JPH0447512A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH0447512A JPH0447512A JP15955290A JP15955290A JPH0447512A JP H0447512 A JPH0447512 A JP H0447512A JP 15955290 A JP15955290 A JP 15955290A JP 15955290 A JP15955290 A JP 15955290A JP H0447512 A JPH0447512 A JP H0447512A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 49
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 claims abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910016570 AlCu Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 229910003962 NiZn Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/3922—Arrangements in which the active read-out elements are coupled to the magnetic flux of the track by at least one magnetic thin film flux guide the guide being interposed in the flux path the read-out elements being disposed in magnetic shunt relative to at least two parts of the flux guide structure
- G11B5/3925—Arrangements in which the active read-out elements are coupled to the magnetic flux of the track by at least one magnetic thin film flux guide the guide being interposed in the flux path the read-out elements being disposed in magnetic shunt relative to at least two parts of the flux guide structure the two parts being thin films
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光アシス）［気記録される情報の再生に使用
する磁気ヘッド及びその製造方法に関するものである。
する磁気ヘッド及びその製造方法に関するものである。
近年、情報の記録、再生、消去の可能な記録媒体として
の光磁気ディスクの開発が進められている。光磁気ディ
スクでは、通常、垂直磁化膜を使用し、レーザ光の照射
により昇温させて保磁力を低下させた状態で上記垂直磁
化膜に膜面と垂直な方向の外部磁場を印加することによ
り、磁化の向きを外部磁場の向きと一致させ、情報の記
録を行うようになっている。一方、再生時には、上記垂
直磁化膜にレーザ光を照射した際に、いわゆる磁気光学
効果により、磁化に向きに応じて、反射光の偏光面の回
転方向が相違する現象に基づいて、情報の検出が行われ
る。
の光磁気ディスクの開発が進められている。光磁気ディ
スクでは、通常、垂直磁化膜を使用し、レーザ光の照射
により昇温させて保磁力を低下させた状態で上記垂直磁
化膜に膜面と垂直な方向の外部磁場を印加することによ
り、磁化の向きを外部磁場の向きと一致させ、情報の記
録を行うようになっている。一方、再生時には、上記垂
直磁化膜にレーザ光を照射した際に、いわゆる磁気光学
効果により、磁化に向きに応じて、反射光の偏光面の回
転方向が相違する現象に基づいて、情報の検出が行われ
る。
光磁気ディスクにおける記録方式には、大別して、一定
方向の外部磁場を連続的に印加しながら、記録すべき情
報に応じてレーザ光の強度を変調する光変調方式と、一
定強度のレーザ光を照射しながら、記録すべき情報に応
じて外部磁場の向きを反転させる磁界変調方式とがある
。そして、記録済の情報を書き換える際に、旧情報を消
去することなく、新情報を直接記録するオーバーライド
を実現できる方式としては、上記の磁界変調方式が有力
視されている。
方向の外部磁場を連続的に印加しながら、記録すべき情
報に応じてレーザ光の強度を変調する光変調方式と、一
定強度のレーザ光を照射しながら、記録すべき情報に応
じて外部磁場の向きを反転させる磁界変調方式とがある
。そして、記録済の情報を書き換える際に、旧情報を消
去することなく、新情報を直接記録するオーバーライド
を実現できる方式としては、上記の磁界変調方式が有力
視されている。
この磁界変調方式において、記録密度を向上させるため
に、ディスクの回転速度又は磁界変調の周波数を上昇さ
せると、記録値区長をディスク上でのレーザ光のスポッ
ト径より小さい０．３μｍ程度まで縮小することができ
るが、その場合、第４図に模式的に示すように、記録ピ
ットド１・・・の形成する磁区が円弧状又は三日月状に
なることが知られている（第１３回日本応用磁気学会学
術講演概要集（１９８９）、１９８頁参照）。
に、ディスクの回転速度又は磁界変調の周波数を上昇さ
せると、記録値区長をディスク上でのレーザ光のスポッ
ト径より小さい０．３μｍ程度まで縮小することができ
るが、その場合、第４図に模式的に示すように、記録ピ
ットド１・・・の形成する磁区が円弧状又は三日月状に
なることが知られている（第１３回日本応用磁気学会学
術講演概要集（１９８９）、１９８頁参照）。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記のように、記録ピットド１・・・が円弧
状になり、かつ、磁区長が短くなると、これをレーザ光
により再生する際に、レーザスポットが複数の記録ピッ
トドｌ・・・に跨がって照射されるので、個々の記録ビ
ット１の再生が行えなくなる問題がある。
状になり、かつ、磁区長が短くなると、これをレーザ光
により再生する際に、レーザスポットが複数の記録ピッ
トドｌ・・・に跨がって照射されるので、個々の記録ビ
ット１の再生が行えなくなる問題がある。
そこで、レーザ光を使用せずに、磁気ヘッドにより磁気
的に記録ピットド１・・・の情報を再生することも考え
られる。ところが、その場合、記録ピットド１・・・が
円弧状であるため、再生時に隣接する記録ピットド１間
でクロストークが生じやすく、かつ、再生信号出力も低
下し、正確な再生は不可能である。
的に記録ピットド１・・・の情報を再生することも考え
られる。ところが、その場合、記録ピットド１・・・が
円弧状であるため、再生時に隣接する記録ピットド１間
でクロストークが生じやすく、かつ、再生信号出力も低
下し、正確な再生は不可能である。
本発明に係る磁気ヘッドは、上記の課題を解決するため
に、光アシスト磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状
の磁区をなして記録される情報の再生に使用する磁気ヘ
ッドであって、基材上に形成され、上記記録媒体上の磁
区の形状に対応してほぼ円弧状に湾曲した磁気的ギャッ
プ部を有する薄膜コアと、上記磁気的ギャップ部から薄
膜コアを介して導かれる磁束に基づいて記録媒体上の情
報の検出を行う磁気抵抗効果素子とを備えている構成で
ある。
に、光アシスト磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状
の磁区をなして記録される情報の再生に使用する磁気ヘ
ッドであって、基材上に形成され、上記記録媒体上の磁
区の形状に対応してほぼ円弧状に湾曲した磁気的ギャッ
プ部を有する薄膜コアと、上記磁気的ギャップ部から薄
膜コアを介して導かれる磁束に基づいて記録媒体上の情
報の検出を行う磁気抵抗効果素子とを備えている構成で
ある。
なお、上記の磁気ヘッドの製造に際しては、上記基材上
にほぼ円弧状をなす湾曲部をエツチングにより形成した
後、基材上に上記湾曲部に対応した湾曲形状を有する磁
気的ギヤツブ部を備えた薄膜コアを形成するとともに、
上記磁気抵抗効果素子を薄膜により形成するようにする
ことが好適である。
にほぼ円弧状をなす湾曲部をエツチングにより形成した
後、基材上に上記湾曲部に対応した湾曲形状を有する磁
気的ギヤツブ部を備えた薄膜コアを形成するとともに、
上記磁気抵抗効果素子を薄膜により形成するようにする
ことが好適である。
［作 用］
上記した本発明の磁気ヘッドにおいては、記録媒体上の
磁区からの磁束が上記磁気的ギャップ部から磁気コアを
介して磁気抵抗効果素子に導かれ、この磁束の大きさに
応じて磁気抵抗効果素子の電気抵抗値が変化することに
基づいて、情報の再生が行われる。その場合、上記磁気
的ギヤ、ブ部が記録媒体上の磁区の形状に対応したほぼ
円弧状をなしているため、記録媒体上の隣接する複数の
磁区間でクロストークが生じることはなく、又、充分な
再生信号出力を得ることができるようになる。これによ
り、光アシスト磁気記録において、記録密度を高めた結
果、磁区がほぼ円弧状をなす場合にも、正確な再生が行
えるようになる。
磁区からの磁束が上記磁気的ギャップ部から磁気コアを
介して磁気抵抗効果素子に導かれ、この磁束の大きさに
応じて磁気抵抗効果素子の電気抵抗値が変化することに
基づいて、情報の再生が行われる。その場合、上記磁気
的ギヤ、ブ部が記録媒体上の磁区の形状に対応したほぼ
円弧状をなしているため、記録媒体上の隣接する複数の
磁区間でクロストークが生じることはなく、又、充分な
再生信号出力を得ることができるようになる。これによ
り、光アシスト磁気記録において、記録密度を高めた結
果、磁区がほぼ円弧状をなす場合にも、正確な再生が行
えるようになる。
一方、上記した磁気ヘッドの製造方法によれば、まず、
はぼ円弧形状をなす記録媒体上の磁区に対応した形状の
湾曲部を基材上に形成した後、上記基材上に磁気的ギャ
ップ部を有する薄膜コアを形成するようにしたので、磁
気的ギャップ部は記録媒体上の磁区の形状に対応したほ
ぼ円弧状とすることができる。
はぼ円弧形状をなす記録媒体上の磁区に対応した形状の
湾曲部を基材上に形成した後、上記基材上に磁気的ギャ
ップ部を有する薄膜コアを形成するようにしたので、磁
気的ギャップ部は記録媒体上の磁区の形状に対応したほ
ぼ円弧状とすることができる。
又、磁気抵抗効果素子は薄膜により形成することができ
る。
る。
〔実施例１］
本発明の一実施例を第１図乃至第２１図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
すれば、以下の通りである。
第２図に示すように、光アシスト磁気記録再生装置は、
基板５と、基板５上に形成された記録媒体としての記録
膜６と、記録膜６を保護する保護膜７とを含むディスク
８に記録及び再生を行うものであって、対物レンズ９を
介して記録膜６にレーザ光１０を照射する光ヘッドと、
浮上型磁気へラド１１とを備えている。浮上型磁気ヘッ
ド１１はサスペンション１２により支持され、ディスク
８の回転に伴ってディスク８の表面から浮上しながら記
録及び再生を行うようになっている。
基板５と、基板５上に形成された記録媒体としての記録
膜６と、記録膜６を保護する保護膜７とを含むディスク
８に記録及び再生を行うものであって、対物レンズ９を
介して記録膜６にレーザ光１０を照射する光ヘッドと、
浮上型磁気へラド１１とを備えている。浮上型磁気ヘッ
ド１１はサスペンション１２により支持され、ディスク
８の回転に伴ってディスク８の表面から浮上しながら記
録及び再生を行うようになっている。
第３図に示すように、基板５上には所定のピッチでグル
ープ２・２・・・とランド３・３・・・とが交互に形成
され、各ランド３に沿ってほぼ円弧状又は三日月状の磁
区をなす記録ピットド１・・・（第４図参照）が形成さ
れて情報の記録が行われるようになっている。
ープ２・２・・・とランド３・３・・・とが交互に形成
され、各ランド３に沿ってほぼ円弧状又は三日月状の磁
区をなす記録ピットド１・・・（第４図参照）が形成さ
れて情報の記録が行われるようになっている。
第５図に示すように、浮上型磁気ヘッド１１は、ディス
ク８上で滑走可能なスライダ１３に磁気ヘッド本体１４
を取り付けてなり、磁気ヘッド本体１４は磁気抵抗効果
に基づいて情報の再生を行う再生ヘッド部１５と、記録
用コイル３６が巻回された記録用磁極部３５とを備えて
いる。
ク８上で滑走可能なスライダ１３に磁気ヘッド本体１４
を取り付けてなり、磁気ヘッド本体１４は磁気抵抗効果
に基づいて情報の再生を行う再生ヘッド部１５と、記録
用コイル３６が巻回された記録用磁極部３５とを備えて
いる。
以下、再生ヘッド部１５について述べると、第１図（ａ
） （ｂ）に示すように、磁気コア１６（基材）はＮｉ
Ｚｎフェライト等からなり、この磁気コア１６上にはフ
ロント側薄膜コア１７とバック側薄膜コア１８とが所定
の間隔を隔てて形成されている。フロント側薄膜コア１
７の前端部と磁気コア１６との間には、非磁性材料から
なるギャップ層３７により、第１図（ｂ）の上下方向に
所定の幅を有する磁気的ギャップ部が設けられている。
） （ｂ）に示すように、磁気コア１６（基材）はＮｉ
Ｚｎフェライト等からなり、この磁気コア１６上にはフ
ロント側薄膜コア１７とバック側薄膜コア１８とが所定
の間隔を隔てて形成されている。フロント側薄膜コア１
７の前端部と磁気コア１６との間には、非磁性材料から
なるギャップ層３７により、第１図（ｂ）の上下方向に
所定の幅を有する磁気的ギャップ部が設けられている。
フロント側及びバック側薄膜コア１７・１８と磁気コア
１６の間には、絶縁層２０を介して磁気抵抗効果素子２
１が薄膜により形成され、この磁気抵抗効果素子２１か
らシグナルリード２２・２２が後方に引き出されている
。更に、磁気抵抗効果素子２１と磁気コア１６との間に
は、上方から見てほぼコ字形をなすバイアスリード２３
が絶縁層２０を介して設けられている。
１６の間には、絶縁層２０を介して磁気抵抗効果素子２
１が薄膜により形成され、この磁気抵抗効果素子２１か
らシグナルリード２２・２２が後方に引き出されている
。更に、磁気抵抗効果素子２１と磁気コア１６との間に
は、上方から見てほぼコ字形をなすバイアスリード２３
が絶縁層２０を介して設けられている。
フロント側及びバック側薄膜コア１７・１８上には、保
護層２４が形成され、保護層２４上には保護板２５が接
着されている。
護層２４が形成され、保護層２４上には保護板２５が接
着されている。
なお、第１４図（ｂ）等の図面から明らかなように、基
材としての役割を有する磁気コア１６に、予めほぼ円弧
状の凸部２６（湾曲部）が形成されることにより、フロ
ント側薄膜コア１７の前端部と磁気コア１６間の上記磁
気的ギャップ部（図示せず）は記録膜６上の記録ビット
１ （第４図参照）に対応したほぼ円弧状をなしている
。
材としての役割を有する磁気コア１６に、予めほぼ円弧
状の凸部２６（湾曲部）が形成されることにより、フロ
ント側薄膜コア１７の前端部と磁気コア１６間の上記磁
気的ギャップ部（図示せず）は記録膜６上の記録ビット
１ （第４図参照）に対応したほぼ円弧状をなしている
。
上記の構成において、記録時又は再生時にはディスク８
の回転に伴ってスライダ１３がディスク８の表面から浮
上する。この状態で、上記光ヘッドから記録膜６にレー
ザ光１０を照射しながら、記録用磁極部３５で発生され
る磁界を記録膜６に印加することにより、高記録密度で
ほぼ円弧状の記録ビソトト１・・・が記録膜６上に形成
される。
の回転に伴ってスライダ１３がディスク８の表面から浮
上する。この状態で、上記光ヘッドから記録膜６にレー
ザ光１０を照射しながら、記録用磁極部３５で発生され
る磁界を記録膜６に印加することにより、高記録密度で
ほぼ円弧状の記録ビソトト１・・・が記録膜６上に形成
される。
一方、再生時には、記録膜６上の各記録ピント１からの
磁束が、再生ヘッド部１５における磁気コア１６とフロ
ント側薄膜コア１７間のギャップ層３７からフロント側
薄膜コア１７を介して磁気抵抗効果素子２１に導かれる
。磁気抵抗効果素子２１はフロント側薄膜コア１７から
の磁束の大きさに応じて電気抵抗値が変化するので、例
えば、シグナルリード２２に定電流を流すことにより、
上記電気抵抗値の変化がシグナルリード２２の両端間の
電圧の変化として検出され、これにより、記録ビット１
として記録された情報の検出が行われる。
磁束が、再生ヘッド部１５における磁気コア１６とフロ
ント側薄膜コア１７間のギャップ層３７からフロント側
薄膜コア１７を介して磁気抵抗効果素子２１に導かれる
。磁気抵抗効果素子２１はフロント側薄膜コア１７から
の磁束の大きさに応じて電気抵抗値が変化するので、例
えば、シグナルリード２２に定電流を流すことにより、
上記電気抵抗値の変化がシグナルリード２２の両端間の
電圧の変化として検出され、これにより、記録ビット１
として記録された情報の検出が行われる。
なお、磁気抵抗効果素子２１の電気抵抗値Ｒの変化分を
ΔＲ，磁場の強さをＨとすると、ΔＲ／ＲとＨの間には
第２１図に示すようにほぼ２次曲線で近似される関係が
あるが、磁気抵抗効果素子２１の動作範囲を横軸方向の
原点近傍以外の領域に移動させるため、バイアスリード
２３に電流を流すことにより、磁気抵抗効果素子２１に
バイアス磁界が印加される。
ΔＲ，磁場の強さをＨとすると、ΔＲ／ＲとＨの間には
第２１図に示すようにほぼ２次曲線で近似される関係が
あるが、磁気抵抗効果素子２１の動作範囲を横軸方向の
原点近傍以外の領域に移動させるため、バイアスリード
２３に電流を流すことにより、磁気抵抗効果素子２１に
バイアス磁界が印加される。
次に、上記の浮上磁気ヘッド１１、特に、再生ヘッド部
１５の製造方法について説明する。
１５の製造方法について説明する。
再生ヘッド部１５の作製に際しては、まず、第６図に示
すように、ＮｉＺｎフェライト等からなる磁気コア１６
を用意し、この磁気コア１６の表面にほぼ円弧形状をな
すようにフォトレジスト膜２７を形成する（第７図）。
すように、ＮｉＺｎフェライト等からなる磁気コア１６
を用意し、この磁気コア１６の表面にほぼ円弧形状をな
すようにフォトレジスト膜２７を形成する（第７図）。
ここで、フォトレジスト膜２７の幅りは、第４図におけ
る記録ビットｌの幅とほぼ等しい値とする。
る記録ビットｌの幅とほぼ等しい値とする。
そして、フォトレジスト膜２７を介して、Ａｒガスによ
るイオンミリング等により磁気コア１６にエツチングを
施すと、第８図の如く、磁気コア１６の表面にほぼ円弧
状の凸部２６が形成される。なお、凸部２６０代わりに
、はぼ円弧状の凹部を形成するようにしても良い。又、
本実施例では、凸部２６を磁気コア１６の全長に渡って
設けるようにしたが、凸部２６は磁気コア１６における
ディスク８に対向する部位近傍のみに設けるようにして
も良い。
るイオンミリング等により磁気コア１６にエツチングを
施すと、第８図の如く、磁気コア１６の表面にほぼ円弧
状の凸部２６が形成される。なお、凸部２６０代わりに
、はぼ円弧状の凹部を形成するようにしても良い。又、
本実施例では、凸部２６を磁気コア１６の全長に渡って
設けるようにしたが、凸部２６は磁気コア１６における
ディスク８に対向する部位近傍のみに設けるようにして
も良い。
次に、第９図に示すように、上記ギャップ層上に５ｉｆ
ｔ等からなる絶縁層２０（例えば、膜厚１μｍ程度）を
スパッタリング等により形成する。
ｔ等からなる絶縁層２０（例えば、膜厚１μｍ程度）を
スパッタリング等により形成する。
引続き、絶縁層２０上にＡｌＣｕ （Ｃｕ５％）等の薄
膜をＥ Ｂ （ＥＬｅｃｔｒｏｎ Ｂｅａｍ）蒸着等で
形成した後、不要部位をリン酸、硝酸、酢酸等を用いた
湿式エツチング等で除去することにより、上方から見て
ほぼコ字形状をなすバイアスリード２３を形成する（第
１０図（ａ）〜（Ｃ））。
膜をＥ Ｂ （ＥＬｅｃｔｒｏｎ Ｂｅａｍ）蒸着等で
形成した後、不要部位をリン酸、硝酸、酢酸等を用いた
湿式エツチング等で除去することにより、上方から見て
ほぼコ字形状をなすバイアスリード２３を形成する（第
１０図（ａ）〜（Ｃ））。
次に、バイアスリード２３上に絶縁層２０（複数回に分
けて形成されるが、便宜上同一番号を付す）を形成（第
１１図（ａ）（ｂ）） した後、ＮｉＦｅ （Ｆｅが１
７．５重量％）の抵抗加熱蒸着及びリン酸、硝酸等によ
る湿式エツチング等により、はぼコ字形状をなすように
磁気抵抗効果素子２１（膜厚は、例えば、０．０２μｍ
以内程度）を形成する（第１２図（ａ）〜（Ｃ））。
けて形成されるが、便宜上同一番号を付す）を形成（第
１１図（ａ）（ｂ）） した後、ＮｉＦｅ （Ｆｅが１
７．５重量％）の抵抗加熱蒸着及びリン酸、硝酸等によ
る湿式エツチング等により、はぼコ字形状をなすように
磁気抵抗効果素子２１（膜厚は、例えば、０．０２μｍ
以内程度）を形成する（第１２図（ａ）〜（Ｃ））。
続いて、第１３図に示すように、磁気抵抗効果素子２１
の磁区状態を安定化させるために、磁気抵抗効果素子２
１の両端部近傍上に積層させて湿式メツキ（無電界）等
によりＣｏＰ層２８・２８を形成する。更に、ＣｏＰ層
２８・２８上にＡｌＣｕ （Ｃｕ５％）のＥＢ蒸着及び
湿式エツチング等によりシグナルリード２２・２２を形
成した後、再度、絶縁層２０を形成する（第１４図（ａ
）〜（Ｃ））。
の磁区状態を安定化させるために、磁気抵抗効果素子２
１の両端部近傍上に積層させて湿式メツキ（無電界）等
によりＣｏＰ層２８・２８を形成する。更に、ＣｏＰ層
２８・２８上にＡｌＣｕ （Ｃｕ５％）のＥＢ蒸着及び
湿式エツチング等によりシグナルリード２２・２２を形
成した後、再度、絶縁層２０を形成する（第１４図（ａ
）〜（Ｃ））。
次に、第１５図（ａ） （ｂ）に示すように、フロント
側薄膜コア１７の前端部及びバック側薄膜コア１８の後
端部に対応する領域３０・３１ （同図（ａｌに便宜上
ハツチングで示す）の絶縁層２０をリアクティブイオン
エツチング等により除去する。
側薄膜コア１７の前端部及びバック側薄膜コア１８の後
端部に対応する領域３０・３１ （同図（ａｌに便宜上
ハツチングで示す）の絶縁層２０をリアクティブイオン
エツチング等により除去する。
次に、領域３０・３１を含む部位にＰ−ＣＶＤ法でＳｉ
ｎ、を堆積させること等により、例えば、０．１μｍ以
内程度の膜厚でギャップ層３７を形成する。なお、領域
３１に形成されたギャップ層は必要に応じて除去する。
ｎ、を堆積させること等により、例えば、０．１μｍ以
内程度の膜厚でギャップ層３７を形成する。なお、領域
３１に形成されたギャップ層は必要に応じて除去する。
続イテ、第１６図（ａ）（ｂ）に示すように、ＮｉＦｅ
のスパッタリング等によりフロント側薄膜コア１７及び
ハック側薄膜コア１８（例えば、膜厚５〜６μｍ程度）
を形成する。これにより、フロント側薄膜コア１７の前
端部は上記のギャップ層３７からなる磁気的ギャップ部
を介して磁気コア１６と対向するとともに、フロント側
薄膜コア１７の後端部及びハック側薄膜コア１８の前端
部は、絶縁層２０を介して磁気抵抗効果素子２１の上方
に位置する。
のスパッタリング等によりフロント側薄膜コア１７及び
ハック側薄膜コア１８（例えば、膜厚５〜６μｍ程度）
を形成する。これにより、フロント側薄膜コア１７の前
端部は上記のギャップ層３７からなる磁気的ギャップ部
を介して磁気コア１６と対向するとともに、フロント側
薄膜コア１７の後端部及びハック側薄膜コア１８の前端
部は、絶縁層２０を介して磁気抵抗効果素子２１の上方
に位置する。
なお、フロント側薄膜コア１７の前端部の幅りは記録膜
６上でのレーザビームノ径程度（１，５μｍ以下）とさ
れる。一方、磁気抵抗効果素子２６の幅りは実際には上
記のＤよりかなり大きく、通常、数１０〜数１００μｍ
程度とされる。
６上でのレーザビームノ径程度（１，５μｍ以下）とさ
れる。一方、磁気抵抗効果素子２６の幅りは実際には上
記のＤよりかなり大きく、通常、数１０〜数１００μｍ
程度とされる。
更に、第１図（ｂ）に示すように、フロント側及びハッ
ク側薄膜コア１７・１８上に５ｉｎ２のスパッタリング
（厚み０．２〜０．３μｍ程度）及びＰ−ＣＶＤ法（厚
み８μｍ程度）等により保護層２４を形成する。その後
、第１図（ａ）にハンチングで示す領域３２・３２及び
３３・３３の保護層２４をエツチング等により除去し、
シグナルリード２２・２２及びバイアスリード２３の端
部を露出させ、これらの部位に外部との接続のためのワ
イヤボンディング等を行う。更に、保護層２４上に例え
ば、０．１〜０．２μｍ程度の厚みの接着剤層を介して
保護板２５を接着する。なお、上記の接着剤層がディス
ク８と対向する側の側面に漏洩しないように、保護層２
４の表面を充分平坦にしてから接着剤を塗布する。
ク側薄膜コア１７・１８上に５ｉｎ２のスパッタリング
（厚み０．２〜０．３μｍ程度）及びＰ−ＣＶＤ法（厚
み８μｍ程度）等により保護層２４を形成する。その後
、第１図（ａ）にハンチングで示す領域３２・３２及び
３３・３３の保護層２４をエツチング等により除去し、
シグナルリード２２・２２及びバイアスリード２３の端
部を露出させ、これらの部位に外部との接続のためのワ
イヤボンディング等を行う。更に、保護層２４上に例え
ば、０．１〜０．２μｍ程度の厚みの接着剤層を介して
保護板２５を接着する。なお、上記の接着剤層がディス
ク８と対向する側の側面に漏洩しないように、保護層２
４の表面を充分平坦にしてから接着剤を塗布する。
なお、記録用磁極部３５（第５図）は、磁気コア１６に
予めコイル巻回用溝３４・３４を形成することにより形
成できるものであるが、第６図〜第１６図（ａ）（ｂ）
及び第１図（ａ）（ｂ）では、簡単のため、記録用磁極
部３５は図示していない。
予めコイル巻回用溝３４・３４を形成することにより形
成できるものであるが、第６図〜第１６図（ａ）（ｂ）
及び第１図（ａ）（ｂ）では、簡単のため、記録用磁極
部３５は図示していない。
又、以上では、説明の便宜上、再生ヘッド部１５を１個
ずつ形成するものとしたが、第６図の段階で磁気コア１
６を複数の再生ヘッド部１５を同時に形成できる程度に
紙面と直交方向に長尺としておいて、第６図乃至第１６
図（ａ）（ｂ）及びそれに続く第１図（ａ）Ｃｂ）の工
程で複数の磁気ヘッド本体１４を同時に形成しく第１図
（ａ）の左右方向に配列される）、形成後に分離するよ
うにしても良い。
ずつ形成するものとしたが、第６図の段階で磁気コア１
６を複数の再生ヘッド部１５を同時に形成できる程度に
紙面と直交方向に長尺としておいて、第６図乃至第１６
図（ａ）（ｂ）及びそれに続く第１図（ａ）Ｃｂ）の工
程で複数の磁気ヘッド本体１４を同時に形成しく第１図
（ａ）の左右方向に配列される）、形成後に分離するよ
うにしても良い。
次に、スライダ１３の製造工程につき説明する。
第１７図に示すようなスライダ材料４１に対し、まず、
ヘッド挿入溝４２を形成する（第１８図）。続いて、ヘ
ッド挿入溝４２の両側にてレール形成溝４３・４３を形
成するとともに、スライダ材料４１の裏面側にレール形
成溝４３・４３と直交する方向に延びるサスペンション
取付は溝４４を形成する（第１９図）。
ヘッド挿入溝４２を形成する（第１８図）。続いて、ヘ
ッド挿入溝４２の両側にてレール形成溝４３・４３を形
成するとともに、スライダ材料４１の裏面側にレール形
成溝４３・４３と直交する方向に延びるサスペンション
取付は溝４４を形成する（第１９図）。
再生ヘッド部１５を含む磁気ヘッド本体１４及びスライ
ダ１３が構成されると、第２０図に示すように、スライ
ダ１３のヘッド挿入溝４２に磁気ヘッド本体１４が挿入
されて、例えば１５０°Ｃ程度に加熱された樹脂等によ
り接着される。続いて、第５図の如く、スライダ１３の
レール面４５・４５・・・が研削及びポリッシュされる
とともに、レール面４５・４５・・・における磁気ヘッ
ド本体１４と反対側の端部近傍に、ディスク８とスライ
ダ１３との間に空気を導入するための傾斜面４６・４６
・・・が形成される。
ダ１３が構成されると、第２０図に示すように、スライ
ダ１３のヘッド挿入溝４２に磁気ヘッド本体１４が挿入
されて、例えば１５０°Ｃ程度に加熱された樹脂等によ
り接着される。続いて、第５図の如く、スライダ１３の
レール面４５・４５・・・が研削及びポリッシュされる
とともに、レール面４５・４５・・・における磁気ヘッ
ド本体１４と反対側の端部近傍に、ディスク８とスライ
ダ１３との間に空気を導入するための傾斜面４６・４６
・・・が形成される。
なお、上記の実施例では、スライダ１３と磁気ヘッド本
体１４を別個に構成したが、スライダ１３と磁気ヘッド
本体１４の磁気コア１６は一体に構成しても良い。
体１４を別個に構成したが、スライダ１３と磁気ヘッド
本体１４の磁気コア１６は一体に構成しても良い。
〔実施例２〕
次に、本発明の別の実施例を説明する。
上記の実施例では、磁気コア１６とフロント側及びバッ
ク側薄膜コア１７・１８で磁気回路を構成したが、この
実施例では、第２２図（ａ）〜（Ｃ）に示すように、基
板６１上に形成した下部薄膜コア６２と、フロント側上
部薄膜コア６３及びバック側上部薄膜コア６４とにより
磁気回路を構成している。下部薄膜コア６２とフロント
側上部薄膜コア６３との間には、ギャップ層６５により
磁気的ギャップ部が設けられている。
ク側薄膜コア１７・１８で磁気回路を構成したが、この
実施例では、第２２図（ａ）〜（Ｃ）に示すように、基
板６１上に形成した下部薄膜コア６２と、フロント側上
部薄膜コア６３及びバック側上部薄膜コア６４とにより
磁気回路を構成している。下部薄膜コア６２とフロント
側上部薄膜コア６３との間には、ギャップ層６５により
磁気的ギャップ部が設けられている。
又、第２２図（Ｃ）から明らかなように、基板６１の表
面には、はぼ円弧状の凸部６６（湾曲部）が形成され、
これにより、ギャップ層６５は記録膜６上の記録ピット
ド１・・・（第４図参照）の形状に対応したほぼ円弧状
をなしている。
面には、はぼ円弧状の凸部６６（湾曲部）が形成され、
これにより、ギャップ層６５は記録膜６上の記録ピット
ド１・・・（第４図参照）の形状に対応したほぼ円弧状
をなしている。
フロント側及びパック側上部ｍ膜コア６３・６４と下部
薄膜コア６２との間には、絶縁層６７を介して磁気抵抗
効果素子７０が設けられ、磁気抵抗効果素子７０と下部
薄膜コア６２の間には、絶縁層６７を介してバイアスリ
ード６８が形成されている。又、フロント側及びハック
側上部薄膜コア６３・６４上には保護層７Ｉが形成され
、更に、保護層７１上に保護板７２が接着されている。
薄膜コア６２との間には、絶縁層６７を介して磁気抵抗
効果素子７０が設けられ、磁気抵抗効果素子７０と下部
薄膜コア６２の間には、絶縁層６７を介してバイアスリ
ード６８が形成されている。又、フロント側及びハック
側上部薄膜コア６３・６４上には保護層７Ｉが形成され
、更に、保護層７１上に保護板７２が接着されている。
又、図示しないが、基板６１をフェライト等で構成して
、この基板６１に記録用磁極部を形成することかできる
。
、この基板６１に記録用磁極部を形成することかできる
。
なお、この第２実施例における磁気ヘッドの製造方法は
、下部薄膜コア６２が設けられる以外は第１実施例とほ
ぼ同様であるので、ここでは説明を省略する。
、下部薄膜コア６２が設けられる以外は第１実施例とほ
ぼ同様であるので、ここでは説明を省略する。
本発明に係る磁気ヘッドは、以上のように、光アシスト
磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状の磁区をなして
記録される情報の再生に使用する磁気ヘッドであって、
基材上に形成され、上記記録媒体上の磁区の形状に対応
してほぼ円弧状に湾曲した磁気的ギャップ部を有する薄
膜コアと、上記磁気的ギャップ部から薄膜コアを介して
導かれる磁束に基づいて記録媒体上の情報の検出を行う
磁気抵抗効果素子とを備えている構成である。
磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状の磁区をなして
記録される情報の再生に使用する磁気ヘッドであって、
基材上に形成され、上記記録媒体上の磁区の形状に対応
してほぼ円弧状に湾曲した磁気的ギャップ部を有する薄
膜コアと、上記磁気的ギャップ部から薄膜コアを介して
導かれる磁束に基づいて記録媒体上の情報の検出を行う
磁気抵抗効果素子とを備えている構成である。
これによれば、記録媒体上の磁区からの磁束が上記磁気
的ギャップ部から磁気コアを介して磁気抵抗効果素子に
導かれ、この磁束の大きさに応して磁気抵抗効果素子の
電気抵抗値が変化することに基づいて、情報の再生が行
われるが、その際、上記磁気的ギャップ部が記録媒体上
の磁区の形状に対応したほぼ円弧状をなしているため、
記録媒体上の隣接する複数の磁区間でクロストークが生
じることはなく、又、充分な再生信号出力を得ることが
できるようになる。従って、光アシスト磁気記録におい
て、記録密度を高めた結果、磁区がほぼ円弧状をなす場
合にも、正確な再生が行えるようになる。
的ギャップ部から磁気コアを介して磁気抵抗効果素子に
導かれ、この磁束の大きさに応して磁気抵抗効果素子の
電気抵抗値が変化することに基づいて、情報の再生が行
われるが、その際、上記磁気的ギャップ部が記録媒体上
の磁区の形状に対応したほぼ円弧状をなしているため、
記録媒体上の隣接する複数の磁区間でクロストークが生
じることはなく、又、充分な再生信号出力を得ることが
できるようになる。従って、光アシスト磁気記録におい
て、記録密度を高めた結果、磁区がほぼ円弧状をなす場
合にも、正確な再生が行えるようになる。
又、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、上記基材上
にほぼ円弧状をなす湾曲部をエツチングにより形成する
工程と、基材上に上記湾曲部に対応した湾曲形状を有す
る磁気的ギャップ部を備えた薄膜コアを形成する工程と
、上記磁気抵抗効果素子を薄膜により形成する工程とを
備えている。
にほぼ円弧状をなす湾曲部をエツチングにより形成する
工程と、基材上に上記湾曲部に対応した湾曲形状を有す
る磁気的ギャップ部を備えた薄膜コアを形成する工程と
、上記磁気抵抗効果素子を薄膜により形成する工程とを
備えている。
これにより、まず、はぼ円弧形状をなす記録媒体上の磁
区に対応した形状の湾曲部を基材上に形成した後、上記
基材上に磁気的ギャップ部を有する薄膜コアを形成する
ようにしたので、磁気的ギャップ部は記録媒体上の磁区
の形状に対応したほぼ円弧状とすることができる。
区に対応した形状の湾曲部を基材上に形成した後、上記
基材上に磁気的ギャップ部を有する薄膜コアを形成する
ようにしたので、磁気的ギャップ部は記録媒体上の磁区
の形状に対応したほぼ円弧状とすることができる。
第１図乃至第２１図は本発明の一実施例を示すものであ
る。 第１図（ａ）は磁気ヘッド本体の概略平面図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）のＬ−Ｌ線に沿う概略断面図で
ある。 第２図は浮上型磁気ヘッドを備えた光磁気記録再生装置
の概略構成図である。 第３図はディスクの概略縦断面図である。 第４図は記録ビットの形状を示す説明図である。 第５図は浮上型磁気ヘッドの斜視図である。 第６図は磁気コアを示す概略正面図である。 第７図は磁気コアにフォトレジスト膜を形成する様子を
示す概略正面図である。 第８図はフォトレジスト膜を介してエツチングを施す様
子を示す概略正面図である。 第９図は絶縁層を形成する様子を示す概略正面図である
。 第１０図（ａ）はバイアスリードを形成する様子を示す
概略平面図である。 同図（ｂ）及び（Ｃ）はそれぞれ同図（ａ）のＡ−Ａ線
及びＢ−Ｅ線に沿う概略断面図である。 第１１図（ａ）は絶縁層を形成する様子を示す概略縦断
面図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う概略断面図で
ある。 第１２図（ａｌは磁気抵抗効果素子を形成する様子を示
す概略平面図である。 同図（ｂ）及び（Ｃ）はそれぞれ同図（ａ）のＥ−Ｅ線
及びＦ−Ｆ線に沿う概略断面図である。 第１３図はＣｏＰ層を形成する様子を示す概略平面図で
ある。 第１４図（ａ）はシグナルリードを形成する様子を示す
概略平面図である。 同図（ｂ）及び（Ｃ）はそれぞれ同図（ａ）のＧ−Ｇ線
及び１−Ｔ線に沿う概略断面図である。 第１５図（ａ）はエツチングを施す様子を示す概略平面
図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）のＪ−Ｊ線に沿う概略断面図で
ある。 第１６図（ａ）はフロント側及びへツク側上部コアを形
成する様子を示す概略平面図である。 同図Φ）は同図（ａ）のに−に線に沿う概略断面図であ
る。 第１７図乃至第１９回はそれぞれスライダの加工工程を
示す概略斜視図である。 第２０図はスライダに磁気ヘッド本体を接着する様子を
示す斜視図である。 第２１図は磁気抵抗効果素子に加わる磁場の強さと抵抗
変化の関係を示すグラフである。 第２２図は本発明の他の実施例を示すものである。 第２２図（ａ）は第２実施例における磁気ヘッド本体を
示す概略平面図である。 同図ら）は同図（ａ）のＭ−Ｍ線に沿う概略断面図であ
る。 同図（Ｃ）は磁気ヘッド本体を示す概略正面図である。 ６は記録膜（記録媒体）、１４は磁気ヘッド本体、１５
は再生ヘッド部、１６は磁気コア（基材）、１７はフロ
ント側薄膜コア、２１・７０は磁気抵抗効果素子、２６
・６６は凸部（湾曲部）、３７・６５はギャップ層、６
１は基板（基材）、６２は下部薄膜コア、６３はフロン
ト側上部薄膜コア、６４はへツク側上部薄膜コアである
。
る。 第１図（ａ）は磁気ヘッド本体の概略平面図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）のＬ−Ｌ線に沿う概略断面図で
ある。 第２図は浮上型磁気ヘッドを備えた光磁気記録再生装置
の概略構成図である。 第３図はディスクの概略縦断面図である。 第４図は記録ビットの形状を示す説明図である。 第５図は浮上型磁気ヘッドの斜視図である。 第６図は磁気コアを示す概略正面図である。 第７図は磁気コアにフォトレジスト膜を形成する様子を
示す概略正面図である。 第８図はフォトレジスト膜を介してエツチングを施す様
子を示す概略正面図である。 第９図は絶縁層を形成する様子を示す概略正面図である
。 第１０図（ａ）はバイアスリードを形成する様子を示す
概略平面図である。 同図（ｂ）及び（Ｃ）はそれぞれ同図（ａ）のＡ−Ａ線
及びＢ−Ｅ線に沿う概略断面図である。 第１１図（ａ）は絶縁層を形成する様子を示す概略縦断
面図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う概略断面図で
ある。 第１２図（ａｌは磁気抵抗効果素子を形成する様子を示
す概略平面図である。 同図（ｂ）及び（Ｃ）はそれぞれ同図（ａ）のＥ−Ｅ線
及びＦ−Ｆ線に沿う概略断面図である。 第１３図はＣｏＰ層を形成する様子を示す概略平面図で
ある。 第１４図（ａ）はシグナルリードを形成する様子を示す
概略平面図である。 同図（ｂ）及び（Ｃ）はそれぞれ同図（ａ）のＧ−Ｇ線
及び１−Ｔ線に沿う概略断面図である。 第１５図（ａ）はエツチングを施す様子を示す概略平面
図である。 同図（ｂ）は同図（ａ）のＪ−Ｊ線に沿う概略断面図で
ある。 第１６図（ａ）はフロント側及びへツク側上部コアを形
成する様子を示す概略平面図である。 同図Φ）は同図（ａ）のに−に線に沿う概略断面図であ
る。 第１７図乃至第１９回はそれぞれスライダの加工工程を
示す概略斜視図である。 第２０図はスライダに磁気ヘッド本体を接着する様子を
示す斜視図である。 第２１図は磁気抵抗効果素子に加わる磁場の強さと抵抗
変化の関係を示すグラフである。 第２２図は本発明の他の実施例を示すものである。 第２２図（ａ）は第２実施例における磁気ヘッド本体を
示す概略平面図である。 同図ら）は同図（ａ）のＭ−Ｍ線に沿う概略断面図であ
る。 同図（Ｃ）は磁気ヘッド本体を示す概略正面図である。 ６は記録膜（記録媒体）、１４は磁気ヘッド本体、１５
は再生ヘッド部、１６は磁気コア（基材）、１７はフロ
ント側薄膜コア、２１・７０は磁気抵抗効果素子、２６
・６６は凸部（湾曲部）、３７・６５はギャップ層、６
１は基板（基材）、６２は下部薄膜コア、６３はフロン
ト側上部薄膜コア、６４はへツク側上部薄膜コアである
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光アシスト磁気記録により記録媒体上にほぼ円弧状
の磁区をなして記録される情報の再生に使用する磁気ヘ
ッドであって、 基材上に形成され、上記記録媒体上の磁区の形状に対応
してほぼ円弧状に湾曲した磁気的ギャップ部を有する薄
膜コアと、上記磁気的ギャップ部から薄膜コアを介して
導かれる磁束に基づいて記録媒体上の情報の検出を行う
磁気抵抗効果素子とを備えていることを特徴とする磁気
ヘッド。 ２、上記基材上にほぼ円弧状をなす湾曲部をエッチング
により形成する工程と、湾曲部の形成された基材上に上
記湾曲部に対応した湾曲形状を有する磁気的ギャップ部
を備えた薄膜コアを形成する工程と、上記磁気抵抗効果
素子を薄膜により形成する工程とを有することを特徴と
する請求項第１項に記録の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2159552A JP2769025B2 (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2159552A JP2769025B2 (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0447512A true JPH0447512A (ja) | 1992-02-17 |
| JP2769025B2 JP2769025B2 (ja) | 1998-06-25 |
Family
ID=15696238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2159552A Expired - Lifetime JP2769025B2 (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2769025B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001065547A1 (fr) * | 2000-03-01 | 2001-09-07 | Hitachi, Ltd. | Procede et dispositif d'enregistrement/lecture d'informations et support d'enregistrement d'informations |
| WO2002011128A3 (en) * | 2000-07-28 | 2002-06-13 | Koninkl Philips Electronics Nv | Magnetic scanning system |
| US7545595B2 (en) | 2002-08-09 | 2009-06-09 | Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. | Magnetic disk apparatus having an adjustable mechanism to compensate write or heat element for off-tracking position with yaw angle |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0298806A (ja) * | 1988-10-06 | 1990-04-11 | Canon Inc | マルチトラック薄膜磁気ヘッド |
-
1990
- 1990-06-15 JP JP2159552A patent/JP2769025B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0298806A (ja) * | 1988-10-06 | 1990-04-11 | Canon Inc | マルチトラック薄膜磁気ヘッド |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001065547A1 (fr) * | 2000-03-01 | 2001-09-07 | Hitachi, Ltd. | Procede et dispositif d'enregistrement/lecture d'informations et support d'enregistrement d'informations |
| US7688685B1 (en) | 2000-03-01 | 2010-03-30 | Hitachi, Ltd. | Magneto-optical recording device capable of changing the shapes of heating areas |
| US8059497B2 (en) | 2000-03-01 | 2011-11-15 | Hitachi, Ltd. | Megneto-optical recording device capable of changing the shapes of heating areas |
| WO2002011128A3 (en) * | 2000-07-28 | 2002-06-13 | Koninkl Philips Electronics Nv | Magnetic scanning system |
| US7545595B2 (en) | 2002-08-09 | 2009-06-09 | Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. | Magnetic disk apparatus having an adjustable mechanism to compensate write or heat element for off-tracking position with yaw angle |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2769025B2 (ja) | 1998-06-25 |
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