JPH045911B2 - - Google Patents

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JPH045911B2
JPH045911B2 JP23275085A JP23275085A JPH045911B2 JP H045911 B2 JPH045911 B2 JP H045911B2 JP 23275085 A JP23275085 A JP 23275085A JP 23275085 A JP23275085 A JP 23275085A JP H045911 B2 JPH045911 B2 JP H045911B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
radiation shield
dewar device
cooling
refrigerator
Prior art date
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Expired
Application number
JP23275085A
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English (en)
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JPS6294774A (ja
Inventor
Yasuo Kuraoka
Takashi Ishige
Norihiko Furuta
Yasuhiro Tsuchida
Kyoshi Matsumoto
Akihiro Ootsuka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Hokusan Co Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
Hokusan Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd, Hokusan Co Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
Priority to JP23275085A priority Critical patent/JPS6294774A/ja
Publication of JPS6294774A publication Critical patent/JPS6294774A/ja
Publication of JPH045911B2 publication Critical patent/JPH045911B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はNMR(各磁気共鳴)、SQUID(超電動
磁気センサ)等の極低温における磁気特性等の諸
測定に供せられるデユワー装置に関し、特にその
幅射シールドを冷却する方法に係るものである。
[従来の技術] 上記デユワー装置における幅射るシールドの冷
却は、侵入する幅射熱を抑え、内部に収納された
液体ヘリウム等の極低温液体ガスの温度を安定さ
せ、蒸発を抑えることにより、測定環境を特定条
件下に整えるため、極めて重要なことである。
このため、既に収納されている極低温液体ガス
の蒸発ガスを、幅射シールドに密着巻きとした冷
却コイル内に流して幅射シールドを冷却するとい
う方法がとられているが、同法だけによるとき
は、幅射シールドの冷却が不充分である上、その
温度もやゝ不安定となるため、最近では別途用意
した冷凍機によつて冷媒ガスを冷却して同ガスを
幅射シールド冷却ガスとして循環使用することが
行われている。
一方、デユワー装置では震動を嫌うが、これは
震動が磁場を乱して、正確な測定を妨げるからで
あり、従つて、上記の如く冷凍機を用いて幅射シ
ールドを冷却しようとすれば、冷凍機等の震動が
デユワー装置に伝わらないようにする対策が必要
となる。
このため、上記の両要求を満たすべく、幅射シ
ールドの冷却方法が種々研究されてきているが、
熱損失が少なく、しかもデユワー装置に震動を伝
えないという条件を両立させ得るものはまだ実現
されていない。
すなわち、こゝで従来の改良例を第2図により
説明してみると、aは通常用いられている2段冷
却機の要部を、bはデユワー装置の一部を断面に
より示している。
同図では、冷凍機aの震動をデユワー装置bに
伝えないために、これら両者を離隔的に設置し、
冷却機aの第1段冷端部a1と第2段冷端部a2に熱
交換用のコイルC1,C2を巻きつけて、冷凍出力
を取り出すようにし、当該コイルC1,C2内に封
入されているヘリウムガス々の冷媒ガスをこゝで
冷却し、当該ガスをポンプd1,d2等の圧送手段に
より供給管e1,e2を介して圧送し、これによつて
デユワー装置bの真空断熱空間f内に設けられ
た、一般的には多層に形成された幅射シールドg
…の外側面に熱的緊密状態で巻きつけられている
幅射シールド冷却コイルh…に導くことで、幅射
シールドg…を冷却し、さらに戻し管i1,i2を通
じて冷凍機aに戻す循環系を形成するようにした
方法である。
上述方法によるときは、冷凍機aがデユワー装
置bから離れており、しかも、この際供給管e1
e2、戻し管i1,i2として、フレキシブルチユープ
を用いれば、デユワー装置bに震動が伝わること
はなくなるのであるが、両者が隔離配置であるた
め、どうしても熱損失の面では大きな問題が残る
ことゝなる。
すなわち、上記の場合当然のことながら、特に
供給管e1,e2には断熱手段が施されているも
のゝ、実際上、冷凍機aの冷端部a1,a2によつて
所定の温度、例えば、20°Kとなし、これを供給
管e1,e2によりデユワー装置に移送したとすれ
ば、当該20°Kと常温との間には大変な温度差が
あるだけに、可成り大きな熱損失、昇温を伴うこ
とゝなり、とても所定の20°Kといつた温度の
まゝデユワー装置bに移送することは不可能であ
る。
また、これだけでなく冷凍機a、デユワー装置
bを離して設置しなければならないため、大型装
置になる程、その設置スペースが問題となり、更
に、特に供給ラインe1,e2等の断熱性能につい
て、これを維持、管理しなければならないという
問題点もある。
[発明が解決しようする問題点] 本発明は上述従来の問題点を解決しようとした
もので、デユワー装置との接合部に振動吸収対策
を施した上で、デユワー装置と冷却器とを連設一
体化し、かつ、前記ヘリウムガス等による冷媒ガ
スの系統を外部常温雰囲気に配置するが、デユワ
ー装置の真空断熱層内に設けた戻りガスとの熱交
換器を介して、冷凍機の冷凍出力部分である冷端
部の熱交換フイにより、当該冷媒ガスを冷却コイ
ルに導くようにすることで磁場を乱す要因でもあ
る振動をデユワー装置に伝えることなく、しかも
冷凍機より得た冷凍出力を殆ど熱損失なしで、有
効に利用し、幅射シールドの安定した冷却を行い
得るようにしようとするのが、その目的である。
[問題点を解決するための手段] 即ち本発明は、液体ヘリウム等の極低温液化ガ
スを収納するためのデユワー装置にあつて、その
幅射シールドを循環ガスによつて冷却する方法で
あり、冷凍機とデユワー装置は、該デユワー装置
に設けた凹部に冷凍機の膨張器部分を空隙部を保
つた状態で嵌入して、当該冷凍機の冷端部がデユ
ワー装置の幅射シールドと至近距離となり、か
つ、ベローズ等の振動吸収部材を介して連設され
一方、冷却ガス循環系統にあつて、ポンプ等のガ
ス圧送機器、バツフアタンク、フイルター等を介
在のする冷却ガス供給系統と、戻り系統とは、外
部常温域に配置しておき、当該供給系統による供
給ガスを上記デユワー装置の真空断熱層部に内装
した戻りガスとの熱交換器を介して、上記空隙部
に導き、該空隙部内の冷端部に設けた熱交換用フ
インにて冷却した後、デユワー装置の幅射シール
ド冷却コイルに導き、これを冷却した後、上記熱
交換器を通して外部戻り系統に戻す冷却サイクル
によつて上記幅射シールドを冷却するようにし
て、上記問題点を解決したものである。
[実施例] 以下本発明の実施例を図面に基づいて詳述す
る。
先づ、本発明方法を実施するのに適用される装
置について説示する。
第1図に示したように、こゝでは冷凍機1とし
て、2段冷凍機を、デユワー装置2としてNMR
(各磁気共鳴)等に用いられるドーナツ型のもの
が用いられている。
上記冷凍機1における膨張器3の冷端部4,5
には、各々銅、アルミニウム等の熱伝導材よりな
る熱交換用のフイン4a,5aを、多数枚、熱的に、
緊密状態で溶接、ロウ接等の手段で、取り付け、
膨張器3の外周には、滑りが良く、耐磨耗性に優
れ、低温に絶える材料、例えば、ポリエステルフ
イルム等を緩めに巻きつけておく。
更に、冷凍機1の蓄冷器6上からは膨張器3を
囲む状態でベローズ7をフランジ7aなどを用い
て立設し、この際図示しないOリング、パツキン
等を用いてシールする。
このように形成した冷凍機1上に、デユワー装
置2を次のように載設する。
すなわち、このデユワー装置2には、その下部
に膨張器3を空隙部8aをもつて被嵌する凹部8
が設けられている接合用突出部9を具有させるの
でありその内部は、デユワー装置本体2と連通し
て真空断熱状態となつている。
このデユワー装置2は、その凹部8に膨張器3
が嵌入するようにして被嵌すると共に、前記ベロ
ーズ7のフランジ7bをOリング等を介して接合
用突起部9に締め付け固定するのであり、同装置
2は定位置に設置されるよう、床上10に取り付
けられた架台19上に載置され、図中6a,6
b,19a,19a′,19b,19b′は、ゴム等
による防振脚台を示している。
一方、冷却ガス循環系統11であるが、ガスの
圧送、浄化処理等のための機器を含む供給系統1
1aと戻り系統11bは外部常温域に設置してお
き、これら11a,11bが連結される熱交換機
12以降の部分が低温域もしくは真空断熱域に設
置されている。
次に上記装置を用いて本発明を実施する場合に
ついて詳述する。
外部常温域にあつて、ポンプ13等のガス圧送
手段により圧送されたヘリウムガス等の冷媒ガス
は、先ず、当該ポンプ13による昇温を解消する
ために、クーラー14にて冷却され、フイルター
15、調整バルブ16等を通り、供給系統11a
を経て、デユワー装置2の真空層2bに侵入す
る。
次いで、同真空層2bに内設の熱交換器12に
入り、こゝで幅射るシールド2c…からの戻りガ
スと熱交換が行われる。
この戻りガスは幅射シールド2c…を冷却する
ことで、昇温状態となつているものゝ、常温に比
しては充分に低温(100°K程度)であり、約
300°Kの程度の常温で供給されてきた供給ガス
を、ほぼ100°K程度まで予冷することができる。
予冷された供給ガスは、空隙部8aの第1段冷
端部4付近に導かれ、フイン4aを通つて60°K
程度まで冷却された後、空隙部8aを上昇し、第
2段冷却端部5のフイン5aを通つて更に冷却さ
れ、目標温度である約20°Kに達した後、至近距
離にあるデユワー装置2にあつて、その幅射シー
ルド2c…に、熱的に緊密状態で巻かれている幅
射シールド冷却コイル2d…を通ることで幅射シ
ールド2c…を冷却し、冷却コイル2d…の出口
端部より流出して、上記の如き熱交換を熱交換器
12によつて行つた後、外部である戻り系統11
bを通つてバツフアタンク17等を通りポンプ1
3の吸入口へと帰還するに至る。
以上が冷媒ガスの全サイクルであつて、冷媒ガ
スは段熱していない常温域と、20°Kに至る極低
温域の極めて温度差の大きな両域を循環している
が、熱的なサイクルのみに着目すれば、熱交換器
(100°K)→第1段冷端部(60°K)→第2段冷端
部(20°K)→冷却コイル(20°K〜100°K)→熱交
換器(100°K)…という短いサイクルで形成され
ており、冷端部4,5がデユワー装置2の内部ま
で入り込んだ至近距離となつていることからも、
熱の移動はデユワー装置2の内部で行われている
に過ぎないといつてよく、従つて、冷凍機1で目
標の20°Kを得たとしても、デユワー装置に移送
する間に熱損失を招き大巾な温度上昇をもたらす
という問題は解消される。
同時に当該実施例ではデユワー装置2と冷凍機
1とはベローズ7等の振動吸収部材で連設されて
いるだけでなく、膨張器3と、デユワー装置2と
のなす空隙部8aには、ポリエステルフイルム等
を緩めに巻き付けておくことによつて、膨張器3
の微小な横揺れも吸収され、デユワー装置2への
振動伝達が阻止されている。
更に加えて、ポンプ13を含めた付帯機器類
は、すべて常温下の運転となるため、耐低温使用
である必要がなくなり、又断熱されていないの
で、保守管理も容易となつて、設備費、保守費も
高価につかない。
尚、前述の実施例にあつては、蒸発ガス併用に
よる幅射シールドの冷却によつており、デユワー
装置2内の液体ヘリウム等による極低温液化ガス
18の蒸発ガスを内部から幅射シールド2c…に
導き、前記、循環冷却ガス用冷却コイル2d…と
平行して巻き付けている蒸発ガス用冷却コイル2
e…を通して外部に排気させるようにしている。
[発明の効果] 以上説明したように本発明に係る冷却方法は、
循環ガスによりデユワー装置の幅射シールドを冷
却するものであるから、磁場を乱す要因である震
動をデユワー装置に伝えることなく、かつ、冷凍
機1より得た冷凍出力を可及的に少ない熱損失に
より有効に、しかも安定的に幅射シールド2c…
の冷却に利用し得る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るガス循環による輻射シー
ルドの冷却方法を実施するのに用いられる冷却装
置の一例を示す縦断面図、第2図は従来のガス循
環による輻射シールドの冷却方法に用いられる冷
却装置の一例を示す一部の断面図である。 1……冷却機、2……デユワー装置、2b……
真空断熱層部、2c……輻射シールド、2d……
幅射シールド冷却コイル、3……膨張器、4,5
……冷端部、4a……熱交換用フイン、5a……
熱交換用フイン、7……ベローズ、8……凹部、
8a……空隙部、11……冷却ガス供給系統、1
1a……供給系統、11b……戻り系統、12…
…熱交換器、13……ポンプ、15……フイルタ
ー、17……バツフアタンク。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 液体ヘリウム等の極低温液化ガスを収納する
    ためのデユワー装置にあつて、その輻射シールド
    を循環ガスによつて冷却する方法であり、冷凍機
    とデユワー装置は、該デユワー装置に設けた凹部
    に冷凍機の膨張器部分を空隙を保つた状態で嵌入
    して、当該冷凍機の冷端部がデユワー装置の輻射
    シールドと至近距離となり、かつ、ベローズ等の
    震動吸収部剤を介して連設され、一方、冷却ガス
    循環系統にあつて、ポンプ等のガス圧送機器、バ
    ツフアタンク、フイルター等を介在する冷却ガス
    供給系統と、戻り系統とは、外部常温域に配置し
    ておき、当該供給系統による供給ガスを上記デユ
    ワー装置の真空断熱層部に内装した戻りガスとの
    熱交換器を介して、上記空隙部に導き、該空隙部
    内の冷端部に設けた熱交換用フインにて冷却した
    後、デユワー装置の輻射シールド冷却コイルに導
    き、これを冷却した後、上記熱交換器を通して外
    部戻り系統に戻す冷却サイクルによつて、上記輻
    射シールドを冷却するようにしたことを特徴とす
    るガス循環による幅射シールドの冷却方法。
JP23275085A 1985-10-18 1985-10-18 ガス循環による輻射シ−ルドの冷却方法 Granted JPS6294774A (ja)

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JPS6294774A JPS6294774A (ja) 1987-05-01
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012184918A (ja) * 2005-12-22 2012-09-27 Siemens Plc 極低温に冷却される機器の閉ループ予冷方法及び装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012184918A (ja) * 2005-12-22 2012-09-27 Siemens Plc 極低温に冷却される機器の閉ループ予冷方法及び装置

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JPS6294774A (ja) 1987-05-01

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