JPH0452183B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0452183B2 JPH0452183B2 JP59000980A JP98084A JPH0452183B2 JP H0452183 B2 JPH0452183 B2 JP H0452183B2 JP 59000980 A JP59000980 A JP 59000980A JP 98084 A JP98084 A JP 98084A JP H0452183 B2 JPH0452183 B2 JP H0452183B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- discharge current
- mechanical shutter
- control circuit
- oscillation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 16
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はガスレーザ加工装置に関するものであ
る。
る。
従来例の構成とその問題点
従来のガスレーザ加工装置は第１図に示すよう
に、レーザ管１とこのレーザ管１内の放電電流を
供給する高圧直流電源２、発振制回路３およびメ
カニカルシヤツタ４を備えたレーザ発振装置を有
し、反射鏡５を有する外部光学系を用いて加工テ
ーブル６上の被加工物７までレーザ光８を導き、
加工テーブル操作盤９により加工テーブル６を可
動させ、被加工物７の加工を行つていた。そして
加工時間以外はレーザ発振を停止させたり、メカ
ニカルシヤツタを閉じて機械的にレーザ光を遮断
していた。また加工に際して、レーザ光の出力の
安定性が要求されるが、そのためには前記レーザ
発振装置の安定性が要求される。ところが、放電
を起こさせ、放電電流を多くすると、レーザ発振
装置全体に冷却系統を組み込んでおいても系全体
の温度上昇は避けられず、共振器の熱膨張によ
り、共振器にわずかな動きを生じ、ミクロンオー
ダーの精度を要求される共振器にとつて不安定と
なり、ひいてはレーザ光の出力の変動およびモー
ドの変化を起こす原因となつていた。特にレーザ
発振装置の発振を長時間停止したり、長時間放電
電流を多く流したり、変化を大きくすると、レー
ザ光の安定性を悪くする原因となり、従来のガス
レーザ加工装置のように、加工時間以外の時間に
レーザ発振を停止させたり、加工時の設定放電電
流のままでメカニカルシヤツタでレーザ光を受け
た状態にしておくと、前記共振器を不安定なもの
とし、レーザ光の安定性を悪くする欠点を有して
いた。
に、レーザ管１とこのレーザ管１内の放電電流を
供給する高圧直流電源２、発振制回路３およびメ
カニカルシヤツタ４を備えたレーザ発振装置を有
し、反射鏡５を有する外部光学系を用いて加工テ
ーブル６上の被加工物７までレーザ光８を導き、
加工テーブル操作盤９により加工テーブル６を可
動させ、被加工物７の加工を行つていた。そして
加工時間以外はレーザ発振を停止させたり、メカ
ニカルシヤツタを閉じて機械的にレーザ光を遮断
していた。また加工に際して、レーザ光の出力の
安定性が要求されるが、そのためには前記レーザ
発振装置の安定性が要求される。ところが、放電
を起こさせ、放電電流を多くすると、レーザ発振
装置全体に冷却系統を組み込んでおいても系全体
の温度上昇は避けられず、共振器の熱膨張によ
り、共振器にわずかな動きを生じ、ミクロンオー
ダーの精度を要求される共振器にとつて不安定と
なり、ひいてはレーザ光の出力の変動およびモー
ドの変化を起こす原因となつていた。特にレーザ
発振装置の発振を長時間停止したり、長時間放電
電流を多く流したり、変化を大きくすると、レー
ザ光の安定性を悪くする原因となり、従来のガス
レーザ加工装置のように、加工時間以外の時間に
レーザ発振を停止させたり、加工時の設定放電電
流のままでメカニカルシヤツタでレーザ光を受け
た状態にしておくと、前記共振器を不安定なもの
とし、レーザ光の安定性を悪くする欠点を有して
いた。
発明の目的
本発明は前記従来の欠点を除去するもので、加
工時、いかなる放電電流条件であつても、加工時
間以外は放電電流を一定値に設定すると同時にメ
カニカルシヤツタによりレーザ光を受けるメカニ
カルシヤツタの開閉に連動して放電電流を切換え
調整することを目的とするものである。
工時、いかなる放電電流条件であつても、加工時
間以外は放電電流を一定値に設定すると同時にメ
カニカルシヤツタによりレーザ光を受けるメカニ
カルシヤツタの開閉に連動して放電電流を切換え
調整することを目的とするものである。
発明の構成
そのための構成として、本発明はレーザ管とこ
のレーザ管内の放電電流を供給する高圧直流電
源、発振制御回路、およびメカニカルシヤツタを
備えたレーザ発振装置と、加工テーブルを有する
ガスレーザ加工装置において、前記メカニカルシ
ヤツタと前記発振制御回路とを連動させ、加工時
間以外は前記放電電流を設定値に調整すると同時
に前記メカニカルシヤツタを閉成して前記設定放
電電流により得られるレーザ光を受け、かつメカ
ニカルシヤツタの開閉に連動して設定放電電流と
加工条件に対応する電流とを切換える構成とした
ものである。
のレーザ管内の放電電流を供給する高圧直流電
源、発振制御回路、およびメカニカルシヤツタを
備えたレーザ発振装置と、加工テーブルを有する
ガスレーザ加工装置において、前記メカニカルシ
ヤツタと前記発振制御回路とを連動させ、加工時
間以外は前記放電電流を設定値に調整すると同時
に前記メカニカルシヤツタを閉成して前記設定放
電電流により得られるレーザ光を受け、かつメカ
ニカルシヤツタの開閉に連動して設定放電電流と
加工条件に対応する電流とを切換える構成とした
ものである。
この構成により、加工時間以外も一定放電によ
り共振器を一定温度に保ち得、前記共振器を安定
にすることにより、出力変動のない安定したレー
ザ光を取り出すことができる。
り共振器を一定温度に保ち得、前記共振器を安定
にすることにより、出力変動のない安定したレー
ザ光を取り出すことができる。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について図面の第２図
に沿つて説明する。１，２，３，４，５，６，
７，８，９はそれぞれ従来と同様のレーザ管、高
圧直流電源、発振制御回路、メカニカルシヤツ
タ、反射鏡、加工テーブル、被加工物、レーザ
光、加工テーブル操作盤である。そして加工に際
し、放電電流は50ｍＡ〜300ｍＡの範囲内にて調
整されるが、非加工時は放電を停止することな
く、メカニカルシヤツタ４を閉とする信号を発振
制御回路３に送り、放電電流を100ｍＡに設定し
たものである。これにより共振器全体の温度変化
がほとんどなく、前記共振器を安定に保持するこ
とができる。
に沿つて説明する。１，２，３，４，５，６，
７，８，９はそれぞれ従来と同様のレーザ管、高
圧直流電源、発振制御回路、メカニカルシヤツ
タ、反射鏡、加工テーブル、被加工物、レーザ
光、加工テーブル操作盤である。そして加工に際
し、放電電流は50ｍＡ〜300ｍＡの範囲内にて調
整されるが、非加工時は放電を停止することな
く、メカニカルシヤツタ４を閉とする信号を発振
制御回路３に送り、放電電流を100ｍＡに設定し
たものである。これにより共振器全体の温度変化
がほとんどなく、前記共振器を安定に保持するこ
とができる。
発明の効果
本発明によれば、加工時いかなる放電電流条件
であつても、加工時間以外はメカニカルシヤツタ
の閉と同時に設定放電電流とする連動機能によ
り、レーザ発振装置全体の安定性を高め、レーザ
出力の安定性およびレーザ出力モードの安定性を
高める優れた効果を奏するものである。
であつても、加工時間以外はメカニカルシヤツタ
の閉と同時に設定放電電流とする連動機能によ
り、レーザ発振装置全体の安定性を高め、レーザ
出力の安定性およびレーザ出力モードの安定性を
高める優れた効果を奏するものである。
第１図は従来のガスレーザ加工装置の信号系統
図、第２図は本発明の一実施例における信号系統
図である。 １……レーザ管、２……高圧直流電源、３……
発振制御回路、４……メカニカルシヤツタ、５…
…反射鏡、６……加工テーブル、７……被加工
物、８……レーザ光、９……加工テーブル操作
盤。
図、第２図は本発明の一実施例における信号系統
図である。 １……レーザ管、２……高圧直流電源、３……
発振制御回路、４……メカニカルシヤツタ、５…
…反射鏡、６……加工テーブル、７……被加工
物、８……レーザ光、９……加工テーブル操作
盤。
Claims (1)
- １ レーザ管とこのレーザ管内の放電電流を供給
する高圧直流電源、発振制御回路およびメカニカ
ルシヤツタを備えたレーザ発振装置と、加工テー
ブルを有するガスレーザ加工装置において、前記
メカニカルシヤツタと前記発振制御回路とを連動
させ、加工時間以外は前記放電電流を設定値に調
整すると同時に前記メカニカルシヤツタを閉成し
て前記設定放電電流により得られるレーザ光を受
け、かつ前記メカニカルシヤツタの開閉に連動し
て設定放電電流と加工条件に対応する電流とを切
換える構成としたガスレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59000980A JPS60145296A (ja) | 1984-01-06 | 1984-01-06 | ガスレ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59000980A JPS60145296A (ja) | 1984-01-06 | 1984-01-06 | ガスレ−ザ加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60145296A JPS60145296A (ja) | 1985-07-31 |
| JPH0452183B2 true JPH0452183B2 (ja) | 1992-08-21 |
Family
ID=11488752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59000980A Granted JPS60145296A (ja) | 1984-01-06 | 1984-01-06 | ガスレ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60145296A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4894388A (ja) * | 1972-03-13 | 1973-12-05 | ||
| JPS5151184U (ja) * | 1974-10-16 | 1976-04-19 |
-
1984
- 1984-01-06 JP JP59000980A patent/JPS60145296A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4894388A (ja) * | 1972-03-13 | 1973-12-05 | ||
| JPS5151184U (ja) * | 1974-10-16 | 1976-04-19 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60145296A (ja) | 1985-07-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |