JPH044813Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は半導体製造工程などから排出される排
ガスをアルカリ水溶液に吸収して除去処理する湿
式除害装置の改良に関する。

〔従来の技術〕

例えば半導体製造工程から排出される排ガス中
にはシラン、ジボラン、アルシン、ホスフイン、
ジクロルシラン等有毒または強可燃性ガスが含ま
れるため大気放出前に除去処理する必要がある。
このうち、アルカリ水溶液と反応するシラン、ジ
ボラン、ジクロルシラン等はアルカリ水溶液に吸
収して除去処理する湿式除害装置によつて処理さ
れているのが普通である。

第２図は従来の湿式除害装置の一例を示す説明
図で、１は気液接触筒であり、その内部にアルカ
リ水溶液として苛性ソーダ水溶液２が貯液され、
その上方には気液接触を良好にするためのアイボ
ールなどの充填材３が充填され、更にその上方に
は該気液接触筒１の上部に連設してガス排出管４
が設けられている。

次に５は、ガス導入管であり、半導体製造工程
からの排ガス導入管６と、稀釈用の不活性ガス導
入管７が連設されると共にその開口先端５ａが前
記気液接触筒１の側壁を下方斜め方向に貫通さ
れ、苛性ソーダ水溶液２の液面と、充填材３との
間に位置されている。

また８は循環ポンプ、９は吸入管、１０は吐出
管であり、該吐出管１０の先端部には噴霧ノズル
１１が設けられている。

上述の如く構成した従来の湿式除害装置の使用
方法は、まず循環ポンプ８を運転して気液接触筒
１の下部から苛性ソーダ水溶液２を抜き出して充
填材３上方に設けた噴霧ノズル１１からシヤワー
状に噴霧滴下する。これにより該滴下した苛性ソ
ーダ水溶液は充填材３を流下しつつ再び気液接触
筒１下部に戻つて貯液され循環する。次に、排ガ
ス導入管６を介して排ガスを、一方不活性ガス導
入管７を介して窒素ガス等の不活性ガスをそれぞ
れガス導入管５に導入し混合稀釈した被処理ガス
を気液接触筒１内に導入する。気液接触筒１内に
導入された被処理ガスは充填材３を上昇する過程
で該ガス中のシラン、ジボラン、ジクロルシラン
等の還元性成分が苛性ソーダ水溶液と反応して吸
収除去され、未吸収の残ガスはガス排出管４から
導出し、更に必要により他の成分を除去するため
の除害装置（図示せず）に送られて無害化処理さ
れた後大気に放出される。

なお、上記説明において排ガスに窒素ガスを混
合し稀釈するのは、排ガス中にシランガス等の強
可燃性ガスが含まれていると気液接触筒１内で大
気中の酸素と反応し爆発的に燃焼して危険なので
燃焼下限濃度以下にするためであり、また、一般
に強可燃性成分が含まれていない場合であつて
も、密閉容器内に高濃度の排ガスを導入するのは
危険なので窒素ガスにより稀釈した後処理するた
めである。また第２図では窒素ガスをガス導入管
５に直接導入しているが、これを排ガス導入管６
に導入して混合稀釈した後ガス導入管５に導入す
る構成としたものもある。

〔考案が解決しようとする問題点〕

上述の如く、従来の湿式除害装置では排ガス中
の有害成分を除去できるが、処理操作を継続した
場合、前記ガス導入管５の開口端５ａに粒状の固
型物が付着し、該開口端５ａを次第に閉塞してつ
いには使用不能に至る不都合があつた。該固型物
の成分組成についてはシラン、ジボラン、ジクロ
ルシラン等の酸化物またはそのアルカリ塩と考え
られ、生成原因としてはこれら各成分が前記開口
端５ａでアルカリ水溶液の飛沫と反応するためで
あろうと推定される。従来装置も前記したように
ガス導入管５の開口端５ａが若干下向き斜め方向
に貫通設置されているのは、この弊害を避けるた
めであるが、このようにしても前記固型物の生成
を完全に防止できなかつた。

このため従来の湿式除害装置では、ガス導入管
５の開口端５ａに固型物がある程度付着したら装
置の運転を停止して該固型物を除去することとな
り、手間がかかると共に該除去作業中は排ガス処
理を行なえないという不都合が避られなかつた。

本考案は上記不都合に鑑みて種々考究した結
果、この種の湿式除害装置では排ガスを予め不活
性ガスで稀釈する必要のあること、および従来装
置は単に稀釈用としてのみ使用されていた点に着
目し、稀釈用不活性ガスに、前記固型物の生成を
防止する作用をも行なわせるように工夫した湿式
除害装置を提供するものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案の特徴とするところは、従来の湿式除害
装置において、前記ガス導入管の少なくとも先端
部を、中心に不活性ガス流路、その回りに排ガス
流路を配設した内外二重管に構成すると共に、外
管の先端部を縮径し、かつ内管の開口端を前記縮
径した外管開口端の近傍に位置するように構成し
たことにある。

〔実施例〕

以下第１図を用いて本考案の一実施例を説明す
るが、図中第２図と同一構成部分には同一符号を
付して説明を省略する。

第１図は本考案に係る湿式除害装置におけるガ
ス導入管５付近の拡大断面図であり、ガス導入管
５は排ガス供給用外管２０と該外管２０内に設け
られる不活性ガス供給用内管２１の二重管構造と
なつている。又、外管２０の開口端２０ａ近傍は
縮径されると共に、内管２１の開口端２１ａは外
管２０の開口端２０ａ近くに位置される。なお、
ガス導入管５の気液接触筒１への位置関係は前記
と同様である。

上述の如き構成によれば、排ガスは排ガス導入
管５の外管２０内を、不活性ガスは内管２１内を
それぞれ流れて導入管５先端部で混合し、排ガス
は稀釈されて従来と同様気液接触筒１内へ導入さ
れる。そして、特に上記構成によれば、外管２０
の開口端２０ａが縮径され、かつ該開口端２０ａ
の近傍に内管２１の開口端２１ａが位置している
ので、不活性ガスが内管２１から噴出するときに
効率よくエジエクター効果が発生し、排ガスはこ
のエジエクター効果により不活性ガスに吸引同伴
されて外管２０の開口端２０ａから気液接触筒１
内に噴出して、アルカリ水溶液の飛沫を逸散せし
めるから、アルカリ水溶液の飛沫は外管開口端２
０ａ内に侵入せず、前記従来の如くガス導入管５
の先端開口部に固型物が生成されるようなことが
ない。この場合一般に半導体製造工程の排ガス導
入管６は排気系統の出口側に連設しており極めて
低い圧力であるので、上記の如く不活性ガスによ
るエジエクター効果を利用することにより望まし
い結果が得られる。

なお、ガス導入管５が排ガス供給用外管２０内
に不活性ガス供給用内管２１を設けた二重管であ
る構成は、ガス導入管の全長にわたつても良い
が、少なくともガス導入管５の開口端近傍を二重
管とすれば前記効果が得られる。

〔考案の効果〕

上述の如く、本考案に係る湿式除害装置では、
ガス導入管を不活性ガス供給用の内管と排ガス供
給用の外管との内外二重管に構成し、該外管の先
端部を縮径すると共に、前記内管の開口端を外管
の開口端近傍に配置したので、前記内管から噴出
する不活性ガスによりエジエクター効果が発生
し、このエジエクター効果により外管を流れる圧
力の低い排ガスが不活性ガスに吸引同伴されて気
液接触筒内に噴出するから、アルカリ水溶液の飛
沫がガス導入管の先端部に入り込まず、したがつ
て、ガス導入管の先端開口部に粒状の反応固型物
が付着せず、安定した継続使用が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例を示す湿式除害装置
の要部拡大断面図、第２図は従来の湿式除害装置
の説明図である。 １……気液接触筒、２……アルカリ水溶液、３
……充填材、４……ガス排出管、５……ガス導入
管、６……排ガス導入管、７……不活性ガス導入
管、８……循環ポンプ、９……吸入管、１０……
吐出管、１１……ノズル、２０……排ガス供給用
外管、２０ａ……開口端、２１……不活性ガス供
給用内管、２１ａ……開口端。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. アルカリ水溶液が貯液され、上部にガス排出管
   を、下方に側壁を貫通して半導体製造工程からの
   排ガスを不活性ガスにより稀釈されたのち導入す
   るガス導入管を配設すると共に、前記貯液された
   アルカリ水溶液を抜き出して筒体上部に循環供給
   するアルカリ水溶液循環系を設けた気液接触筒を
   備えてなる湿式除害装置において、前記ガス導入
   管の少なくとも先端部を、中心に不活性ガス流
   路、その回りに排ガス流路を配設した内外二重管
   に構成すると共に、外管の先端部を縮径し、かつ
   内管の開口端を前記縮径した外管開口端の近傍に
   位置するよう構成してなることを特徴とする湿式
   除害装置。