JPH0453806B2 - - Google Patents

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JPH0453806B2
JPH0453806B2 JP61316141A JP31614186A JPH0453806B2 JP H0453806 B2 JPH0453806 B2 JP H0453806B2 JP 61316141 A JP61316141 A JP 61316141A JP 31614186 A JP31614186 A JP 31614186A JP H0453806 B2 JPH0453806 B2 JP H0453806B2
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JP
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silicon dioxide
plasma
gas
silicon
reactor
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JP61316141A
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JPS62158110A (ja
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Datsuto Dosaju Bishu
Uiriamu Raukuhorutsu Arubin
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Dow Silicones Corp
Original Assignee
Dow Corning Corp
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Publication date
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Publication of JPH0453806B2 publication Critical patent/JPH0453806B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/021Preparation
    • C01B33/023Preparation by reduction of silica or free silica-containing material
    • C01B33/025Preparation by reduction of silica or free silica-containing material with carbon or a solid carbonaceous material, i.e. carbo-thermal process

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は熱源としてプラズマを用いた珪素の製
練方法に関し、特に冶金用に適した純度で太陽電
池に用いられる珪素を製造することに関する。
現在、珪素はサブマージド電気アーク炉で固体
炭素質還元剤による二酸化珪素(SiO2)の炭素
熱還元で製造されているのが典型的である。二酸
化珪素は石英、溶融シリカ又はフユームドシリカ
等の形をしている。炭素質材料は、コークス、石
炭、木片及び他の炭素含有材料の形をしていても
よい。全還元反応は SiO2+2C=Si+2CO である。上記反応は、実際には多段階の反応を含
むことが一般に認められており、最も重要なもの
は大体次のようなものである。
SiO2+3C=SiC+2CO (1) SiO2+C=SiO+CO (2) SiO+2C=SiC+CO (3) 2SiO2+SiC=3SiO+CO (4) SiO+SiC=2Si+CO (5) 一酸化珪素(SiO)は反応温度で気体状の物質
であり、完全に反応しないと蒸気として失われる
ことがある。ミユラー(Muller)その他による
Scand.J.Metall.,1(1972),pp.145−155には二
酸化珪素を炭素熱還元として珪素を形成させるSi
−O−C化学系のための論理的平衡条件が記載さ
れ、又定義されている。ミユラーその他による限
定条件についての教示は平衡状態では一酸化珪素
の分圧は上気反応5が起きて珪素を形成するため
には1819℃温度で0.76気圧に等しいか又はそれよ
り大きな圧力でなければならないという限定であ
る。ジヨハンソン(Johannson)及びエリクソン
(Eriksson)によるO・Electrochm、Soc.:
SOLID STATE SCIENC AND TECHNOLOGR,131:2(1984),
pp.365−370にはSi−O−C系の定義と記述につ
いて更に詳しく述べられている。ジヨハンソンと
エクリソンの教示によれば、反応による圧力の影
響が定義されている。論理的には本質的に100%
の珪素収率を与えるのに原料効率を最大にするた
めには5気圧が最適圧力であると示されている。
珪素を製造するためにサブマージド電気アーク
炉を使用することは何年も前から商業的な規模で
行なわれてきている。一般にそのような装置を使
用した場合、幾つかの固有の欠点があることが認
識されている。現在サブマージド電気アーク炉を
使用する場合、二酸化珪素と炭素質反応固体は炉
の頂部から導入されている。反応が進むにつれ
て、炉の底のサブマージド電極の下端のところで
は空腔が形成される。溶融した珪素はその空腔の
底に集まる。空腔の頂部には反応物、中間生成物
及び生成珪素からなる殻が形成される。この殻の
上には固体反応物と中間生成物からなる種々の形
成物が存在する。
沈めた電気アーク炉では熱移動及び物質移動が
悪いため適用した電気エネルギーの利用度が悪
く、原料の利用度を低くするように見える。現在
の商業的な装置では、これら上記反応に必要な論
理的エネルギー量の約3倍を消費する。この大き
なエネルギー消費量は副生成物の排出ガス中に失
われる一酸化炭素として炭素質還元剤と共に導入
されるエネルギーの損失に反映している。熱及び
物質移動の悪さに対しては、幾つかの因子が関係
している。炉中の反応物と中間生成物との間の固
体固体及び固体−気体物質移動の相互作用は、従
来の電気アーク炉中の効果的な熱及び物質移動を
制限している。更に別の欠点は反応のガス状副生
成物と共に揮発生SiOの形で材料が失われること
である。現在サブマージド電気アーク炉では、最
終的珪素収率の10〜20重量%程の多くのものが
SiOとして失なわれる。一酸化珪素は再び酸化さ
れてSiO2を形成する。結局、SiOは材料損失の問
題のみならず工程全体にわたる閉塞の問題も与え
る。更に装置から逃げるSiO2は、集めて捨てな
ければならない空気で運ばれる粒子としてかなり
困難な環境問題を与えている。
現在のサブマージド電気アーク炉にによる珪素
への経路は機械的問題によつても妨げられてい
る。上方へ動くガスの流れに対し、反対方向に下
方に動く固体の流れは反応空腔へそれらの固体が
流れるのを妨げる。更に固体は反応空腔上の殻の
形成及び垂直電極への固体の近接によつて引き起
こされるブリツジによつて保持される。ブリツジ
は炉の比較的冷たい上方部分中に粘稠な中間生成
物が形成されることによつても引き起こされる。
その固体保持のため、炉の開口を設けたり、反応
器を屡々あけたり、固体を、その下方への動きを
促進するため、棒でついたり或はかき込んだりす
る必要がある。
アーク炉の炭素電極は消費され最終生成物の珪
素中の不純物及び最終的製造コストの両方に関係
してくる。炭素電極は、従来のアーク炉による珪
素の製造で、主な不純物源になつている。更に珪
素製造コストの10%の多くのものは電極の取り替
え及び電極に伴われる問題に起因するものと推定
される。
電気アーク炉の代わりにプラズマを用いること
は幾つかの利点を有する。上記反応体系によれ
ば、反応(1) SiO2+3C=Si+2CO は吸熱反応で、全還元反応のためのエネルギーの
50%程多くのエネルギーを消費する。SiO2と炭
素含有材料を直接高エネルギープラズマ中へ供給
すると、熱及び物質移動を最大にし、このSiC形
成反応を促進する。更にSiCの効率的な形成は次
の珪素を形成する連続反応を促進し、その反応は
上記反応(4)及び(5)によつて表わされる。
2SiO2+SiO=3SiO+CO及び SiO+SiO=2Si+CO SiO2の溶融とSiCの形成が同時に行なわれるこ
とは物質移動を改善する。反応器の形が変わつて
いることも、固体のブリツジをなくし、かき込む
ため炉を周期的に開ける必要もなくしている。結
局、炉は閉じておくことができ、加圧下で操作す
ることができる。炉を閉じておくことは上で述べ
たような現在失われている副生成物ガスのエネル
ギー含有量の回収と再利用を促進するであろう。
アーク炉で用いられる炭素電極を省略すること
は、最終珪素生成物の純度をそれに応じてい増大
する結果になるであろう。
1966年6月21日公告された米国特許第3257196
号にはフエツクス(Foex)によつて金属酸化物
を処理するのにプラズマを使用することが教示さ
れている。フエツクスによつて教示されている方
法は、中心軸の回りに回転することができる容器
中で処理される材料を圧搾することである。軸方
向の空腔が設けられ、その中にプラズマが入るこ
とができる。プラズマは固体反応物の領域へ反応
物を運ぶための搬送対として用いられている。フ
エツクスの教示は、本発明の連続的体系に比較し
て明らかに複雑なバツチ形状になつている回転反
応器を必要とすることを基にして組み立てられて
いる。更にフエツクスの教示は粉末金属酸化物供
給物をプラズマジエツト中に維持する必要生を、
それら粉末を前記回転反応器へ圧搾し、粉末を反
応器中に維持するため遠心力を用いることによつ
て除くことに向けられている。フエツクスの教示
による反応域は本発明に記載された多孔質の固体
床を通るのではなく、緻密に詰まつた固体の表面
のところにある。本発明は粉末反応物をプラズマ
域へ連続的に供給することを教示している。これ
らの相異は本発明による熱及び物質移動の改良さ
れた効率に対し、重要な要因になつている。
コールドウエル(Coldwell)及びローグ
(Rogues)はJ・Electrochemical Soc.,124
(11)(1977),pp.1686−1689に、プレスした二酸
化珪素の棒と炭素粉末とのプラズマ中での反応に
ついて記述している。コールドウエル及びローグ
はラジオ周波誘導プラズマを用いることも記述し
ている。下記で論ずるように、誘導プラズマに伴
われる大きなガスの流れば珪素を形成する還元反
応に対し、厳しい制約を与える。更にコールドウ
エル及びローグは誘導プラズマに必要な大きなガ
スの流れによつて起こされる困難な点を記述して
いる。生成物の珪素は蒸気であり、急冷によつて
回収される。珪素は急冷生成物の33%より多くな
ることはな。与えられた条件でプラズマ中に形成
される物質の高い反応性のため、この低い珪素回
収は最も収率であることがコールドウエル及びロ
ーグによつて教示されている。コールドウエル及
びローグの方法は、本発明の連続的方法に比較し
てバツチ法である。更にコールドウエル及びロー
グは、珪素が蒸気として反応域を出ていく事実か
ら分かるように、本発明よりもはるかに高い温度
範囲で操作していることは明らかである。この高
い温度範囲は系の化学的熱平衡を完全に変え、本
発明との比較を無意味なものにしている。
ドイツ公開特許第2924584号(1981年1月15日
公開)で、ストラムケ(Stramke)その他は還元
雰囲気中でプラズマ炎中にシリカ又は珪素を通す
こと記述している。ストラムケその他の教示は、
本発明のように、二酸化珪素の炭素熱還元に関す
るのではなく、むしろシリカ又は珪素中の不純物
の減少に関し、これら減少した不純物を気化して
珪素材料から除去できるようにすることに関して
いる。挙げられている還元性ガスは水素(H2)、
メタン、エタン、エチレン及び他の飽和及び不飽
和低級炭化水素である。
1983年3月22日広告の米国特許4377564号で、
ダールベルグ(Dahlberg)その他は二酸化珪素
及び還元剤を用いてプラズマ中で珪素を製造する
ことを記述している。珪素は蒸気としてプラズマ
中に導入され、基材上への付着或は凝縮によつて
蒸気反応混合物から回収されている。収率につい
ては何も言及されていない。しかしこの教示は上
記のコールドウエル及びローグの方法と同じ欠点
をもつものと思われる。挙げられている還元剤は
炭素、水素、炭化水素、窒素、一酸化炭素
(CO)、ハロゲン及び水蒸気である。
1984年3月27日公告米国特許第4439410号で、
サンテン(Santen)及びエドストローム
(Edstrom)はシリカと任意の還元剤とをガスプ
ラズマ中へ注入する珪素製造方法を記述してい
る。加熱された供給物及びエネルギーに富むプラ
ズマガスを、固体還元剤が詰められた反応室へ導
入する。シリカは溶融され、珪素に還元される。
反応ガスはH2及びCOの混合物からならり、再循
環され、プラズマのためのキヤリヤーガスとして
用いられている。サンテン及びエドストロームは
プラズマが電気アーク又は誘導手段によつて発生
することを記述している。挙げられている炭化水
素(天然ガス)、石炭粉、木炭粉、カーボンブラ
ツク、石油コークス及びその他である。
サンテン及びエドストロームの特許を研究する
と、幾つかの矛盾が認められる。第一に発明の記
述で用いられるプラズマバーナーは誘導プラズマ
バーナーであると記載されている。第二に発明の
記述で、電気アーク手段によつてプラズマを発生
することについて何も述べていないのに、それを
特許請求している。サンテン及びエドストローム
はプラズマが、プラズマガスを電気アークに通す
ことによつて発生されることも特許請求してい
る。サンテン及びエドストロームはプラズマが移
動アーク(transferred arc)又は非移動アーク
方式でプラズマが発生されるか否かについては何
も述べておらず、そのことは彼等が本発明で得ら
れる利点へ導くような重要な相異点を認識してい
なかつたことを示している。この相異は非常に重
要である。移動アーク方式は最少量のガスを用い
るのに対し、非移動アーク方式は、同じ量のエネ
ルギーを移動させているのに約5〜10倍大きい体
積のガスを用いる。必要なガス体積の差の例とし
て、1000キロワツト(KW)のエネルギーで発生
されるプラズマについて、移動アーク配置では、
10〜25票準立法フイート/分(scfm)のガスを
必要とするのに対して、非移動アーク配置では
100〜150scfm或はそれ以上のガスを必要とする。
移動アーク方式では、二つの電極は、反応器の頂
部と底の如きある距離へだてて配置されている。
プラズマガスは陰極から陽極へ或はその逆にどち
らへでも流れることができる。移動アーク方式で
用いられるガスの体積はプラズマ自身を形成する
のに必要な体積である。非移動アーク方式では、
二つの電極は発生機自身中に存在する。アークは
発生機中でとび、プラズマが形成され、そのプラ
ズマは実際に多量の体積のガスによつて反応域中
へ吹き込まれる。非移動アーク配置では、供給ガ
スの10%がプラズマへ変換されるのに対し、供給
ガス90%が反応域へプラズマを移動させるのに用
いていると推定されている。ラジオ周波誘導プラ
ズマは同じ導入エネルギー量について、非移動ア
ークプラズマの場合と同じ相対的体積のガスを用
いられる。誘導プラズマバーナーを用いることに
関し、当分野の他の文献(例えばNational
Institute for Metallurgy Report No、1895,
“A Review of Plasma Technology with
Particular Reference to Ferro−Alloy
Production,”April 141977,pg.3)にはラジオ
周波誘導プラズマの大型化は困難で高価であり本
質的に実験室的道具に止どまつていることが認め
られている。無関係なガスによる希釈は一酸化珪
素中間生成物の分圧をひどく減少させ、上記ミユ
ラーその他の文献に記載されているように珪素の
形成を阻害する。この減少は下で論じ又実施例で
示すことにする。
更に矛盾する点として、サンテン及びエドスト
ロームはプラズマガスとして再結晶H2及びCOを
用いることを教示している。本発明が作られる際
に反応域へCOを添加すると珪素の形成をひどく
阻害することが判明している。この発明の重要性
は下の参考例1で論じられるであろう。
幾つかの重要な事柄が本発明をつくる過程で発
見された。二酸化珪素と固体炭素質材料との連続
的供給物及びプラズマガスが固体反応床を通過さ
せられる非移動アーク配置でプラズマを用いると
珪素の形成が起きないことが見出だされた。プラ
ズマガスの大きな流れが反応ガスの希釈に重要な
影響を与えているのであろう。この発見は、一酸
化珪素の臨界的分圧を越えるまで珪素が形成され
ないことを示す上記教示に一致している。この現
象を更に例示するために、プラズマガスが反応床
を通過せず実質的に反応ガスを希釈しないように
プラズマ−反応器の配置を修正すると珪素の形成
が行なわれる結果が得られた。この修正は、下の
実施例で論ずるように、移動アークプラズマ配置
のための反応域中のガスの流れに近似している。
更に別の発見は珪素を生成していた反応器の反
応域への一酸化炭素を添加すると珪素の形成がと
まることが示されたことである。この発見は下の
参考例1で例示する。
本発明は図面を考慮することにより当業者には
一層よく理解されるであろう。第1図及び第2図
は一部を断面にした本発明の二つの好ましい具体
例を例示するための概略的図面である。
反応器本体1から始めて、反応器本体は耐火物
で裏打ちしたタンク型容器などで、当分野で知ら
れた製錬装置の設計のものでも良い。移動アーク
プラズマ発生機2は、第一電極3が反応器本体1
の頂部に位置し、第二電極4が反応器本体1中3
から離れた所にあるように配置されており、示さ
れた電極の正確な位置大及び極性は例示するため
のものであつて、限定するものではないことは分
かるであろう。移動アークプラズマ発生機は当分
野で知られたものと同様な設計のものでよい。プ
ラズマ発生機は還元ガス又は不活性ガス又はそれ
らの混合物をプラズマ発生機へ与える手段5へ結
合されている。プラズマガスを与えるためのその
手段は、商業的加圧ガスパイプライン或はトレー
ラー及び適当な結合部の如き従来のどんな手段で
もよい。この特別な形の移動アークプラズマ発生
機ではプラズマガスの流れは反応器の頂部から下
方へ移動する。固体反応物の流れを反応器本体1
及びプラズマ中へ向けるため、二酸化珪素と固体
還元剤との混合物を供給する手段6が反応器本体
1の頂部に取り付けられている。又反応器本体1
の頂部には二酸化珪素をプラズマ中へ供給する手
段7も取り付けられている。手段6によつて供給
される二酸化珪素と固体還元剤との混合物と、手
段7によつて供給される二酸化珪素とは、反応器
本体1及びプラズマ中へ交互に送られる。二酸化
珪素と固体還元剤との混合物又は二酸化珪素単独
を供給するための手段6及び手段7はガス停止バ
ルブ、スクリユー供給機、空圧搬送機等と一緒に
なつた自然落下供給機又はガス加圧機の如きどん
な従来からの手段でもよい。6及び7からの交互
の供給を調節するために、二酸化珪素と固体還元
剤との混合物及び二酸化珪素供給物の交互の供給
を調節するための手段8が設けられている。交互
の供給を調整する手段は手動制御、自動供給制御
の如きどんな従来からの手段でもよい。第1図の
配置では、反応器本体1には製造工程が始まる前
に固体反応物床が部分的に満たされており、その
反応物床9として示されている。固体反応物床は
二酸化珪素と固体還元剤との混合物又は固体還元
剤単独のものでもよい。溶融珪素生成物は反応器
本体1の底に集められ、溶融珪素を回収する手段
10によつて回収される。溶融珪素を回収するこ
の手段10はバツチ又は連続的流出部材の如き既
知の手段のどのようなものでもよい。副生成物ガ
スは底の部分から反応器本体1をでる。反応器か
ら副生成物ガスを回収する手段11が設けられて
いる。副生成物ガスを回収するこの手段11は排
気或はエネルギー回収のための燃焼機の如きどん
な従来の手段でもよい。第2図は第1図に示した
反応機系の変更したものである。反応器系の部材
の参照番号は第1図と第2図の両方で同じであ
る。第二の基本的な差は、プラズマガスの流れと
固体反応供給物が反応機本体の底半分に導入され
ることである。示されたような電極3及び4をも
つプラズマ発生機2の正確な位置は例示のためで
あつて、限定するものでないことは理解されるで
あろう。第2図で反応器及びプラズマへ供給され
る固体反応物は二酸化珪素珪と固体還元剤との混
合物である。固体反応物は固体供給手段6によつ
て反応器本体1の下半分へ導入される。示されて
いるような二酸化珪素と固体還元剤との混合物を
供給する手段6の正確な位置は例示するためであ
つて限定するものではないことを理解すべきであ
る。第2図では反応器本体1は製造工程が始まる
前に固体反応物で満たされてはいない。
本発明に従い、ここに記述するような条件でエ
ネルギー源としてガスプラズマを用いた珪素製造
方法が与えられる。従つて記述されていること
は、エネルギー源としてガスプラズマを用いた珪
素製造方法において、 () 最小量のガスを用いてプラズマを形成す
る、移動アーク配置を用いた反応器でガスプラ
ズマを発生させ、 () 二酸化珪素と固体還元剤を反応器及びプラ
ズマへ直接供給し、 () プラズマガス、二酸化珪素及び固体還元剤
を反応器の反応域へ送り、 () 反応域から溶融珪素とガス状副生成物を回
収する、 ことからなる珪素製造方法である。
ガスプラズマのための「移動アーク配置」とは
プラズマ発生機の二つの電極が互いに距離を隔て
て配置されていることを意味する。ガスの流れは
陰極から陽極へ或はその逆に進行する。第1図及
び第2図は移動アークプラズマ発生機配置の二つ
の代表的なものを含んでいる。この移動アークプ
ラズマ配置の性質のために、プラズマを形成する
のに必要なガスの体積は、「非移動アーク配置」
に比較して著しく少ない(1/10位)。後者では二
つの電極がプラズマ発生機中に含まれており、ガ
スの流れだけがプラズマを反応域へ移動させる。
これらの差は上で詳細に論じられている。「最少
量のガス」とはプラズマを効果的に形成するのに
必要なガスの、系中に供給すべき量を意味する。
ガスの導入を最少に維持することは上で論じたよ
うに、反応媒体の希釈により生ずる問題点を少な
くする。移動アークプラズマ発生機及びプラズマ
ガスを与えるための手段は、そのような手段の設
計の技術分野で知られており、図面についての記
述で示されている。
本発明で用いられている「固体反応物」とは多
くの種類及び形態での二酸化珪素及び固体還元剤
を意味する。二酸化珪素と固体還元剤のプラズマ
へ供給は、ガス停止バルブ、スクリユー供給機、
空圧搬送機等と一緒になつた自然落下供給機或は
ガス加圧機の如き従来の手段によつて行なうこと
ができる。二酸化珪素と固体還元剤は交互に、最
初は二酸化珪素と固体還元剤の混合物として、次
に二酸化珪素単独として、供給してもよい。それ
ら供給は交互にくりかえしてもよく、交互の供給
は手動切り替え、自動制御等の如き既知の手段に
よつて行なわれる。二酸化珪素と固体還元剤は一
緒にした混合物としてい供給してもよい。
二酸化珪素と炭素との高エネルギープラズマ中
での直接の反応は全反応 SiO2+2C=Si+2CO を促進する。この全反応は下に概略を示す連続的
な反応体系によつて表すことができ、個々の反応
は前に示されている。
SiO2+3C=SiC+2CO (1) 2SiO+SiC=3SiC+CO (4) SiC+SiO=2Si+CO (5) この連続反応は反応(1)によるSiCの形成を押し
進めることにより、促進される。SiCの存在は、
反応(4)により、SiO2が効果的に消費されてSiOを
形成するのを確実にし、そのSiOは次にSiCと反
応して珪素を形成し、副生成物ガスへ失なわれる
ことはない。反応(1)に従い、SiCの形成を押し進
めるためのかぎは二酸化珪素に対する炭素の化学
量論理的量をモルで炭素が過剰になるように、即
ち二酸化珪素1モル当り炭素3モルを越えるよう
に維持することである。一方全供給物は二酸化珪
素と炭素が本質的に全反応の化学量論理量に維持
されるように調節すべきである。その化学量論的
量は二酸化珪素1モル当り炭素2モルである。
「本質的に全反応の化学量論的量」とは炭素の二
酸化珪素に対する割合が化学量論的量か又はそれ
より1〜2%まで多いことを意味する。全反応及
び反応(1)の両方で、二酸化珪素に対し、化学量論
的量より少ない量の炭素を用いると、二酸化珪素
原料についの効率が、消費されないSiOとして失
われる分だけ減少する欠点を生ずることはわかる
であろう。従つて最初に二酸化珪素と固体還元剤
との混合物を供給し、次に二酸化珪素を供給する
交互の供給では、二酸化珪素と固体還元剤との混
合物中の二酸化珪素と固体還元剤との割合は炭素
が二酸化珪素に対し化学量論的量より20%まで多
くなるような過剰のモル数になるように調節され
る。化学量論的量は二酸化珪素1モル当たり炭素
3モルである。二酸化珪素の供給は炭素と二酸化
珪素の一緒にした割合が本質的に全反応の化学量
論的量になるように調節される。その化学量論的
量は二酸化珪素1モル当り炭素2モルである。こ
の考えは二酸化珪素と固体還元剤との混合物が反
応器及びプラズマへの供給物である場合にも適用
される。
反応器は固体反応物、固体還元剤単独、又は二
酸化珪素と固体還元剤との混合物によつて部分的
に満たされていてもよい。反応器の部分的充填
は、プラズマへ直接供給された二酸化珪素と固体
還元剤との反応から固体の形成に適用される適切
な空間を与えるものと考えられる。単独または二
酸化珪素との混合物として反応器を部分的に充填
するのに用いられる固体還元剤は、反応器中及び
プラズマへ送られる固体還元剤と同じでも或は異
なつていてもよい。同様に反応器を部分的に充填
するのに用いられる二酸化珪素は反応器及びプラ
ズマへ直接供給される二酸化珪素と同じでも或は
異なつていてもよい。
プラズマを用いると従来の電気アーク炉で用い
られていた炭素電極を除く結果になる。炭素電極
は製練工程で主な不純物源になつている。従つて
炭素電極を除くことは最終珪素物質が少なくとも
98重量%、できれば99重量%或はそれ以上の純度
をもつようになる結果を与えるであろう。
反応装置はプラズマの流れ、二酸化珪素及び固
体還元剤が下に同じ方向に流れ、溶融珪素とガス
状副生成物が反応器の下半分から排出されるよう
に配置することができる。この配置の一例は第1
図に示されている。反応装置は別法としてプラズ
マの流れ、二酸化珪素及び固体還元剤が反応器の
下半分に導入され、溶融珪素が反応器の底から排
出されるように配置することができる。第2図は
この配置の一例である。
反応装置は、大気圧から3気圧までの範囲の圧
力が維持できるように設計されている。高い圧力
を用いてエネルギー利用度及び原料効率を最大に
することができる。大気圧以上の圧力で閉じた反
応装置を操作すると副生成物のガスの回収と、再
利用を一層良く促進することができる。
プラズマガスは水素、飽和炭化水素及び不飽和
炭化水素からなる群から選択された還元性ガスで
よい。又プラズマガスはアルゴン及び窒素からな
る群から選択された不活性ガスでもよい。プラズ
マを形成するのに用いられるガスは還元性ガスと
不活性ガスの混合物でもよい。
プラズマへ供給され、或は固体還元剤との混合
物として反応器を部分的に充填するのに用いられ
ていてもよい二酸化珪素は、多くの天然産の形の
石英及び多くの形態の溶融シリカ及びフユームド
シリカからなる群から選択される。二酸化珪素の
形は粉末、粒子、塊、小石状のもの、ペレツト及
び固形物からなる群から選択される。
プラズマへ供給される還元剤及ぶび反応器を充
填するのに用いられる固体還元剤はカーボンブラ
ツク、木炭、コークス、石炭、木片からなる群か
ら選択される。固体還元剤の形は粉末、粒子、小
片、塊、ペレツト及び固形物からなる群から選択
される。
プラズマへ供給され、或は反応器を部分的に充
填するのに用いてもよい二酸化珪素と固体還元剤
との混合物は、粉末、粒子、塊、ペレツト及び固
形物からなる群から選択される形のものであつて
よい。
「溶融珪素の回収」とはバツチ又は連続的流出
の如き既知の方法により反応域から溶融珪素生成
物を取り出すどんな従来の手段をも意味する。珪
素を形成するための「副生成物ガス」は主に副生
成物の一酸化炭素からなる。このガス流中には、
プラズマガス及び一層少ない量の水蒸気、二酸化
炭素等の如きガスも含まれる。「副生成物の回収」
とはエネルギーの処分又は回収の既知の手段によ
つてガスを取り扱うことを意味する。エネルギー
の回収の例は熱ガスを用いてプラズマガス或は反
応物を余熱すること、燃焼性ガスを燃焼させて水
蒸気のための熱を発生させること、発電機に結合
されたガスタービンでの燃焼等である。
本発明を実施するのに好ましい態様は、移動ア
ークプラズマ発生機の電極の一つ、プラズマガス
源、二酸化珪素と固体還元剤の供給物が、二酸化
珪素と固体還元剤との混合物で満たされた反応器
の頂部の所にあるように装置を構成することであ
る。この配置はプラズマガスの流れ、反応物、最
終溶融珪素及びガス状副生成物が同じ方向に流れ
る結果を与える。
二酸化珪素と固体還元剤とを反応器中及びプラ
ズマへ供給する好ましい方法は、交互の供給とし
て、最初に二酸化珪素と固体還元剤との混合物を
供給し、次に二酸化珪素を供給し、それら供給を
繰り返すことである。二酸化珪素と固体還元剤と
の混合物のために、二酸化珪素と固体還元剤との
割合は、その炭素が二酸化珪素に対し、化学量論
的量よりも1〜10%多くなるような範囲の過剰の
モル数になるように調節される。別法として二酸
化珪素の供給は、二酸化珪素に対する炭素のモル
割合が本質的に全反応の化学量論的量になるよう
に調節される。
好ましいプラズマガスはメタン又はアルゴンと
水素の混合物である。
用いられる原料の純度は生成物珪素が少なくと
も99%の純度をもつような純度である。二酸化珪
素供給物は粉末又は粒子の形の石英又はシリカで
ある。二酸化珪素供給物と共に供給される還元剤
は粉末又は粒子の形のカーボンブラツク、石炭、
木炭又はコークスである。反応器が充填される固
体反応物は石英又はシリカと木炭、石炭、コーク
ス又は木の混合物である。固体反応物の混合物は
塊、小片或は固形物の形になつている。
反応期中の圧力はエネルギー或は原料の利用度
を最大にするため5〜6気圧の範囲に維持すべき
である。
下記の参考例1及び実施例で用いた、珪素を製
造するための反応器装置は、第1図によつて表わ
されている移動アーク配置を有する装置であり、
参考例2で用いら反応器装置は非移動アーク配置
を有する装置である。
次の実施例は本発明を例示するために与えられ
ているのであつて本発明を限定するものと考えて
はいられない。
参考例 1 パイロツト型サブマージドアーク炉を修正し
て、二酸化珪素の炭素還元に似せたプラズマ配置
でガス添加の影響を研究した。一酸化炭素が評価
されたガスである。
珪素製錬実験を200kVAアーク反応器で完了し
た。電極は中空でプラズマに似せてガスが通れる
ようになつていた。SiO2と炭素質還元剤との炭
素熱反応をはじめた。基本線の条件に達した後、
問題のガスを中空電極に通して流した。
SiO21モルと炭素2モルとのバツチ投入物(投
入物の基準としてSiO26Kg)を反応器へ送つた。
この基本線の混合物は石英としてのSiO2として
の塊状石炭、石油コークス及び木片からなる炭素
質混合物からなつていた。
アーク反応器を24時間操作することによつて安
定化させた。安定した状態と、珪素の発生が認め
られた。COを5scfmの速度で中空電極を通して
注入した。ガス注入は過剰の発煙(過剰のSiOで
あると推定された)及び珪素生成の完全な停止を
起こす炉の異常な作動をもたらした。
これらの結果は、珪素の形成に対する非反応物
或は希釈ガスの有害な効果、及びSiO中間生成物
の分圧が珪素の形成にとつて最少でなければなら
ないという理論を示しているように見える。
参考例 2 エネルギー源としてプラズマを用いた有効な製
練反応器を組み立て評価した。その評価した配置
では、プラズマ源は反応器の頂部に取り付けた。
プラズマトーチは定格電力最大1.5メガワツト
のウエスチングハウス マーク 11Dトーチであ
つた。工程ガスの加熱はトーチ(非移動ガスアー
クプラズマ)中で完全に行なわれた。材料を連続
的に供給するため反応器の上に供給ホツパーが取
り付けられた。
操作中連続的置い出し用ガスとして、実験を始
める前に装置から酸素及び他のガスを追い出すた
めにアルゴンを用いた。トーチの操作に用いたガ
スは水素対アルゴンの8/1混合物(体積基準」
であつた。反応器はその底の部分に穴をもつてい
た。その穴は圧力制御機を通して、水によるガス
洗浄器へ通じていた。
二酸化珪素材料と固体炭素質材料との混合物の
固形物及び塊状石炭の形の固体を実験が始まる前
に反応器へ投入した。炭素質材料と粉砕石英との
小さな固形物を実験中プラズマへ供給した。実験
が終わつた特、固体の全重量及び供給した固体を
決定した。この固体について調べた結果は合計し
て固体の約34重量%が反応中に失われたことを示
していた。
プラズマを反応器投入物の頂部へ向け、ガスを
床を通して流し、そして反応器の底から排気し
た。
炭素質材料と石英との供給物をプラズマの尾の
所へ送つた。珪素は床に見出だされなかつた。床
の頂部は多孔質SiCであるように見えた。大きな
材料の減少は化学反応が起きたことを示してい
た。SiCが表われたことと固体の蒸気重量減少は
反応 SiO2+C=SiO+CO及び SiC+2C=SiO+CO が起きたことを示している。珪素が存在しないこ
とは反応: SiO+SiC=2Si+CO が起きなかつたことを示している。
上記実験の結果は珪素が反応器中で形成されな
かつたことを示しており、この場合プラズマ発生
機は非移動アーク配置で、多量の体積の不活性ガ
ス或は非反応性ガスが供給されていた。
実施例 参考例2のプラズマ/反応器系を修正して反応
域中の希釈ガスの体積を最少にし、移動アークプ
ラズマのガス流に似せるように試みた。
黒鉛管からなる多岐官を反応器中反応器壁周囲
の所に配置した。この配置で、プラズマガスは反
応器投入物の上部を通るが、床中のガス流抵抗に
より反応器の頂部の方向に押し返され、そして次
に黒鉛管を通つて下へ行つた。ガスはその熱含量
をその投入物の頂部へ、直接接触により伝達し、
次に伝導及び対流により、管壁を通して伝達し
た。このやり方で、プラズマガスは反応域内の反
応ガスを希釈することはなかつた。プラズマガス
と反応ガスは反応器の底で、後で一緒にされ、排
気された。
参考例2の場合ように、反応器は最初に固体反
応物が投入された。この場合も固体は、後で実験
中プラズマ中へ送られた。実験前に反応器へ投入
された固体は塊状石炭、粉砕石英及び木炭であつ
た。実験中プラズマへ供給された固体は小石状
SiO2及び炭素であつた。実験後反応器の内容量
及び固体供給物を調べた。この調べた結果は、固
体の真の重量損失は約32%であつたことを示して
いた。
容器の圧力を2気圧より高く上昇させた。プラ
ズマガス及び反応ガスを反応器の底で一緒にし、
洗浄器へ排気した。黒鉛管及び排出管は炭素及び
木炭の塵でふさがつた。黒鉛管の近く或はそれに
隣接して珪素の付着が見られた。付着した珪素の
試料は化学分析し、99.6重量%より大きい珪素で
あることが判明した。
その珪素の付着物は、珪素が上昇させた温度で
反応域中に形成されたことを示している。この結
果はSiOの分圧を珪素形成が行なわれるための最
小の水準になるようにすることにより、余計なガ
スを存在させないことが珪素の形成を起こすと言
うことの裏付けを与えている。更に反応中の圧力
は珪素の形成を助けた。反応域中の希釈ガスの存
在を配置の変更により最少にし、移動アークプラ
ズマ発生機のガスの流れに近似させた。
上の実験の結果は反応: SiO+SiC=2Si+CO が行なわれ、移動アーク配置に似たガス流及び反
応中圧力を用いることにより促進されたことを示
している。
【図面の簡単な説明】
第1図はプラズマガスの流れと固体反応物が反
応機器の頂部から導入される珪素炉の移動アーク
配置の概略的図面である。第2図は第1図の配置
を変えたもので、プラズマガスの流れと固体反応
物とが反応器の下半分に導入される移動アーク配
置の概略的図面である。 1……反応器本体、2……プラズマ発生機、3
……第一電極、4……第二電極。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 () プラズマを形成するために、最少のガ
    スを用い、移動アーク配置を用いた反応器でガ
    スプラズマを発生させ、 () 二酸化珪素と固体還元剤とを直接反応器中
    プラズマへ供給し、 () プラズマガス、二酸化珪素及び固体還元剤
    を反応器の反応域へ送り、 () 溶融した珪素及びガス状副生成物を反応器
    から回収する ことからなるエネルギー源としてガスプラズマを
    用いた珪素の製造方法。 2 二酸化珪素と固体還元剤とが、交互に最初は
    二酸化珪素と固体還元剤との混合物として、次に
    二酸化珪素を供給し、その供給を交互に繰り返す
    ことによつて供給される前記第1項に記載の方
    法。 3 二酸化珪素と固体還元剤との混合物中、二酸
    化珪素と固体還元剤との割合が、炭素が二酸化珪
    素に対し、化学量論的量より20%まで多くなる過
    剰のモル量になるように調節されている前記第2
    項に記載の方法。 4 二酸化珪素と固体還元剤との混合物中、二酸
    化珪素と固体還元剤との割合が、炭素が二酸化珪
    素に対し、化学量論的量より1〜10%の範囲まで
    多くなる過剰のモル量になるように調節されてい
    る前記第2項に記載の方法。 5 二酸化珪素の供給が、炭素と二酸化珪素を一
    緒にした割合が、本質的に全反応の化学量論的量
    になるように調節されている前記第2項に記載の
    方法。 6 二酸化珪素と固体還元剤とが一緒にした混合
    物として供給される前記第1項に記載の方法。
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