JPH0457671A - 氷粒ショットブラスト加工装置 - Google Patents

氷粒ショットブラスト加工装置

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JPH0457671A
JPH0457671A JP17073090A JP17073090A JPH0457671A JP H0457671 A JPH0457671 A JP H0457671A JP 17073090 A JP17073090 A JP 17073090A JP 17073090 A JP17073090 A JP 17073090A JP H0457671 A JPH0457671 A JP H0457671A
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grains
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は、氷粒ショツトブラスト加工装置に係り、詳
しくは加工粒子として氷粒を用い、この氷粒を被加工物
に噴射する氷粒ショツトブラスト加工装置に関する。
[従来の技術] 従来、例えば車両部品等の表面に不規則な凹凸をもつ部
品等の被加工物においては、その研磨、パリ取り、クリ
ーニング等の加工に、その加工特性の良さからショツト
ブラスト加工装置が広く用いられている。この加工材と
して一般的に金属粒子、砂等の固体粒子が用いられてい
るが、固体粒子であるため加工後に、それらの固体粒子
が被加工物に残ってしまい、そのままの状態で組立等を
行なうと剋留する固体粒子で組立て不良を発生し、仮に
組立て不良を生じない場合でも組立てに際して、部品間
に噛込まれた固体粒子の存在により種々の機能不良を発
生するという不都合があった。
このため、例えば特開昭62−140767号に提案さ
れているように、金属粒子、砂等の固体粒子に代えて、
氷粒を加工物に噴射して加工面に付着しているパリ等を
取る氷粒ショツトブラスト加工装置と呼ばれるものがあ
る。
[発明が解決しようとする課題] この氷粒ショツトブラスト加工装置では、氷粒噴射部に
おいて、圧縮空気で連続的に氷粒を噴射して被加工物に
当てるために、多量の氷粒を使用する。また、これらの
氷粒の噴射量を一定にしないと完全なパリ取りができな
いため、氷粒を安定して定量的に使用しなければならな
い。
これらのことから、装置内に常に一定量の氷粒を溜めて
おく氷粒保管部を備える必要がある。しかし、この場合
氷粒自体は他の氷粒と相互にくっついて塊になるという
特有の性質を有するため、氷粒保管部内でこのままにし
ておくと、被加工物に噴射させる際、氷粒噴射部で詰ま
ってしまい装置の運転に支障を来たすという不都合があ
った。
この発明はかかる点に鑑みなされたもので、氷粒噴射部
において氷粒の詰まりを生じることなく、安定した噴射
が可能な氷粒ショツトブラスト加工装置を提供すること
を目的としている。
[i1題を解決するための手段] 前記n!!を解決するために、この発明の氷粒ショツト
ブラスト加工装置は、所定の大ぎさの氷粒を保管する氷
粒保管部と、氷粒を圧力流体により被加工物に向けて噴
射する氷粒噴射部と、前記氷粒保管部に保管された氷粒
を氷粒噴射部へ搬送する氷粒搬送部とを備え、この氷粒
搬送部に互いに固着した氷粒の塊に相対移動を発生させ
個々の氷粒に分離して通過させる氷粒分離通路を有する
ことを特徴とする。
[作用コ この発明では、所定の大きさの氷粒を氷粒保管部に予め
保管し、氷粒保管部に保管された氷粒を氷粒搬送部によ
って氷粒噴射部へ搬送するため、多量の氷粒を使用する
場合でも、氷粒を安定して定量的に使用することができ
る。
しかも、氷粒保管部等で氷粒が互いに固着して塊になっ
ても、氷粒保管部と氷粒噴射部間に備えられた氷粒分離
部で、相互に固着した氷粒の塊を個々の氷粒に分離させ
て、氷粒噴射部に送るから氷粒の詰まりを生じることな
く、安定した噴射がなされる。
[実施例コ 以下、この発明の実施例を添付図面に基づいて詳細に説
明する。
第1図はこの発明を通用した氷粒ショツトブラスト加工
装置の全体システム図である。
製氷機1で工業用水或いは水回収装置から供給される回
収水から所定の大きさの氷粒を連続的に製造する。この
氷粒は氷粒保管部2に搬送されて旦保管され、この氷粒
保管部2には保管された状態で氷粒が互いに固着して塊
にならないように、攪拌する等の手段が備えられている
氷粒保管部2に保管された氷粒は、氷粒搬送部3の作動
で定量連続的に氷粒噴射部4へ搬送され、このとき互い
に固着された氷粒の塊は;2期の氷粒に分離されてP!
込さ;しる。
これらの氷粒保管部2、氷粒搬送部3及び氷粒噴射部4
には冷凍機5が接続され、この冷凍機5で冷却し、氷粒
の融解を防止している。
氷粒噴射部4にはエア供給部6から例えば工場エア或い
は専用コンプレーサからのエアが供給され、この氷粒噴
射部4の作動でエア圧力により氷粒がノズル7から被加
工物8へ向って噴射される。
氷粒噴射部4にはノズル位置移動装置9が備えられ、こ
のノズル位置移動装置9の作動でノズル7の位置を移動
して、被加工物8の所定の位置に氷粒を吹き付ける。被
加工物8は被加工物移動反転装置10で、移動或いは反
転して氷粒を吹き付ける。被加工物移動反転装置10に
はタンク11が備えられ、被加工物はタンク11の上方
位置に配置され、被加工物に吹か付けられた氷粒やこの
氷粒で取れたパリは落下してタンク11に貯溜される。
タンク11内のパリはパリ回収部12で回′メさζ、ま
た=溜さ−た水′1丞チ1?置13で郊埋されて工場排
水として排出される。
また、水処理装置13で処理された処理水は洗浄部14
に供給され、この洗浄部14で被加工物8や被加工物移
動反転装置10を洗浄する。
さらに、水処理装置13で処理された処理水は水回収装
置15に回収されて製氷機1へ供給され、製氷機1では
前記したように所定の大きさの氷粒を連続的に製造する
′s2図は氷粒ショツトブラスト加工装置の氷粒保管部
、氷粒搬送部及び氷粒噴射部等の概略図、第3図は氷粒
搬送部の拡大図、第4図は第3図のTV−rV断面図で
ある。
氷粒保管部2のハウジング2oには隔12122で保管
室23及び搬送室24が形成されている。保管室23に
氷粒が一旦保管され、この保管室23にはかきまぜ棒2
5が回動可能に設けられている。このかきまぜ棒25は
ハウジング2oの上部に設けたかきまぜモータM1で駆
動され、保管室23内の氷粒をかきまぜて、氷粒が相互
に固着して塊になることを防いでいる。
搬送室24には搬送スクリュー27が水平方向で回動可
能に設けられ、搬送スクリュー27は保管部搬送モータ
M2で駆動される。この搬送スクリュー27の回転で、
保管室23の氷粒を連続的に横方向へ搬送する。搬送室
24の排出口28から氷粒が落下して、氷粒搬送部3へ
搬送する。この排出口28はハウジング2oの底壁を斜
めにカットして形成され、氷粒を定量搬出することが可
能になっている。
氷粒搬送部3のハウジング3oにはその略中夫に分Sロ
ーラ31が回動可能に設けられ、この分離ローラ31は
分離モータM3で駆動される0分離ローラ31の表面に
は突起31aが形成されており、この分離ローラ31の
上方には上ガイド32が、また下方には下ガイド33が
設けられ、さらに分離ローラ31に対向して傾斜ガイド
34が設けられ、これらで互いに固着した氷粒の塊に相
対移動を発生させ個々の氷粒に分離して通過させる氷粒
分離通路35を構成している。
上ガイド32と傾斜ガイド34とが氷粒保管部2の搬送
室24から落下する氷粒を保持し、分離ローラ31の回
転で、その突起31aが傾斜ガイド34や上ガイド32
で保持される氷粒を掻き取り、傾斜ガイド34と分離ロ
ーラ31との間に氷粒を導き、この両者で互いに固着し
た氷粒の塊に相対移動を発生させ、個々の氷粒に分離し
て初期の状態にして通過させる。
この氷粒分離通路35は少なくとも互いに固着した氷粒
が通過しない程度の通路幅りを有しており、この通路幅
りのところで個々の氷粒に分離され、初期の状態に戻っ
て落下していき、これで氷粒噴射部4へ定量搬出可能に
している。
下ガイド33は傾斜ガイド34と共に分離した氷粒を、
ハウジング30の下部に設けられたガイド筒36へ導く
ハウジング30内には上ガイド32、分離ローラ31及
び下ガイド33により、氷粒分離通路35の反対側には
氷粒排出室37が形成されている0分離ローラ31の回
転で突起31a間に挟まった氷粒が下ガイド33の上部
と接触して剥離し、氷粒排出室37に排出され、これで
突起31aの間で氷粒の塊が成長して犬かくなるのを防
いでいる。氷粒排出室37の底部には排出口30aが形
成されており、下ガイド33の傾斜面33mで導かれた
不要な氷粒が排出する。排出口30aの下部にはトイ2
6が備えられ、排出口30aから排出された氷粒を受け
て流すようになっており、これで氷粒排出室37に氷粒
がどんどん溜って分離ローラ31の回転が停止するを防
止すハウジング30の下部に設けたガイド筒36には蛇
腹ホース38の上端部38aが取り付けられている。こ
の蛇腹ホース38の外周面の一部はガイド管39で保持
され、このガイド管39で蛇腹ホース38の曲がりを防
止している。蛇腹ホース38の下端部38bは氷粒噴射
部4のハウジング40の連結孔40aに連結され、氷粒
をハウジング40内の搬送室41へ導く、蛇腹ホース3
8は氷粒噴射部4が上下動することを許容している。
氷粒噴射部4のハウジング40内は仕切り板42で搬送
室41と噴射部43とに区画され、さらにこの仕切り板
42には搬送室41から噴射部43に氷粒を導く排出通
路42aが形成されている。搬送室41には搬送スクリ
ュー44が回動可能に設けられ、この搬送スクリュー4
4は噴射部搬送モータM4で駆動される。搬送スクリュ
ー44は搬送室41内の氷粒を連続的に搬送し、排出通
路42aから噴射部43に排出させ、この排出通路42
mは斜めにカットされており、定量の氷粒を噴射部43
へ搬送する。
噴射部43にはエアホース45から所定圧力の工場エア
が供給され、噴射部43内に供給された氷粒をノズル7
で被加工物8へ向って噴射する。
このようにして、氷粒搬送部3で分離された氷粒が氷粒
噴射部4に定量供給され、ざらに氷粒噴射部4では搬送
スクリュー44の作動で定量の氷粒が噴射部43に供給
されるから、氷粒でノズル7が詰まることがなく、装置
を支障なく運転することができる。
氷粒噴射部4にはノズル移動装置9が設けられており、
位置調整モータM5によって回転軸90を回転させると
、この回転軸90上を氷粒噴射部4が上下動することに
より、ノズル7の位置が移動する。
被加工物8は図示しない加工物移動反転装置によって移
動反転して、全面について氷粒の噴射を受けてパリ取り
される。噴射した氷粒及び取られたパリはタンク11に
回収され、このタンク11で氷粒が水になってオーバー
フローして水処理装f113に供給され、パリはタンク
11に残る。
水処理装置13には洗浄#314が備えられ、ポンプ1
40の駆動でパイプ141から被加工物8へ水を噴射し
て、氷粒噴射後に被加工物8を洗浄する。また、水処理
装置13はバイブ130から排出したり、図示しない水
回収装置を紅で製氷機に給水させることもできる。
なお、この実施例では、傾斜ガイド34と分離ローラ3
1との間に氷粒を導き、この両者で互いに固着した氷粒
の塊に相対移動を発生させ、個々の氷粒に分離して初期
の状態にして通過させるようにして氷粒分離通路35を
形成しているが、傾斜ガイド34を用いないで、同様な
分離ローラ31同士を対向させて設けて氷粒分離通路を
形成してもよい、また、分離ローラ31に代えて、凹凸
面を有するベルトで氷粒分離通路を形成してもよい。
第5図は氷粒ショツトブラスト加工装置の概略制御構成
図である。
この氷粒ショツトブラスト加工装置では例えばマイクロ
コンピュータで制御装置200が構成され、操作装置2
01には電源ボタン202、噴射量設定ボタン203、
ノズル位置操作ボタン204等が備えられ、オペレータ
の操作で指令が制御装置200に入力される。
電源ボタン202の操作で運転が開始され、製氷機1や
氷粒保管部2のかきまぜモータM1が駆動される。かき
まぜモータM1は運転中常に一定の回転数で回転する。
ノズル位置操作ボタン204の操作で氷粒噴射部4の位
置調整モータM5が駆動し、ノズル7を所定の位置へ移
動させる。
噴射量設定ボタン203の操作で氷粒の噴射噴量が設定
され、この設定に基づき制御装置200でエア供給部6
のエア圧力設定、噴射部搬送モータM4の回転数設定、
分離モータM3の回転数設定、保管部搬送モータM2の
回転数設定を行なう。
また、この1lilJ御装置200にはエア圧力センサ
300、噴射量センサ301、氷粒噴射部氷粒通過量セ
ンサ302、氷粒分離通路氷粒通過量センサ303、氷
粒保管部氷粒通通量センサ304、氷粒保管部ストック
量測定センサ305からの検出情報が人力される。エア
圧力センサ300は氷粒噴射部4へのエア供給系に設け
られ、この圧力情報からエア供給部6を制御して所定の
エア圧力にする。噴射量センサ301は氷粒噴射部4に
設けられ、氷粒噴射部4に供給される氷粒量を測定して
、被加工物8への設定噴射量と比較して実際の氷粒噴射
量が設定値になるように制御する。
氷粒噴射部氷粒通過量センサ302は氷粒噴射部4の搬
送室に設けられ、この氷粒通過量情報に基づき、噴射部
搬送モータM4を制御して設定された氷粒量を供給する
。氷粒分離通路氷粒通過量センサ303は氷粒分離部3
に備えられ、通路を通過する氷粒通過量を検出し、この
氷粒通過量に基づき、分離モータM3を制御する。
氷粒保管部氷粒通通量センサ304は氷粒保管部2の搬
送室に設けられ、搬送室を通過する氷粒通過量を検出し
、この氷粒通過量に基づぎ保管部搬送モータM2を制御
する。
氷粒保管部ストック量測定センサ305は氷粒保管部2
の保管室に設けられ、保管室の氷粒ストック量を測定し
ており、この氷粒ストック量情報に基づき、製氷機1の
氷粒搬出量を制御して常に保管室に氷粒を所定量保管す
る。
この制御装置での作動を第6図に基づいて説明する。第
6図は氷粒ショツトブラスト加工装置の作動フローチャ
ートである。
噴射量設定ボタン203の操作で所定の氷粒噴射量を設
定しくステップa)、この設定された氷粒噴射量を得る
ように、噴射部搬送モータM4、分離モータM3、保管
部搬送モータM2の回転数を設定(ステップb−d)す
る。また、製氷機1から氷粒保管部2への氷粒供給量を
設定する(ステップe)、これらのアクチエエータの駆
動で、氷粒が氷粒保管部2から氷粒搬送部3で氷粒の塊
を分離して氷粒噴射部4へ搬送され、氷粒噴射部4への
氷粒供給量から実際の氷粒噴射量を測定する(ステップ
f)、実際の氷粒噴射量が設定値通りかの判断を行ない
(ステップg)、設定値通りの場合は現状維持する(ス
テップh)。
ステップgで実際の氷粒噴射量が設定値通り多すぎる場
合は、製氷機1から氷粒保管部2への供給量を減少させ
る(ステップi)。
また、ステップgで実際の氷粒噴射量が設定値より少な
すぎる場合は、噴射wm送モータM4の回転数を上げ(
ステップj)、搬送スクリュー44での通過量が設定値
に達したか否かを判断しくステップk)、この通過量が
設定値に達すると、分離モータM3の回転数を上げる(
ステップA)。
ついで、分離搬送部3の氷粒分離通路35の通過量が設
定値に達したか否かの判断を行ない(ステップm)、通
過量が設定値に達しするまで、分離モータM3の回転数
を上げる。氷粒分離通路35の通過量が設定値に達した
場合には、保管部搬送モータM2の回転数を上げ(ステ
ップn)、搬送スクリュー27を駆動する。この搬送ス
クリュー27の駆動で氷粒の通過量が設定値に達すると
(ステップ0)、製氷機1から氷粒保管部2への供給量
を増加させステップへ移行する(ステップp)。
このように、この実施例では氷粒噴射部4において噴射
される氷粒の量を任意に設定することができる。
[発明の効果コ 前記のように、この発明は、所定の大きさの氷粒を保管
する氷粒保管部と、氷粒を圧力流体により被加工物に向
けて噴射する氷粒噴射部と、前記氷粒保管部に保管され
た氷粒を氷粒噴射部へ搬送する氷粒搬送部とを備え、こ
の氷粒搬送部に互いに固着した氷粒の塊に相対移動を発
生させ個々の氷粒に分離して通過させる氷粒分離通路を
有しており、氷粒を氷粒保管部に予め保管し、氷粒保管
部に保管された氷粒を氷粒搬送部によって氷粒噴射部へ
搬送することで、多量の氷粒を使用する場合でも、予め
製氷した氷粒の氷粒保管部に保管しておくため、氷粒を
安定して定量的に使用することができる。
しかも、氷粒保管部等で氷粒が互いに固着して塊になる
ことがあ)ても、氷粒保管部と氷粒噴射部間に備えられ
た氷粒分離部で、相互に固着した氷粒の塊を個々の氷粒
に分離させて、初期の状態にして氷粒噴射部に送るから
氷粒の詰まりを生じることなく、安定した噴射を行なう
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明を適用した氷粒ショツトブラスト加工
装置の全体システム図、第2図は氷粒ショツトブラスト
加工装置の氷粒保管部、氷粒搬送部及び氷粒噴射部等の
概略図、第3図は氷粒搬送部の拡大図、第4図は第3図
のTV−IV断面図、第5図は氷粒ショツトブラスト加
工装置の概略制御図、第6図は氷粒シ日ットブラスト加
工装置の作動フローチャートである。 図中符号1は製氷機、2は氷粒保管部、3は氷粒搬送部
、4は氷粒噴射部、35は氷粒分離通路、200は制御
装置である。 特 許 出 願 人   ヤマハ発動機株式会社■」 第 図 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 所定の大きさの氷粒を保管する氷粒保管部と、氷粒を圧
    力流体により被加工物に向けて噴射する氷粒噴射部と、
    前記氷粒保管部に保管された氷粒を氷粒噴射部へ搬送す
    る氷粒搬送部とを備え、この氷粒搬送部に互いに固着し
    た氷粒の塊に相対移動を発生させ個々の氷粒に分離して
    通過させる氷粒分離通路を有することを特徴とする氷粒
    ショットブラスト加工装置。
JP17073090A 1990-06-28 1990-06-28 氷粒ショットブラスト加工装置 Expired - Lifetime JP2893126B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6000995A (en) * 1995-11-06 1999-12-14 Heinrich Schlick Unit for the dosage of grained, pourable materials, in particular blasting abrasives
JP2014206423A (ja) * 2013-04-11 2014-10-30 東芝プラントシステム株式会社 ドライアイスを用いた除染システム及び除染方法

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