JPH0458144A - ガスセンサ - Google Patents
ガスセンサInfo
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- JPH0458144A JPH0458144A JP16690490A JP16690490A JPH0458144A JP H0458144 A JPH0458144 A JP H0458144A JP 16690490 A JP16690490 A JP 16690490A JP 16690490 A JP16690490 A JP 16690490A JP H0458144 A JPH0458144 A JP H0458144A
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- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 9
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は、大気中のガスを検知するガスセンサに関す
る。
る。
(従来の技術)
従来、大気中の還元性ガスを検知するために、N型半導
体特性を示すSnO2,ZnO,Fe2O3などの金属
酸化物半導体の焼結体を用いたガスセンサが知られてい
る。
体特性を示すSnO2,ZnO,Fe2O3などの金属
酸化物半導体の焼結体を用いたガスセンサが知られてい
る。
これは、金属酸化物半導体に還元性ガスが触れると、そ
の金属酸化物半導体の電気伝導度が増大、すなわち抵抗
値が減少するという現象を利用したものである。
の金属酸化物半導体の電気伝導度が増大、すなわち抵抗
値が減少するという現象を利用したものである。
一方、上記の焼結体タイプのガスセンサに代り、プレー
ナタイプのガスセンサに関する研究が、エネルギの有効
利用を前提とするシステム化の傾向に対応した素子の微
小化、多機能化の要請に応えて進められている。
ナタイプのガスセンサに関する研究が、エネルギの有効
利用を前提とするシステム化の傾向に対応した素子の微
小化、多機能化の要請に応えて進められている。
このプレーナタイプのガスセンサは、ヒータを内蔵した
基板の表面に、金属酸化物半導体を種々の薄膜形成法で
被着せしめて薄膜とし、それを感ガス体とした構造のも
ので、ヒータの発熱で感ガス体を加熱し、同感ガス体を
周囲雰囲気中のガスに感応させるものである。たとえば
特願昭63−75548号に示されるものがある。
基板の表面に、金属酸化物半導体を種々の薄膜形成法で
被着せしめて薄膜とし、それを感ガス体とした構造のも
ので、ヒータの発熱で感ガス体を加熱し、同感ガス体を
周囲雰囲気中のガスに感応させるものである。たとえば
特願昭63−75548号に示されるものがある。
(発明が解決しようとする課jV1)
ところで、上記のプレーナタイプのガスセンサでは、ヒ
ータへの印加電圧に変動が生じると、基板の表面温度が
大きく変化する。
ータへの印加電圧に変動が生じると、基板の表面温度が
大きく変化する。
たとえば、第6図に示すように、印加電圧が5、OOV
では表面温度が400℃まで上昇するが、印加電圧が5
.17Vまで上がると表面温度はさらに上昇して415
℃となる。
では表面温度が400℃まで上昇するが、印加電圧が5
.17Vまで上がると表面温度はさらに上昇して415
℃となる。
また、周囲雰囲気の温度によってもヒータ基板4の表面
温度は変化する。
温度は変化する。
この表面温度の変化は、検知誤差となって現われてしま
う。
う。
この発明は上記の事情を考慮したもので、その目的とす
るところは、ヒータへの印加電圧に変動が生じても、ま
た周囲雰囲気の温度が変化しても、誤差のない適正な検
知を可能とするガスセンサを提供することにある。
るところは、ヒータへの印加電圧に変動が生じても、ま
た周囲雰囲気の温度が変化しても、誤差のない適正な検
知を可能とするガスセンサを提供することにある。
[発明の構成コ
(課題を解決するための手段)
基板と、この基板に設けたヒータと、上記基板の表面に
設けた感ガス体および感温抵抗体と、この感温抵抗体と
上記ヒータとを直列に接続する手段と、この感温抵抗体
およびヒータの直列回路に印加電圧を導く手段と、上記
感ガス体の抵抗値変化をセンサ出力として取出す手段と
を具備したことを特徴とするガスセンサ。
設けた感ガス体および感温抵抗体と、この感温抵抗体と
上記ヒータとを直列に接続する手段と、この感温抵抗体
およびヒータの直列回路に印加電圧を導く手段と、上記
感ガス体の抵抗値変化をセンサ出力として取出す手段と
を具備したことを特徴とするガスセンサ。
(作用)
印加電圧が変動したり、あるいは周囲雰囲気の温度が変
化すると、その影響でヒータ基板の表面温度が変化する
。すると、表面温度に応じて測温抵抗体の抵抗値が変化
し、それに伴ってヒータにかかる電圧が変化する。これ
により、ヒータの発熱量が変化し、ヒータ基板の表面温
度の変化が小さく収まる。
化すると、その影響でヒータ基板の表面温度が変化する
。すると、表面温度に応じて測温抵抗体の抵抗値が変化
し、それに伴ってヒータにかかる電圧が変化する。これ
により、ヒータの発熱量が変化し、ヒータ基板の表面温
度の変化が小さく収まる。
(実施例)
以下、この発明の一実施例について図面を参照して説明
する。
する。
第4図において、1は本体の基台となるステムで、その
ステム1にリードビン2 a * 2 b r 2
c +2dが垂直状態に植設される。
ステム1にリードビン2 a * 2 b r 2
c +2dが垂直状態に植設される。
これらリードビンにそれぞれリードフレーム3゜3.3
.3を介して矩形状のヒータ基板4が保持される。
.3を介して矩形状のヒータ基板4が保持される。
リードフレーム3は、導電性材料を板状に成形したもの
で、一端がリードビンの上端に溶接され、他端がヒータ
基板4上の後述するポンディングパッドにパラレルギャ
ップウエルダにて溶接される。
で、一端がリードビンの上端に溶接され、他端がヒータ
基板4上の後述するポンディングパッドにパラレルギャ
ップウエルダにて溶接される。
ヒータ基板4は、絶縁部材たとえばアルミナを主成分と
するセラミックで形成される。
するセラミックで形成される。
そして、ステム1の上面側にステンレス製で網状のネッ
トキ・ヤップ10が取付けられ、上記ヒータ基板4が保
護される。
トキ・ヤップ10が取付けられ、上記ヒータ基板4が保
護される。
ヒータ基板4の表面の構成を第1図および¥S2図に示
し、同ヒータ基板4の内部の構成を第2図および第3図
に示す。
し、同ヒータ基板4の内部の構成を第2図および第3図
に示す。
まず、ヒータ基板4の表面において、四隅の対角となる
位置にそれぞれ電極リード用ポンディングパッド5.う
およびヒータリード用ポンディングパッド6.6が設け
られる。
位置にそれぞれ電極リード用ポンディングパッド5.う
およびヒータリード用ポンディングパッド6.6が設け
られる。
ポンディングパッド5,5は、上記リードフレーム3.
3を介してリードビン2a、2Cに接続される。
3を介してリードビン2a、2Cに接続される。
ポンディングパッド6.6は、上記リードフレーム3,
3を介してリードビン2b、2dに接続される。
3を介してリードビン2b、2dに接続される。
ヒータ基板4の表面において、片側のボンデインゲイく
ラド5,6の中間位置に中間ヒータバッド7が設けられ
る。
ラド5,6の中間位置に中間ヒータバッド7が設けられ
る。
ヒータ基板4の内部に螺旋形状のヒータ8が設けられる
。このヒータ8は、一端が上記ポンディングパッド6.
6のうちの一方に接続され、他端が上記中間パッド7に
接続される。
。このヒータ8は、一端が上記ポンディングパッド6.
6のうちの一方に接続され、他端が上記中間パッド7に
接続される。
また、ヒータ基板4の表面には、一方の電極リード用ポ
ンディングパッド5と電気的に導通する電極11が設け
られるとともに、他方の電極リード用ポンディングパッ
ド5と電気的に導通する電極12が設けられる。
ンディングパッド5と電気的に導通する電極11が設け
られるとともに、他方の電極リード用ポンディングパッ
ド5と電気的に導通する電極12が設けられる。
電極11.12はヒータ基板4の表面のほぼ中央位置ま
で延びて互いに近接しており、その近接部分の上に感ガ
ス体13が設けられる。この感ガス体13は、熱を帯び
た状態において、周囲雰囲気中のガスの濃度に感応する
もので、ガスの濃度が高いほど抵抗値が減少する特性を
有する。
で延びて互いに近接しており、その近接部分の上に感ガ
ス体13が設けられる。この感ガス体13は、熱を帯び
た状態において、周囲雰囲気中のガスの濃度に感応する
もので、ガスの濃度が高いほど抵抗値が減少する特性を
有する。
ヒータ基板4の表面において、中間ヒータバッド7およ
び他方のポンディングパッド6とそれぞれ電気的に導通
する白金源の一対の測温抵抗体リード21.21が焼付
は装着される。
び他方のポンディングパッド6とそれぞれ電気的に導通
する白金源の一対の測温抵抗体リード21.21が焼付
は装着される。
測温抵抗体リード21.21はヒータ基板4の表面のほ
ぼ中央位置まで延びて互いに近接しており、その近接部
分の上に感温抵抗体であるところの測温抵抗体22が設
けられる。この測温抵抗体22は、温度に応じて抵抗値
が変化するもので、ヒータ基板4の表面温度や雰囲気温
度が高くなるほど、抵抗値が増大する特性を有する。
ぼ中央位置まで延びて互いに近接しており、その近接部
分の上に感温抵抗体であるところの測温抵抗体22が設
けられる。この測温抵抗体22は、温度に応じて抵抗値
が変化するもので、ヒータ基板4の表面温度や雰囲気温
度が高くなるほど、抵抗値が増大する特性を有する。
こうして、リードピン2a、2C% リードフレーム
3,3、ポンディングパッド5,5、および電極11.
12により、感ガス体13の抵抗値変化をセンサ出力と
して取出す手段が構成される。
3,3、ポンディングパッド5,5、および電極11.
12により、感ガス体13の抵抗値変化をセンサ出力と
して取出す手段が構成される。
中間ヒータバッド7および測温抵抗体リード21.21
により、感温抵抗体22とヒータ8とを直列に接続する
手段が構成される。
により、感温抵抗体22とヒータ8とを直列に接続する
手段が構成される。
リードビン2b、2d、リードフレーム3,3、ポンデ
ィングパッド6.6により、感温抵抗体22およびヒー
タ8の直列回路に印加電圧を導く手段が構成される。
ィングパッド6.6により、感温抵抗体22およびヒー
タ8の直列回路に印加電圧を導く手段が構成される。
つぎに、上記の構成において第5図および第6図を参照
しながら作用を説明する。
しながら作用を説明する。
リードビン2b、2d間に電圧を印加すると、測温抵抗
体22およびヒータ8の直列回路に電流が流れ、ヒータ
8が発熱する。これにより、ヒータ基板4の温度が上昇
し、感ガス体13が熱を帯びる。
体22およびヒータ8の直列回路に電流が流れ、ヒータ
8が発熱する。これにより、ヒータ基板4の温度が上昇
し、感ガス体13が熱を帯びる。
この状態で、周囲雰囲気中にガスが存在すると、そのガ
スに感ガス体13が感応し、感ガス体13の抵抗値が減
少する。
スに感ガス体13が感応し、感ガス体13の抵抗値が減
少する。
この抵抗値の減少量はガスの濃度に応じて定まるもので
、センサ出力としてリードピン2a。
、センサ出力としてリードピン2a。
2Cから取出される。
したがって、リードピン2a、2Cに検知回路を接続す
ることにより、ガスの濃度を知ることができる。
ることにより、ガスの濃度を知ることができる。
ところで、測温抵抗体22が無いものと仮定した場合、
ヒータ8への印加電圧とヒータ基板4の表面温度との間
には従来説明で示した第6図の関係がある。
ヒータ8への印加電圧とヒータ基板4の表面温度との間
には従来説明で示した第6図の関係がある。
すなわち、印加電圧が5.OOVでは表面温度が400
℃まで上昇するが、印加電圧が5.17Vまで上がると
表面温度はさらに上昇して415℃となる。
℃まで上昇するが、印加電圧が5.17Vまで上がると
表面温度はさらに上昇して415℃となる。
この不具合に対処するべく、この発明では測温抵抗体2
2を設け、その測温抵抗体22の抵抗値変化によってヒ
ータ8にかかる電圧を調整し、これによりヒータ8の発
熱量を調整し、表面温度の変化を400℃を中心とする
所定範囲内に小さく収めるようにしている。
2を設け、その測温抵抗体22の抵抗値変化によってヒ
ータ8にかかる電圧を調整し、これによりヒータ8の発
熱量を調整し、表面温度の変化を400℃を中心とする
所定範囲内に小さく収めるようにしている。
たとえば、ヒータ8の抵抗値が20Ωであるとすれば、
表面温度が400℃のときに抵抗値が100Ωとなる測
温抵抗体22が採用され、またリードビン2b、2d間
への印加電圧として30Vが選ばれる。
表面温度が400℃のときに抵抗値が100Ωとなる測
温抵抗体22が採用され、またリードビン2b、2d間
への印加電圧として30Vが選ばれる。
この場合、印加電圧が30Vと安定していれば、ヒータ
8にかかる電圧は5.OOV 、測温抵抗体22にかか
る電圧は25.OVとなる。
8にかかる電圧は5.OOV 、測温抵抗体22にかか
る電圧は25.OVとなる。
仮に、印加電圧が31.OVに変動すると、ヒータ8に
かかる電圧が一旦は5.17Vとなり、表面温度が41
5℃に上昇する。
かかる電圧が一旦は5.17Vとなり、表面温度が41
5℃に上昇する。
この温度上昇が生じると、測温抵抗体22の抵抗値が増
大する。測温抵抗体22の抵抗上昇率を0.25Ω/℃
とすれば、400℃から415℃への上昇では測温抵抗
体22の抵抗値は3.75Ω増えて103.75Ωとな
る。
大する。測温抵抗体22の抵抗上昇率を0.25Ω/℃
とすれば、400℃から415℃への上昇では測温抵抗
体22の抵抗値は3.75Ω増えて103.75Ωとな
る。
測温抵抗体22の抵抗値が103.75Ωになると、測
温抵抗体22にかかる電圧が25.99Vに増え、これ
によりヒータ8にかかる電圧はほぼ定常の5.01Vま
で下がる。
温抵抗体22にかかる電圧が25.99Vに増え、これ
によりヒータ8にかかる電圧はほぼ定常の5.01Vま
で下がる。
こうして、第5図に示すように、ヒータ基板4の表面温
度が400℃を中心とする所定範囲内に小さく収まるよ
うになる。
度が400℃を中心とする所定範囲内に小さく収まるよ
うになる。
また、周囲雰囲気の温度がたとえば10℃上昇すると、
ヒータ基板4の表面温度も約10℃上昇する。この場合
、測温抵抗体22の抵抗値は2.50Ω増えて102.
50Ωとなる。
ヒータ基板4の表面温度も約10℃上昇する。この場合
、測温抵抗体22の抵抗値は2.50Ω増えて102.
50Ωとなる。
測温抵抗体22の抵抗値が102.50Ωになると、ヒ
ータ8にかかる電圧が0.lOV下がり、温度は8℃低
下しようとして最終的には約5℃の上昇で収まる。
ータ8にかかる電圧が0.lOV下がり、温度は8℃低
下しようとして最終的には約5℃の上昇で収まる。
このように、印加電圧に変動が生じても、また周囲雰囲
気の温度が変化しても、ヒータ基板4の表面温度の変化
を小さく抑えることができる。したがって、誤差のない
適正な検知を行なうことができる。
気の温度が変化しても、ヒータ基板4の表面温度の変化
を小さく抑えることができる。したがって、誤差のない
適正な検知を行なうことができる。
特に、印加電圧の制御回路が不要であり、しかも測温抵
抗体22を設けるだけの簡単な構成であるから、低コス
トを維持できる。
抗体22を設けるだけの簡単な構成であるから、低コス
トを維持できる。
なお、上記実施例では、ヒータ基板4にヒータ8を内蔵
するタイプのガスセンサについて説明したが、ヒータ8
をヒータ基板4の裏面に貼り付けるタイプのガスセンサ
にも同様に実施可能である。
するタイプのガスセンサについて説明したが、ヒータ8
をヒータ基板4の裏面に貼り付けるタイプのガスセンサ
にも同様に実施可能である。
また、測温抵抗体22としては正特性サーミスタなどの
適用が可能である。
適用が可能である。
[発明の効果]
以上述べたようにこの発明によれば、基板と、この基板
に設けたヒータと、上記基板の表面に設けた感ガス体お
よび感温抵抗体と、この感温抵抗体と上記ヒータとを直
列に接続する手段と、この感温抵抗体およびヒータの直
列回路に印加電圧を導く手段と、上記感ガス体の抵抗値
変化をセンサ出力として取出す手段とを備えたので、ヒ
ータへの印加電圧に変動が生じても、また周囲雰囲気の
温度が変化しても、誤差のない適正な検知を可能とする
ガスセンサを提供できる。
に設けたヒータと、上記基板の表面に設けた感ガス体お
よび感温抵抗体と、この感温抵抗体と上記ヒータとを直
列に接続する手段と、この感温抵抗体およびヒータの直
列回路に印加電圧を導く手段と、上記感ガス体の抵抗値
変化をセンサ出力として取出す手段とを備えたので、ヒ
ータへの印加電圧に変動が生じても、また周囲雰囲気の
温度が変化しても、誤差のない適正な検知を可能とする
ガスセンサを提供できる。
第1図はこの発明の一実施例のヒータ基板の詳細な構成
を示す平面図、第2図は第1図のA−A線断面を矢印方
向に見た図、第3図は第1図および第2図におけるヒー
タの構成を示す平面図、第4図は同実施例の全体的な構
成を示す斜視図、第5図は同実施例における印加電圧と
ヒータ基板の表面温度との関係を示す図、第6図は従来
のガスセンサにおける印加電圧とヒータ基板の表面温度
との関係を示す図である。 1・・・ステム、2a、2b、2c、2d−・・リード
ビン、3・・・リードフレーム、4・・・ヒータ基板、
8・・・ヒータ、13・・・感ガス体、22・・・nj
温低抵抗体感温抵抗体)。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第2図 第 図 第 図 3゜ 30.5 yp7Int氏(■)□ 第 図 rpnota − 第 図
を示す平面図、第2図は第1図のA−A線断面を矢印方
向に見た図、第3図は第1図および第2図におけるヒー
タの構成を示す平面図、第4図は同実施例の全体的な構
成を示す斜視図、第5図は同実施例における印加電圧と
ヒータ基板の表面温度との関係を示す図、第6図は従来
のガスセンサにおける印加電圧とヒータ基板の表面温度
との関係を示す図である。 1・・・ステム、2a、2b、2c、2d−・・リード
ビン、3・・・リードフレーム、4・・・ヒータ基板、
8・・・ヒータ、13・・・感ガス体、22・・・nj
温低抵抗体感温抵抗体)。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第2図 第 図 第 図 3゜ 30.5 yp7Int氏(■)□ 第 図 rpnota − 第 図
Claims (1)
- 基板と、この基板に設けたヒータと、上記基板の表面に
設けた感ガス体および感温抵抗体と、この感温抵抗体と
上記ヒータとを直列に接続する手段と、この感温抵抗体
およびヒータの直列回路に印加電圧を導く手段と、上記
感ガス体の抵抗値変化をセンサ出力として取出す手段と
を具備したことを特徴とするガスセンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16690490A JPH0458144A (ja) | 1990-06-27 | 1990-06-27 | ガスセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16690490A JPH0458144A (ja) | 1990-06-27 | 1990-06-27 | ガスセンサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0458144A true JPH0458144A (ja) | 1992-02-25 |
Family
ID=15839793
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16690490A Pending JPH0458144A (ja) | 1990-06-27 | 1990-06-27 | ガスセンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0458144A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005265548A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Tdk Corp | ガスセンサ |
-
1990
- 1990-06-27 JP JP16690490A patent/JPH0458144A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005265548A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Tdk Corp | ガスセンサ |
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