホルムで抽出、水、飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を留
去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し
、N−[ 2’−[ 4− (2− (2−チエニル)
エチルチオピペリジン]エチル]フタルイミド200■
を得た(収率63%)。
またさらに、得られた上記フタルイミド体を参考例8と
同様にヒドラジン水和物により処理し上記の1−(2−
アミノエチル) −4− (2− (2−チエニル)エ
チルチオ)ピペリジンを得た(収率72%)。
同様にヒドラジン水和物により処理し上記の1−(2−
アミノエチル) −4− (2− (2−チエニル)エ
チルチオ)ピペリジンを得た(収率72%)。
NMR (δ,CDCf 3) i 1.55〜1.7
0(4H.m)、 1.92〜2.10(4H,m)、
2.40〜2.42(28,t,J=6Hz)。
0(4H.m)、 1.92〜2.10(4H,m)、
2.40〜2.42(28,t,J=6Hz)。
2、61〜2.68(IH,s+)、 2.76〜2.
86(6H,+n)。
86(6H,+n)。
3、07〜3.12(2H,m)、 6.84〜6.8
5(IH,m)。
5(IH,m)。
6、92〜6.95(IH,m)、 7.15(II
,dd,J=61(z。
,dd,J=61(z。
3Hz)
1考±主立 1− (2−アミノエチル)−4−ジフェ
ニルメチルチオピペリジンの合成 参考例29に従いベンズヒドリルチオールより上記1−
(2−アミノエチル)−4−ジフェニルメチルチオピペ
リジンを得た。
ニルメチルチオピペリジンの合成 参考例29に従いベンズヒドリルチオールより上記1−
(2−アミノエチル)−4−ジフェニルメチルチオピペ
リジンを得た。
NMR (δ,CDCj! a) ; 1.57〜1.
70(4H,m)、 1.84〜1.90(2H.+s
)、 1.95〜2.02(21,++)、 2.34
(2H。
70(4H,m)、 1.84〜1.90(2H.+s
)、 1.95〜2.02(21,++)、 2.34
(2H。
t,J=6Hz>、 2.44〜2.51(IH,m)
、 2.72〜2、80(2H,m)、 5.22(1
1,s)、 7.19〜7.33(6)1v+)、 7
.41〜7.44(4H,m)会A1しI N−(2
−アミノエチル)−N′(2−(2−チエニルメチルチ
オ)エチル)ピペラジンの合成 2− (2−チエニルメチルチオ)エタノール9 2
5mg (6.3 mmoIl)、トリエチルアミン
765mg (7. 6 mmol! )を酢酸エチル
20mlに溶解し、水冷下、酢酸エチル10mj2に溶
解したメタンスルホニルクロリド800mg (7,0
mmoff)溶液を滴下し、室温で1時間攪拌した。反
応終了後、不溶物を濾過した。炉液にホルミルピペラジ
ン2.15(19,0mmoff)を加え、7時間加熱
還流した。
、 2.72〜2、80(2H,m)、 5.22(1
1,s)、 7.19〜7.33(6)1v+)、 7
.41〜7.44(4H,m)会A1しI N−(2
−アミノエチル)−N′(2−(2−チエニルメチルチ
オ)エチル)ピペラジンの合成 2− (2−チエニルメチルチオ)エタノール9 2
5mg (6.3 mmoIl)、トリエチルアミン
765mg (7. 6 mmol! )を酢酸エチル
20mlに溶解し、水冷下、酢酸エチル10mj2に溶
解したメタンスルホニルクロリド800mg (7,0
mmoff)溶液を滴下し、室温で1時間攪拌した。反
応終了後、不溶物を濾過した。炉液にホルミルピペラジ
ン2.15(19,0mmoff)を加え、7時間加熱
還流した。
反応終了後、酢酸エチルで抽出、水、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を留去した。
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を留去した。
残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、N−ホ
ルミル−N’ (2−(2−チエニルメチルチオ)エ
チル)ピペラジン1.27 gを得た(収率75%)。
ルミル−N’ (2−(2−チエニルメチルチオ)エ
チル)ピペラジン1.27 gを得た(収率75%)。
次いでN−ホルミル−N’ −2−((2−チエニルメ
チルチオ)エチル)ピペラジンIg(3,7mmof)
をメタノール10m1に熔解し、水10m1に溶解した
水酸化ナトリウム178■(4,4mmof)の溶液を
加え、10時間加熱還流した。
チルチオ)エチル)ピペラジンIg(3,7mmof)
をメタノール10m1に熔解し、水10m1に溶解した
水酸化ナトリウム178■(4,4mmof)の溶液を
加え、10時間加熱還流した。
反応終了後、溶媒を減圧上瞼いた。残渣をクロロホルム
で抽出、水飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥させ、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーで精製し、N(2−(2−チエニルメチルチ
オ)エチル)ピペラジン800■を得た(89%)。
で抽出、水飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥させ、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーで精製し、N(2−(2−チエニルメチルチ
オ)エチル)ピペラジン800■を得た(89%)。
さらにN−(2−(2−チエニルメチルチオ)エチル)
ピペラジンを参考例29と同様に処理し、上記N−(2
−アミノエチル) −N’ −(2(2−チエニルメチ
ルチオ)エチル)ピペラジンを得た(収率75%)。
ピペラジンを参考例29と同様に処理し、上記N−(2
−アミノエチル) −N’ −(2(2−チエニルメチ
ルチオ)エチル)ピペラジンを得た(収率75%)。
NMR(δ、CDCl 3) ; 1.63(2H,s
)、 2.40〜2.6(14H,m)。
)、 2.40〜2.6(14H,m)。
2.77(2H,t、J=6Hz)、 3.96(2H
,s)、 6.90〜6.92(2H,m)、 7.2
0(IH,d、J=3Hz)1考貫主2 2−(N−メ
チル−N′〜(2(2−チエニルメチルチオ)エチル)
アミノコエタンアミンの合成 参考例31に従い2−(2−チエニルメチルチオ)エタ
ノールより上記2−〔N−メチル−N′(2−(2−チ
エニルメチルチオ)エチル)アミノ]エタンアミンを得
た。
,s)、 6.90〜6.92(2H,m)、 7.2
0(IH,d、J=3Hz)1考貫主2 2−(N−メ
チル−N′〜(2(2−チエニルメチルチオ)エチル)
アミノコエタンアミンの合成 参考例31に従い2−(2−チエニルメチルチオ)エタ
ノールより上記2−〔N−メチル−N′(2−(2−チ
エニルメチルチオ)エチル)アミノ]エタンアミンを得
た。
NMR(δ、CDCj23) : 1.54(2H,b
r−s)、 2.20(3H,s)2.41(2H,
t、J=6Hz)、 2.57〜2.60(4H,m
)2.74(2H,t、J=6Hz)、 3.95(
2H,s)、 6.87〜6.93(2H,111)
、 7.20(IH,dd、J=3Hz、It(z)
実詣孤上 N−(2−(3−フリルメチルチオ)エチル
)−3−(3,4−ジメトキシフェニル)=(E)−2
−プロペンアミドの合成 3.4−ジメトキシケイ皮酸225mg (1,1mm
ol)をジクロロメタン20m1に溶解し、塩化チオニ
ル193trrg (1,65mmol)を加えて1時
間加熱還流後、溶媒を留去した。残渣をジクロロメタン
20m】に溶解し、炭酸ナトリウム340mg (3,
3mmol)、水15#11を加えた。この混合液に水
冷下2−(3フリルメチルチオ)エタンアミン170m
g (11mmol)を加え1時間室温にて攪拌した。
r−s)、 2.20(3H,s)2.41(2H,
t、J=6Hz)、 2.57〜2.60(4H,m
)2.74(2H,t、J=6Hz)、 3.95(
2H,s)、 6.87〜6.93(2H,111)
、 7.20(IH,dd、J=3Hz、It(z)
実詣孤上 N−(2−(3−フリルメチルチオ)エチル
)−3−(3,4−ジメトキシフェニル)=(E)−2
−プロペンアミドの合成 3.4−ジメトキシケイ皮酸225mg (1,1mm
ol)をジクロロメタン20m1に溶解し、塩化チオニ
ル193trrg (1,65mmol)を加えて1時
間加熱還流後、溶媒を留去した。残渣をジクロロメタン
20m】に溶解し、炭酸ナトリウム340mg (3,
3mmol)、水15#11を加えた。この混合液に水
冷下2−(3フリルメチルチオ)エタンアミン170m
g (11mmol)を加え1時間室温にて攪拌した。
反応終了後、ジクロロメタンで抽出、水、飽和食塩水で
洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。
洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。
残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、上記化
合物を230mg得た(収率61%)。
合物を230mg得た(収率61%)。
IR(cm−’、 KBr) ; 1660質量分析
;分子弐 C+sHz+0aNS理論値 347.11
90 実測値 347.1189 NMR(δ、CDCl! z) ; 2.67(21(
、t、、b7Hz)、3.54(2)1.dt。
;分子弐 C+sHz+0aNS理論値 347.11
90 実測値 347.1189 NMR(δ、CDCl! z) ; 2.67(21(
、t、、b7Hz)、3.54(2)1.dt。
J=7Hz、J=7Hz)、 3.60(2)1.s)
、 3.91(6H。
、 3.91(6H。
s)、 5.98(IH,br−s)、6.26(IH
,d、J=16Hz)。
,d、J=16Hz)。
6.43(IH,s)、 6.86(IH,d、J=8
)1z)、 7.03CIH,d、J=2Hz>、 7
.09(IH,dd、J=8Hz、2Hz)。
)1z)、 7.03CIH,d、J=2Hz>、 7
.09(IH,dd、J=8Hz、2Hz)。
7.39(2H,s)、 7.51(IH,d、J=1
6Hz)災施炎に22 参考例で製造したカルボン酸誘導体及びアミン誘導体よ
り実施例1に従いアミド誘導体製造した。
6Hz)災施炎に22 参考例で製造したカルボン酸誘導体及びアミン誘導体よ
り実施例1に従いアミド誘導体製造した。
結果を表−3に示す。
m N−(3−(2−チエニルメチルチオ)プロピル
)−3−(3,4−ジアセトキシフェニル) −(E)
−2−プロペンアミドの合成参考例1で合成した384
−ジアセトキシケイ皮酸500■(1,9mmof)を
ジクロロメタン20m1に溶解し、Nヒドロキシコハク
酸イミド218■(1,9mmof ) 、ジシクロヘ
キシルカルボンジイミド391■(1,9w+++oj
2)を加え1時間室温にて攪拌後、ジクロロメタン20
mfに溶解した3−(2−チエニルメチルチオ)プロパ
ンアミン354■(1,9mmof)を滴下し、さらに
2時間室温で攪拌した。反応終了後、ジクロロメタンで
抽出、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で2回洗
浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。残
渣にアセトニトリル20mj2を加え済過し、溶媒を留
去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し
、上記化合物を502■得た(収率63%)。
)−3−(3,4−ジアセトキシフェニル) −(E)
−2−プロペンアミドの合成参考例1で合成した384
−ジアセトキシケイ皮酸500■(1,9mmof)を
ジクロロメタン20m1に溶解し、Nヒドロキシコハク
酸イミド218■(1,9mmof ) 、ジシクロヘ
キシルカルボンジイミド391■(1,9w+++oj
2)を加え1時間室温にて攪拌後、ジクロロメタン20
mfに溶解した3−(2−チエニルメチルチオ)プロパ
ンアミン354■(1,9mmof)を滴下し、さらに
2時間室温で攪拌した。反応終了後、ジクロロメタンで
抽出、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で2回洗
浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。残
渣にアセトニトリル20mj2を加え済過し、溶媒を留
去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し
、上記化合物を502■得た(収率63%)。
IR(cm−’、 fifm) ; 1790 1
660質量分析;分子式 Cz+HzJsNSz理論値
433.1017 実測値 433.1626 NMR(δ、CDCl り ; 1.84(2H,t
t、J=7Hz、7Hz)、2.30(3H,s)、
2.31(38,s)、 2.57(2H,t、J=7
)1z)。
660質量分析;分子式 Cz+HzJsNSz理論値
433.1017 実測値 433.1626 NMR(δ、CDCl り ; 1.84(2H,t
t、J=7Hz、7Hz)、2.30(3H,s)、
2.31(38,s)、 2.57(2H,t、J=7
)1z)。
3.45(2H,dt、J=7Hz、7)1z)、 3
.94(2H,s)。
.94(2H,s)。
5.74 (LH,br−s)、 6.25(LH,d
、J=16Hz)。
、J=16Hz)。
6.90〜6.97(2H,m)、 7.19〜7.2
5(2B、m)7.32〜7.40(2f(、m)、
7.54(IH,d、J=16Hz)実施、1土 N−
(4−(2−チエニルメチルチオ)ブチル)−3−(3
,4−ジアセトキシフェニル)−(E)−2−プロペン
アミドの合成(21(、m)、 7.26〜7.36
(2t(、mL 7.51(It(、dJ=16)1
2) ffi N−(5−(2−チエニルメチルチオ)ペン
チル)−3−(3,4−ジアセトキシフェニル)−(E
)−2−プロペンアミドの合成3.4−ジアセトキシケ
イ皮酸540■(2,0mmof)をジクロロメタン2
0mfに溶解し、Nヒドロキシこはく酸イミド235■
(2,00mmo l )、ジシクロヘキシルカルボン
ジイミド422■(2,00mmof)を加え実施例2
3と同様に反応を行ない、処理し標記化合物623■を
得た(収率76%)。
5(2B、m)7.32〜7.40(2f(、m)、
7.54(IH,d、J=16Hz)実施、1土 N−
(4−(2−チエニルメチルチオ)ブチル)−3−(3
,4−ジアセトキシフェニル)−(E)−2−プロペン
アミドの合成(21(、m)、 7.26〜7.36
(2t(、mL 7.51(It(、dJ=16)1
2) ffi N−(5−(2−チエニルメチルチオ)ペン
チル)−3−(3,4−ジアセトキシフェニル)−(E
)−2−プロペンアミドの合成3.4−ジアセトキシケ
イ皮酸540■(2,0mmof)をジクロロメタン2
0mfに溶解し、Nヒドロキシこはく酸イミド235■
(2,00mmo l )、ジシクロヘキシルカルボン
ジイミド422■(2,00mmof)を加え実施例2
3と同様に反応を行ない、処理し標記化合物623■を
得た(収率76%)。
IR(C1l−’、 fifm); 1780
1660質量分析;分子式 C2□HzsOsN
h理論値 447.1172 実測値 447.1171 NMR(δ、CDCf i) ; 1.50〜1.70
(4H,s+)、2.30(68,s)。
1660質量分析;分子式 C2□HzsOsN
h理論値 447.1172 実測値 447.1171 NMR(δ、CDCf i) ; 1.50〜1.70
(4H,s+)、2.30(68,s)。
2.51(28,t、J=7Hz)、3.32(2H,
dt、J=7Hz、7Hz)。
dt、J=7Hz、7Hz)。
3.90(2H,s)、 6.09(IFI、br−s
)、 6.29(IH,d。
)、 6.29(IH,d。
J=16Hz)、 6.87〜6.94(2H,m)
、 7.12〜7.203.4−ジアセトキシケイ皮
酸400■(1,5mmo E )をジクロロメタン2
0mfに溶解し、塩化チオニル274■(2,3mmo
jlりを加えて1時間加熱還流後、溶媒を留去した。残
渣をジクロロメタン20mfに溶解し、これをトリエチ
ルアミン1531mg(1,5a+moI!、)、5
(2−チエニルメチルチオ)ペンタンアミン326■
(1,5mmofり、ジクロロメタン20mfの混合溶
液に滴下し、1時間室温にて攪拌した。反応終了後、ジ
クロロメタンで抽出、水、飽和食塩水で洗浄し無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製し、標記化合物を680■
得た(収率86%)。
、 7.12〜7.203.4−ジアセトキシケイ皮
酸400■(1,5mmo E )をジクロロメタン2
0mfに溶解し、塩化チオニル274■(2,3mmo
jlりを加えて1時間加熱還流後、溶媒を留去した。残
渣をジクロロメタン20mfに溶解し、これをトリエチ
ルアミン1531mg(1,5a+moI!、)、5
(2−チエニルメチルチオ)ペンタンアミン326■
(1,5mmofり、ジクロロメタン20mfの混合溶
液に滴下し、1時間室温にて攪拌した。反応終了後、ジ
クロロメタンで抽出、水、飽和食塩水で洗浄し無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製し、標記化合物を680■
得た(収率86%)。
IR(cm−’、 fifm) ; 1780 1
670質量分析;分子式 CzsHzyOsNSz理論
値 461.1330 実測値 461.1314 NMR(δ、cnc 1 s) ; 1.38〜1.6
7(6H,m)、2.30(6B、s)。
670質量分析;分子式 CzsHzyOsNSz理論
値 461.1330 実測値 461.1314 NMR(δ、cnc 1 s) ; 1.38〜1.6
7(6H,m)、2.30(6B、s)。
2.50(21,t、 J=7Hz) 、 3.35(
28,dt、 J=’lH1,71K) 。
28,dt、 J=’lH1,71K) 。
3.92(2H,s)、 5.72(IH,br−s)
、 6.30(10,d。
、 6.30(10,d。
J=16Hz)、 6.88〜6.93(2H,w+)
、 7.15〜7.23(2H,m)、 7.31〜7
.35(2B、m)、 7.75(IH,d。
、 7.15〜7.23(2H,m)、 7.31〜7
.35(2B、m)、 7.75(IH,d。
J=16Hz )
皇l■lエニエ主
参考例で製造したカルボン酸誘導体及びアミン誘導体よ
り実施例25に従いアミド誘導体(1)を製造した。
り実施例25に従いアミド誘導体(1)を製造した。
結果を表−4に示す。
実& N −(2−(ベンズヒドリルスルフィニル)
エチル) −3−(3,4−ジアセトキシフェニル)−
(E)−2−プロペンアミドの合成実施例14の化合物
1.25 g (2,55t*raol)をメタノール
40m1に溶解し、メタ過ヨウ素酸1、11 g (5
,1mmoj2)を水10rr+7!に溶解した溶液を
水冷下漬かし、室温にて5時間攪拌した。
エチル) −3−(3,4−ジアセトキシフェニル)−
(E)−2−プロペンアミドの合成実施例14の化合物
1.25 g (2,55t*raol)をメタノール
40m1に溶解し、メタ過ヨウ素酸1、11 g (5
,1mmoj2)を水10rr+7!に溶解した溶液を
水冷下漬かし、室温にて5時間攪拌した。
反応終了後溶媒を留去し、酢酸エチルで抽出、水、飽和
食塩水で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去
した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、
上記化合物を700に得た(収率54%)。
食塩水で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去
した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、
上記化合物を700に得た(収率54%)。
融点 ; 167−168 ”C
IR(am−’ KBr) ; 1780
1660質量分析;分子式 C211H2706NS
理論値 505.1558 実測値 505.1563 NMR(δ、CDCj23) i 2.30(3)1.
s)、2.31(3)1.s)、2.65〜2.75(
LH,m)、 2.77〜2.95(IH,m)、
3.74〜3.87(IH,m)、 3.90〜4
.00(1B、m)、 4.94(IH,s)、6.
29(LH,d、J=16Hz)、6.90(IH。
1660質量分析;分子式 C211H2706NS
理論値 505.1558 実測値 505.1563 NMR(δ、CDCj23) i 2.30(3)1.
s)、2.31(3)1.s)、2.65〜2.75(
LH,m)、 2.77〜2.95(IH,m)、
3.74〜3.87(IH,m)、 3.90〜4
.00(1B、m)、 4.94(IH,s)、6.
29(LH,d、J=16Hz)、6.90(IH。
br−s)、7.30〜7.50(128,ll1)、
7.20(LH,dJ=8Hz)、7.53(IH,d
、J=16Hz)W土5 N−(2−(3−フリルメ
チルチオ)エチルl −3−(3,4−ジヒドロキシフ
ェニル)−(E)−2−プロペンアミドの合成 実施例5の化合物1.0 g (2,5mmof )を
メタノール40m1に溶解し、無水炭酸カリウム346
■(2,5mmor)を水5mlに溶解した溶液を水冷
下漬かし、室温にて1時間撹拌した。反応終了後溶媒を
留去し、クロロホルムで抽出、水、飽和食塩水で洗浄し
無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し、上記化合物を5
03ttrgを得た(収率63%)。
7.20(LH,dJ=8Hz)、7.53(IH,d
、J=16Hz)W土5 N−(2−(3−フリルメ
チルチオ)エチルl −3−(3,4−ジヒドロキシフ
ェニル)−(E)−2−プロペンアミドの合成 実施例5の化合物1.0 g (2,5mmof )を
メタノール40m1に溶解し、無水炭酸カリウム346
■(2,5mmor)を水5mlに溶解した溶液を水冷
下漬かし、室温にて1時間撹拌した。反応終了後溶媒を
留去し、クロロホルムで抽出、水、飽和食塩水で洗浄し
無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し、上記化合物を5
03ttrgを得た(収率63%)。
融点 ; 125.5〜126℃
rR(C11−’、 KBr) ; 1630質量
分析;分子式 Cl6HI?04NS理論値 319
.0878 実測値 319.0878 NMI? (δ、C(hGD) ; 2.59(2H
,t、J=7Hz)、3.44(2)f、 t+J=7
Hz)、 3.6H2Ls)、 6.34<IH,d、
J=17Hz)。
分析;分子式 Cl6HI?04NS理論値 319
.0878 実測値 319.0878 NMI? (δ、C(hGD) ; 2.59(2H
,t、J=7Hz)、3.44(2)f、 t+J=7
Hz)、 3.6H2Ls)、 6.34<IH,d、
J=17Hz)。
6.43(IN、s)、 6.76(LH,d、J=9
Hz>、 6.87(IH,dd、J=9Hz、2)1
z)、 7.00(IH,d、J=2Hz)。
Hz>、 6.87(IH,dd、J=9Hz、2)1
z)、 7.00(IH,d、J=2Hz)。
7.39(IH,d、J=17Hz)、 7.43゛(
1)1.s)、 7.46(1)1.s) 1 46〜76 実施例6〜44で製造したアミド誘導体を実施例45に
従い、処理し、アミド誘導体を製造した。
1)1.s)、 7.46(1)1.s) 1 46〜76 実施例6〜44で製造したアミド誘導体を実施例45に
従い、処理し、アミド誘導体を製造した。
結果を表−5に示す。
MJLfLL5−リポキシゲナーゼ活性阻害作用RBL
−1細胞(rat basophil 1eukes+
1a−1cell)を1mM EDTA、 0.1℃g
elatin、 14 μMインドメタミンを含む50
mM phosphate buffered 5al
in (PBS。
−1細胞(rat basophil 1eukes+
1a−1cell)を1mM EDTA、 0.1℃g
elatin、 14 μMインドメタミンを含む50
mM phosphate buffered 5al
in (PBS。
pH7,0)で5X10’個/ m Itに調製し、超
音波処理後、10.000X g、20分遠心により得
られた上清を酵素液とした。酵素液460μlに被験薬
物溶液10μlを添加し、37℃5分間反応後さらに7
.4 KBq ”C−アラキドン酸および100鱈Ca
Cj!□を添加し37℃10分間反応させた。水冷後、
IN塩酸にてpH3に調整し反応を停止させ、クロロホ
ルム5mlで抽出した。抽出液を窒素ガス下で乾固後ク
ロロホルム:メタノール混液(2:1)に溶解し、Ja
kschikらの方法(Biachen、 Bioph
ys。
音波処理後、10.000X g、20分遠心により得
られた上清を酵素液とした。酵素液460μlに被験薬
物溶液10μlを添加し、37℃5分間反応後さらに7
.4 KBq ”C−アラキドン酸および100鱈Ca
Cj!□を添加し37℃10分間反応させた。水冷後、
IN塩酸にてpH3に調整し反応を停止させ、クロロホ
ルム5mlで抽出した。抽出液を窒素ガス下で乾固後ク
ロロホルム:メタノール混液(2:1)に溶解し、Ja
kschikらの方法(Biachen、 Bioph
ys。
Res、 Co5eseun、 95.103(198
0)参照)に従い薄層クロマトグラフィー (TLCI
Kieselgel 60Fgsa)で展開した。5
−ヒドロキシエイコサテトラエン酸(5−HETH)の
放射活性を液体シンチレーションカウンター(Arok
a、 LSC−900)で測定し、薬物添加群の対照群
に対する5−HETI!生合成抑制率を求めた後、5−
リポキシゲナーゼ活性50%阻害濃度(ICs。)を求
めた。被験薬は、DMSOに溶解、希釈して使用した。
0)参照)に従い薄層クロマトグラフィー (TLCI
Kieselgel 60Fgsa)で展開した。5
−ヒドロキシエイコサテトラエン酸(5−HETH)の
放射活性を液体シンチレーションカウンター(Arok
a、 LSC−900)で測定し、薬物添加群の対照群
に対する5−HETI!生合成抑制率を求めた後、5−
リポキシゲナーゼ活性50%阻害濃度(ICs。)を求
めた。被験薬は、DMSOに溶解、希釈して使用した。
結果を表−6及び表−7に示す。
跋腋Lj 膜安定化作用
Schwartzらの方法I3’ (Int、 Ar
ch、 Allergy 30゜67 (1966)参
照)で行った。すなわち、ラット腹腔内に10単位/m
j!のheparinを含むHank’s液10mj!
を投与し、2分間腹部をマツサージ後、腹腔内の細胞浮
遊液を回収した。細胞は0.1%BSAを含む、 PB
Sで3回洗浄後0.1%BS^を含むPBSで4×10
3個/mlに調製した。この細胞浮遊液50μlに被験
薬物溶液50ttllを加え、37℃で5分間反応させ
、さらに1:40の力価に希釈した抗HAラット血清5
0μlおよびlO■/霧lのHA501111を添加し
、37℃で10分間反応させた。水冷により反応を停止
させneutralredにて細胞を染色し、顕微鏡下
で脱顆粒細胞敞を計測し、膜安定化作用を測定した。結
果を表−6に示す。
ch、 Allergy 30゜67 (1966)参
照)で行った。すなわち、ラット腹腔内に10単位/m
j!のheparinを含むHank’s液10mj!
を投与し、2分間腹部をマツサージ後、腹腔内の細胞浮
遊液を回収した。細胞は0.1%BSAを含む、 PB
Sで3回洗浄後0.1%BS^を含むPBSで4×10
3個/mlに調製した。この細胞浮遊液50μlに被験
薬物溶液50ttllを加え、37℃で5分間反応させ
、さらに1:40の力価に希釈した抗HAラット血清5
0μlおよびlO■/霧lのHA501111を添加し
、37℃で10分間反応させた。水冷により反応を停止
させneutralredにて細胞を染色し、顕微鏡下
で脱顆粒細胞敞を計測し、膜安定化作用を測定した。結
果を表−6に示す。
跋簾jlli Tx合成阻害作用
丁にA2合成酵素活性は、トロンボキサンシンターゼキ
ット(フナコシ: Eldan Tech)を用いて測
定した。すなわち、ヒト血小板ミクロソーム分画0、9
7 w:を50+M Tris−0,I M NaC1
緩衡液(pH7,5)1r+/!に懸濁、氷冷したもの
0.1 m j!をサンプルチューブに分注し、被験薬
を添加した。なお実験はtriplicateまたはq
uadruplicateにて行った。これを25℃に
て正確に3分間ブレインキュベーションし、氷冷しであ
る0、05■/m1PGHz/アセトン溶液2μlを添
加後、25℃で正確に3分間インキエベートした。 2
5mM FeCl2゜溶液10μlを加え反応を停止さ
せた後15分間室温に放置し、4℃、10分間、100
0 gにて遠心分離した。上清中のtxaz量をラジオ
イムノアッセイ(RIA)法(トロンボキサンB! [
”H]RIA Kit:NENReseach Pro
ducts)にて定量し、被験薬を溶解している溶媒の
みを添加して生成させたTXBg量を100%として被
験薬の阻害率を計真した。
ット(フナコシ: Eldan Tech)を用いて測
定した。すなわち、ヒト血小板ミクロソーム分画0、9
7 w:を50+M Tris−0,I M NaC1
緩衡液(pH7,5)1r+/!に懸濁、氷冷したもの
0.1 m j!をサンプルチューブに分注し、被験薬
を添加した。なお実験はtriplicateまたはq
uadruplicateにて行った。これを25℃に
て正確に3分間ブレインキュベーションし、氷冷しであ
る0、05■/m1PGHz/アセトン溶液2μlを添
加後、25℃で正確に3分間インキエベートした。 2
5mM FeCl2゜溶液10μlを加え反応を停止さ
せた後15分間室温に放置し、4℃、10分間、100
0 gにて遠心分離した。上清中のtxaz量をラジオ
イムノアッセイ(RIA)法(トロンボキサンB! [
”H]RIA Kit:NENReseach Pro
ducts)にて定量し、被験薬を溶解している溶媒の
みを添加して生成させたTXBg量を100%として被
験薬の阻害率を計真した。
被験薬はDMSO又は精製水に溶解し、希釈して使用し
た。結果を表−7に示す。
た。結果を表−7に示す。
表−6
表−7
(発明の効果)
本発明における一般式(I)で表わされるアミド誘導体
は5−リポキシゲナーゼ阻害作用と同時にrxaz合成
酸素阻害作用又は膜安定化作用を有し、アレルギー疾患
の治療薬となりうる化合物である。
は5−リポキシゲナーゼ阻害作用と同時にrxaz合成
酸素阻害作用又は膜安定化作用を有し、アレルギー疾患
の治療薬となりうる化合物である。
特許出願人 冨士レビオ株式会社
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表されるアミド誘導体(式中、R_1、R_2及びR
_3は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、アシルオキシ基、ヒドロキシ
アルキル基、低級アルコキシアルキル基又はアシルオキ
シアルキル基、R_4は、水素原子又は低級アルキレン
基であり、 Aは−C−で表わされる基、環状アルキレン基、含素複
素環基、環状アルキルアミノ基又は▲数式、化学式、表
等があります▼で表される基である。(R_6及びR_
7は水素原子又は低級アルキル基である)。R_6又は
R_7はR_4とメチレン鎖で結合して環を形成しても
よく、R_5は、置換又は無置換の芳香族炭化水素基又
は芳香族複素環基であり、Bは、置換又は無置換のメチ
レン鎖である。Qは1〜2、lは0〜3、mは0〜8で
あり、Pは0〜2である。)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2168343A JPH0459754A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | アミド誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2168343A JPH0459754A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | アミド誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0459754A true JPH0459754A (ja) | 1992-02-26 |
Family
ID=15866304
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2168343A Pending JPH0459754A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | アミド誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0459754A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5767121A (en) * | 1991-05-10 | 1998-06-16 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Pyridine derivatives, their production and use |
US6069144A (en) * | 1995-08-24 | 2000-05-30 | Basf Aktiengesellschaft | N-heterocyclic compounds, intermediate products used to prepare them, agents containing them and their use in antifungal applications |
US6674334B1 (en) | 1999-12-02 | 2004-01-06 | Seiko Epson Corporation | Oscillator having surface acoustic wave resonator and oscillation circuit |
US7449481B2 (en) | 2004-04-13 | 2008-11-11 | Cephalon, Inc. | Thio-substituted biaryl-methanesulfinyl derivatives |
US8153667B2 (en) | 2004-04-13 | 2012-04-10 | Cephalon, Inc. | Tricyclic aromatic and bis-phenyl sulfinyl derivatives |
-
1990
- 1990-06-28 JP JP2168343A patent/JPH0459754A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5767121A (en) * | 1991-05-10 | 1998-06-16 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Pyridine derivatives, their production and use |
US6069144A (en) * | 1995-08-24 | 2000-05-30 | Basf Aktiengesellschaft | N-heterocyclic compounds, intermediate products used to prepare them, agents containing them and their use in antifungal applications |
US6674334B1 (en) | 1999-12-02 | 2004-01-06 | Seiko Epson Corporation | Oscillator having surface acoustic wave resonator and oscillation circuit |
US7449481B2 (en) | 2004-04-13 | 2008-11-11 | Cephalon, Inc. | Thio-substituted biaryl-methanesulfinyl derivatives |
US7981907B2 (en) | 2004-04-13 | 2011-07-19 | Cephalon, Inc. | Thio-substituted biarylmethanesulfinyl derivatives |
US8153667B2 (en) | 2004-04-13 | 2012-04-10 | Cephalon, Inc. | Tricyclic aromatic and bis-phenyl sulfinyl derivatives |
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