JPH0452272A - 蒸着装置の蒸着物除去装置 - Google Patents
蒸着装置の蒸着物除去装置Info
- Publication number
- JPH0452272A JPH0452272A JP16356890A JP16356890A JPH0452272A JP H0452272 A JPH0452272 A JP H0452272A JP 16356890 A JP16356890 A JP 16356890A JP 16356890 A JP16356890 A JP 16356890A JP H0452272 A JPH0452272 A JP H0452272A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film thickness
- vapor
- target
- correcting plate
- correction plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract 4
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 claims abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 238000005452 bending Methods 0.000 abstract description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 25
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、蒸着装置の蒸着物除去装置に関するもので
ある。
ある。
まず、本発明の従来技術について、本発明の一実施例を
示す第１図を用いて説明する。
示す第１図を用いて説明する。
従来の蒸着装置においては、第１図に示すような、円筒
形状を有し、蒸着物質からなるターゲット１にレーザ光
線等のエネルギー容量の高い加熱源ビームを照射するこ
とにより、ターゲットをスポット加熱して、蒸着物質の
蒸気を発生させている。このとき、ターゲット１は回転
しながら、図中のＸ方向に往復運動するようにしており
、これにより、ターゲットの一点のみがやせることなく
蒸着が連続的に進行する。
形状を有し、蒸着物質からなるターゲット１にレーザ光
線等のエネルギー容量の高い加熱源ビームを照射するこ
とにより、ターゲットをスポット加熱して、蒸着物質の
蒸気を発生させている。このとき、ターゲット１は回転
しながら、図中のＸ方向に往復運動するようにしており
、これにより、ターゲットの一点のみがやせることなく
蒸着が連続的に進行する。
そして、このようにして発生した物質蒸気は膜厚補正板
５によりその膜厚が均一になるように被蒸着物４上に蒸
着される。
５によりその膜厚が均一になるように被蒸着物４上に蒸
着される。
ところで、従来はこの膜厚補正板に付着する蒸着物をそ
の都度掃除しており、膜厚補正板に付着力減少用にコー
ティング（テフロン、二硫化モリブデン、マイカなど）
を施して付着除去の簡易化などが施されている程度であ
った。
の都度掃除しており、膜厚補正板に付着力減少用にコー
ティング（テフロン、二硫化モリブデン、マイカなど）
を施して付着除去の簡易化などが施されている程度であ
った。
あるいは、特開昭５７−２１０９７３号公報に示される
ように、剥離可能な多層に積層された防着板を設けたも
のもある。
ように、剥離可能な多層に積層された防着板を設けたも
のもある。
〔発明が解決しようとする課題］
従来の付着力減少用コーティングあるいは剥離可能な多
層に積層した防着板では長時間の成膜で膜厚分布に影響
を及ぼすほどにＷＩＷ−補正板に堆積がすすみ、頻繁に
真空解除、メンテナンス、真空減圧を実施する必要があ
り、装置の稼働率、生産性やメンテナンスの頻繁さなど
の問題があった。
層に積層した防着板では長時間の成膜で膜厚分布に影響
を及ぼすほどにＷＩＷ−補正板に堆積がすすみ、頻繁に
真空解除、メンテナンス、真空減圧を実施する必要があ
り、装置の稼働率、生産性やメンテナンスの頻繁さなど
の問題があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、連続長時間の稼働、生産をメンテナンス不要
で実施することができる蒸着装置の蒸着物除去装置を得
ることを目的としている。
たもので、連続長時間の稼働、生産をメンテナンス不要
で実施することができる蒸着装置の蒸着物除去装置を得
ることを目的としている。
この発明に係る蒸着装置の蒸着物除去装置は、ターゲッ
ト移動機構に蒸着物の除去機構の外力発注ローラを設置
することにより、ターゲットの動作に追従し、膜厚補正
板上を移動しながら弾性変形を与え、膜厚補正板に付着
する１着物の除去機能を持たせたものである。
ト移動機構に蒸着物の除去機構の外力発注ローラを設置
することにより、ターゲットの動作に追従し、膜厚補正
板上を移動しながら弾性変形を与え、膜厚補正板に付着
する１着物の除去機能を持たせたものである。
この発明における蒸着装置の蒸着物除去装置は、ターゲ
ット移動機構に追従動作する外力発生ローラにより膜厚
補正板に外力を与えて変形させることにより、膜厚補正
板と膜厚補正板に付着している蒸着物の境界面からの剥
離、および蒸着物（脆性物）の破壊を促すことにより蒸
着物の除去を行う。
ット移動機構に追従動作する外力発生ローラにより膜厚
補正板に外力を与えて変形させることにより、膜厚補正
板と膜厚補正板に付着している蒸着物の境界面からの剥
離、および蒸着物（脆性物）の破壊を促すことにより蒸
着物の除去を行う。
以下、この発明の実施例を図について説明する。
第１図、第２図は本発明の一実施例による蒸着装置の蒸
着物除去装置を示し、図において、１は蒸着物母材のタ
ーゲット、２はターゲラ）１を蒸発させるための加熱源
ビーム、３は加熱源ビーム２によりターゲット１から蒸
発された粒子、４は蒸発された粒子３を蒸着せしめる被
蒸着物、５はターゲット１と被蒸着物４との間に位置し
、第１図のように二辺端を固定して配置された膜厚補正
板、６は膜厚補正板５に堆積した蒸着物、７は堆積した
蒸着物６を除去するための、ターゲットの移動部と一体
の外力発生ローラである。
着物除去装置を示し、図において、１は蒸着物母材のタ
ーゲット、２はターゲラ）１を蒸発させるための加熱源
ビーム、３は加熱源ビーム２によりターゲット１から蒸
発された粒子、４は蒸発された粒子３を蒸着せしめる被
蒸着物、５はターゲット１と被蒸着物４との間に位置し
、第１図のように二辺端を固定して配置された膜厚補正
板、６は膜厚補正板５に堆積した蒸着物、７は堆積した
蒸着物６を除去するための、ターゲットの移動部と一体
の外力発生ローラである。
次に動作について説明する。
ターゲット１は加熱ビーム２の照射を受けることにより
法線方向Ｚに膜厚分布をもった蒸発粒子３を広範囲に飛
散させ、膜厚補正板５を第２図のように一方向に通過中
の被蒸着物４上に蒸着されるが、同じように膜厚補正板
５上にも蒸着され、長時間蒸着におよぶと蒸着領域内以
上に突出して膜厚分布に影響を与える。
法線方向Ｚに膜厚分布をもった蒸発粒子３を広範囲に飛
散させ、膜厚補正板５を第２図のように一方向に通過中
の被蒸着物４上に蒸着されるが、同じように膜厚補正板
５上にも蒸着され、長時間蒸着におよぶと蒸着領域内以
上に突出して膜厚分布に影響を与える。
この膜厚分布に与える影響を防ぐため加工室内に設置し
た外力発生ローラ７により膜厚補正板５に局所的な薄板
の曲げ変形を弾性変位内で発生させ、膜厚補正板５と堆
積した蒸着物６の境界面からの剥離、および堆積した蒸
着物６の破壊を促すことにより膜厚分布に影響を与える
蒸着物６を除去する。
た外力発生ローラ７により膜厚補正板５に局所的な薄板
の曲げ変形を弾性変位内で発生させ、膜厚補正板５と堆
積した蒸着物６の境界面からの剥離、および堆積した蒸
着物６の破壊を促すことにより膜厚分布に影響を与える
蒸着物６を除去する。
なお、外力発生ローラフの動作は図には示していないが
、一定あるいは変動荷重を加えることができる。
、一定あるいは変動荷重を加えることができる。
なお、上記実施例ではカバー、膜厚補正板に外力発生装
置により変形を与えているが、カバー膜厚補正板上にゴ
ムのようなシートを覆わせてシート自体の変形で行って
も良い。
置により変形を与えているが、カバー膜厚補正板上にゴ
ムのようなシートを覆わせてシート自体の変形で行って
も良い。
なお、上記実施例の外力発生ローラはターゲット移動部
と一体で示したが、別個駆動源を用い適当なタイミング
で動作をさせても良い。
と一体で示したが、別個駆動源を用い適当なタイミング
で動作をさせても良い。
以上のように、この発明に係る蒸着装置の蒸着物除去装
置によれば、加工室内に外力発生ローラの蒸着物除去機
構を設置することにより蒸着物を除去することが簡単に
行え、長時間の膜厚均一の安定性の向上ならびに長時間
の連続成膜を可能とする効果があり、メンテナンス頻度
の大幅な減少が行える。
置によれば、加工室内に外力発生ローラの蒸着物除去機
構を設置することにより蒸着物を除去することが簡単に
行え、長時間の膜厚均一の安定性の向上ならびに長時間
の連続成膜を可能とする効果があり、メンテナンス頻度
の大幅な減少が行える。
第１図はこの発明の一実施例による蒸着物除去方法を示
す平面図、第２図は第１図の側面図である。 図において、１はターゲット、２は加熱源ビーム、３は
蒸発された粒子、４は被蒸着物、５は膜厚補正板、６は
堆積した蒸着物、７は外力ローラである。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
す平面図、第２図は第１図の側面図である。 図において、１はターゲット、２は加熱源ビーム、３は
蒸発された粒子、４は被蒸着物、５は膜厚補正板、６は
堆積した蒸着物、７は外力ローラである。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- （１）加熱ビーム固定機構およびターゲット移動機構を
有し、蒸着物母材のターゲットにエネルギー容量の高い
加熱源ビームを照射して蒸発粒子を飛散せしめ、被蒸着
物を連続的に移動させて膜厚補正板により膜厚の均一化
を行う蒸着装置において、 膜厚補正板に付着、堆積して膜厚分布に影響を与える蒸
着物の除去を膜厚補正板にターゲット移動機構と連動し
て動作する外力発生ローラで弾性的変形を与えることに
より膜厚補正板に蒸着された蒸着物の除去を行うことを
特徴とする蒸着装置の蒸着物除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16356890A JPH0452272A (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 蒸着装置の蒸着物除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16356890A JPH0452272A (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 蒸着装置の蒸着物除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0452272A true JPH0452272A (ja) | 1992-02-20 |
Family
ID=15776385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16356890A Pending JPH0452272A (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 蒸着装置の蒸着物除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0452272A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100740537B1 (ko) * | 2005-12-01 | 2007-07-19 | 주식회사 진광화학 | 솔벤트 잉크젯 프린팅 배너원단용 수용성 코팅조성물 및이를 이용한 배너원단 |
-
1990
- 1990-06-20 JP JP16356890A patent/JPH0452272A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100740537B1 (ko) * | 2005-12-01 | 2007-07-19 | 주식회사 진광화학 | 솔벤트 잉크젯 프린팅 배너원단용 수용성 코팅조성물 및이를 이용한 배너원단 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2205221A1 (en) | Plasma cvd method and apparatus | |
| JP2006521461A (ja) | 基板クリーニング装置を有するコータおよびそのようなコータを用いたコーティング堆積法 | |
| JPH10229058A (ja) | コーティング付き堆積チャンバ装置 | |
| EP0888463A1 (de) | Einrichtung zum vakuumbeschichten von schüttgut | |
| JP2655094B2 (ja) | 電子銃蒸着装置 | |
| JPH0452272A (ja) | 蒸着装置の蒸着物除去装置 | |
| EP0637901A1 (en) | Processing method using fast atom beam | |
| JPS6156277A (ja) | 成膜装置 | |
| JP2000328248A (ja) | 薄膜形成装置のクリーニング方法及び薄膜形成装置 | |
| JP2694058B2 (ja) | アーク蒸着装置 | |
| JP5493402B2 (ja) | 薄膜、フォトマスクブランク、及びそれらを成膜する方法並びに成膜装置 | |
| JPS62287068A (ja) | イオンビ−ム蒸着装置 | |
| RU2272088C1 (ru) | Способ вакуумного ионно-плазменного нанесения многослойных композитов, содержащих сложные карбиды | |
| JPH02205666A (ja) | スパッタ膜の形成方法 | |
| JPH05279844A (ja) | レーザーアブレーション装置 | |
| KR100609378B1 (ko) | 박막 형성 장치용 오염 방지판 및 그 제조 방법 | |
| JPS6328861A (ja) | 表面処理装置 | |
| JPH02164784A (ja) | セラミック回路基板の製造方法 | |
| JPH06949B2 (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
| JPH08100256A (ja) | 成膜装置 | |
| JPS62224935A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JPH0681146A (ja) | マグネトロン型スパッタ装置 | |
| JP3657026B2 (ja) | スパッタ装置 | |
| JPS6324063A (ja) | 物理的蒸着処理設備における非蒸着面への蒸発物付着防止装置 | |
| JPS5816065A (ja) | 真空メツキ装置 |