JPH0458522A - 集積型バルブ構成体 - Google Patents

集積型バルブ構成体

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JPH0458522A
JPH0458522A JP17059490A JP17059490A JPH0458522A JP H0458522 A JPH0458522 A JP H0458522A JP 17059490 A JP17059490 A JP 17059490A JP 17059490 A JP17059490 A JP 17059490A JP H0458522 A JPH0458522 A JP H0458522A
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valve
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Hitoshi Tanaka
均 田中
Masaru Takechi
勝 武智
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [概 要] 本発明は半導体装置の製造等に利用される気相成長装置
のガス流路に関し、 複数のバルブを含む流路構造の簡略化と汚染機会の減少
を目的とし、 原料ガス流入口と第1のバルブを接続する第1のガス流
路と、 第1のバルブとガス送出口を接続する第2のガス流路と
、 第1のガス流路から分岐して第2のバルブに接続される
ガス流路と、 第3のバルブに接続され該第2のガス流路に結合される
ガス流路と、 第2のバルブと第1の原料容器接続口を接続する第3の
ガス流路と、 第3のガス流路から分岐して第4のバルブに接続される
ガス流路と、 第2の原料容器接続口と第4のバルブを接続する第4の
ガス流路と、 第4のガス流路から分岐して第5のバルブに接続される
ガス流路とが設けられていると共に、前記第1〜第5の
5個のバルブが1個のバルブ支持体30に固定された構
造を備えて構成される。
これ等のバルブの役割は、第1のバルブはキャリアガス
配管系と反応室配管系の間を直結する経路を開閉するも
の、第2および第3のバルブは夫々原料容器とキャリア
ガス配管系および反応室配管系を接続する経路を開閉す
るもの、第4および第5のバルブはこれ等2つの原料容
器接続経路と真空排気装置との接続を開閉するものであ
る。
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の製造等に利用される気相成長装置
のガス流路構成に関わるものであり、特にバルブを用い
た流路切り換え機構に関わるものである。
半導体装置の製造には、半導体結晶のエピタキシャル成
長や、多結晶或いはアモルファスの半導体材料、絶縁材
料の堆積形成といった気相成長の処理工程が不可欠であ
る。気相成長装置には原料ガスを反応室に輸送し或いは
反応室から排出する配管系が含まれるが、特性の優れた
半導体装置を実現するには気相成長用原料物質に高品質
のものを使用する他、反応室や配管系に於ける汚染を抑
制することが必要である。
特に配管系は原料物質やキャリアガス(以下これ等を原
料ガスと総称する)の接触する面積が大であり、管壁か
らの不純物放出による汚染が生じやすい。このような不
都合を回避するには配管経路を短縮し、汚染機会を減す
ることが要求されるが、原料ガスを適正速度で供給する
ためには配管系がある程度複雑化することは避けられな
いことである。
[従来の技術と発明が解決しようとする課B]気相成長
の原料物質が通常の使用条件下で液体である場合、キャ
リアガスのバブリングによって該物質を容器から搬出し
、反応室に輸送するための最も単純な配管構成は第4図
のようなものとなる。同図で10はキャリアガスの容器
、ICl3.17はバルブ、20が原料物質の容器で2
1が反応室である。
バルブ11はキャリアガスを直接反応室に送るためのも
ので、このバルブを閉じ、12と13のバルブを開けれ
ば、バブリングにより気化された原料物質が原料容器か
ら反応室に輸送される。反応室内は減圧状態に保たれる
ことが多く、線図では省略されているが、その場合には
反応室の排気口は圧力調整のためのバルブを介して真空
ポンプに接続される。
現実の装置にこのような構成を適用した場合を考えると
、16と17のバルブは非接続時に原料容器を密封する
のに必要であるから、容器着脱のための継手はこれ等の
バルブと配管系側の間に設けられることになる。
しかしながらこのバルブ構成では、該容器を取り外した
時に配管系が大気に解放されるから、それを避けるため
に第5図のようにバルブ12及び13を追加することが
必要である。継手22は図示の如く配管系から見てバル
ブ12及び13の外側に設けられる。
このような配管系に於いて、バルブの部分を集積して一
体化しようとすれば12.13.14の3個を一つにま
とめられることになる。現実にこれ等のバルブを一体化
した配管系を用いた場合には原料ガスの汚染低減の効果
が認められる。
一方このような管内表面積の減少とは別に原料物質が大
気中に放出されることを避けなければならない場合があ
る。これは原料物質がアルキル金属のように極めて活性
な場合に相当し、容器交換時に大気に解放される配管部
分には原料ガスを残留させないように、内部を排気除去
する機能を備えたものとすることが必要になる。このよ
うな構造とすることは、容器交換の際に管内に入り込ん
だガスを速やかに排除する機能を備えることでもあり、
気相成長装置には不可欠である。
上記第5図のバルブLL 12.13に相当するものを
一体に集積し、さらに排気装置への接続口を開閉するた
めのバルブ16.17を追加した配管系を、バルブ接続
部分だけを取り出して模式的に示すと第3図のようにな
る。3個のバルブlL12.13を含み破線で囲まれた
部分31が一体化され、ボックスにまとめて取り付けら
れる。
第3図の構成でも一体化の効果は認められるが、バルブ
数増加に伴う配管形状の複雑化は原料ガスが汚染される
可能性を増し、更に継手使用数の増加はリーク発生の可
能性を増すものである。
本発明の目的は、配管系の残留ガス排出用にバルブを増
設した構成に於いても汚染やリークの発生が十分に抑制
された配管系構造を提供することである。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するため本発明の集積型バルブ構成体は
、 ガス流入口と第1のバルブを接続する第1のガス流路と
、 第1のバルブとガス送出口を接続する第2のガス流路と
、 第1のガス流路から分岐して第2のバルブに接続される
ガス流路と、 第3のバルブに接続され第2のガス流路に結合されるガ
ス流路と、 第2のバルブと第1の原料容器接続口を接続する第3の
ガス流路と、 第3のガス流路から分岐して第4のバルブに接続される
ガス流路と、 第2の原料容器接続口と第3のバルブを接続する第4の
ガス流路と、 第4のガス流路から分岐して第5のバルブに接続される
ガス流路とが設けられていると共に、前記第1〜第5の
5個のバルブが1個のバルブ支持体に固定された構造を
採っている。
〔作 用〕
第1図は本発明に於けるバルブ接続形状を模式的に示す
図である。同図を第3図と比較すれば明らかなように、
バルブ12とバルブ14の間に存在した継手は本発明で
は使用されておらず、バルブ14は、バルブ12と外部
接続口Eを結合する配管に直結されている。また、バル
ブ15とバルブ13との関係も同様である。バルブ11
〜15を包含する配管部分31が集積され、1つの支持
体に取り付けられる。
このように、継手を使用せず配管から直接分岐する形状
とすることによって、配管系の内部表面積を滅じ、リー
クの発生し易い構造を避けている。
その結果、管壁からの不純物の放出やリークによる不純
物の混入が抑制され、反応室に供給される原料ガスは高
純度に維持される。
(実施例〕 本発明の実施例に於ける配管系の中、バルブの集積構造
に関わる部分の接続構造は第1図に示される通りであり
、個々のバルブの使用目的やこのような接続構造が有効
な理由は既に述べた通りである。
本発明のバルブ接続構造で特に注目すべき点の第1は、
3方型の導管を使用することによってバルブ12とバル
ブ14が直結されると共に外部接続口Eを持つ配管も一
体化されている点である。同様の構造はバルブ13とバ
ルブ15および外部接続口Fの間にも見られる。これ等
の3方型の導管は溶接等の手段によって成形されたもの
であり、継手による接続に比べて管内の形状が単純化さ
れている。
その結果、ガス流のデッドスペースが解消し、更にリー
クの発生も無いことから、原料ガスの品質が極めて高く
保たれる。
第2図は本発明の1実施例である集積バルブ構造の外観
を示す斜視図である。5個のバルブ11〜15は箱型の
支持体30の内部に収められており、図ではこれ等のバ
ルブのノブだけが見えている。他の配管系に接続される
配管端部A、B、C,D、E。
Fは、VCR継手として知られるCAJON社の規格に
合わせたフランジ形状を備えており、配管の外径は1/
4インチである。
〔発明の効果〕
本発明の1実施例では、従来の構成に比べて、配管の内
部表面積が15〜20cm”%少することになるが、継
手を使用した場合の複雑な内部形状やリーク発生のおそ
れが解消した点も考慮すると、数字に現れた以上の効果
が得られており、気相成長装置に高品位の原料ガスを供
給することが可能となった。
10はキャリアガス容器、 11〜17はバルブ、 20は原料容器、 21は反応室、 22は継手、 30は支持体、 31は集積部分 である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のバルブ集積構成の配管接続を示す図、 第2図は本発明の1実施例の外観を示す斜視図、第3図
は従来のバルブ接続を示す図、 第4図は配管系の基本的なバルブ配置を示す図、第5図
は現実的な最少数のバルブ配置を示す図であって、 図に於いて 本発明のバルブ集積構成の配管接続を示す図第1図 本発明の1実施例の外観を示す斜視図 第2図 31集積部分 βノ 従来のバルブ接続を示す図 第 図 配管系の基本的なバルブ配置を示す図 第 図 現実的な最少数のバルブ配置を示す図 第 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  ガス流入口Aと第1のバルブ11を接続する第1のガ
    ス流路と、 第1のバルブ11とガス送出口Bを接続する第2のガス
    流路と、 第1のガス流路から分岐して第2のバルブ12に接続さ
    れるガス流路と、 第3のバルブ13に接続され第2のガス流路に結合され
    るガス流路と、 第2のバルブ12と第1の原料容器接続口Eを接続する
    第3のガス流路と、 第3のガス流路から分岐して第4のバルブ14に接続さ
    れるガス流路と、 第2の原料容器接続口Fと第3のバルブ13を接続する
    第4のガス流路と、 第4のガス流路から分岐して第5のバルブ15に接続さ
    れるガス流路とが設けられていると共に、前記第1〜第
    5の5個のバルブが1個のバルブ支持体30に支持され
    て成ることを特徴とする集積型バルブ構成体。
JP17059490A 1990-06-28 1990-06-28 集積型バルブ構成体 Expired - Fee Related JP2705285B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009138837A (ja) * 2007-12-05 2009-06-25 Kitz Sct:Kk 容器用ブロックバルブ
JP2011516724A (ja) * 2008-03-17 2011-05-26 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド アンプルのための加熱式バルブマニホールド

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009138837A (ja) * 2007-12-05 2009-06-25 Kitz Sct:Kk 容器用ブロックバルブ
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