JPH0442717Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、加圧雰囲気条件下で被処理体の脱ワ
ツクスを行なう加圧熱処理装置に関する。

（従来の技術） 高圧容器と、該容器に少なくとも一方が着脱自
在として装着されている端蓋と、前記高圧容器の
内部に配置された断熱層と、該断熱層の内側に配
置された加熱要素と、を備え、加熱要素の内側に
配置された気密筒内における処理室内で被処理体
を加熱された圧媒ガスで加圧熱処理するものは、
実開昭58−157300号公報で提案されている。

（考案が解決しようとする問題点） ところで、被処理体を加圧熱処理するとき、該
被処理体から有機バインダが発生するものがあ
り、これが発生すると、ガス排気系統に設けられ
るバルブ等の詰りが生じるという問題があつた。

本考案は、被処理体から滲出るワツクス等を捕
捉することによつて、ガス排気系統の目詰りを防
止した加圧熱処理を装置を提供するのが目的であ
る。

（問題点を解決するための手段） 本考案が前述目的を達成するために講じる技術
的手段の特徴とする処は高圧容器１と、該容器１
に少なくとも一方が着脱自在として装着されてい
る端蓋２と、前記高圧容器１の内部に配置された
断熱層３と、該断熱層３の内側に配置された加熱
要素４と、を備え、加熱要素４の内側に配置され
た気密筒５内における処理室１０内で被処理体９
を加熱された圧媒ガスで加圧熱処理するものにお
いて、 気密筒５の上部側に、ガス通路６を有する蓋７
が取付けられ、該ガス通路６を介して処理室１０
に、圧媒ガスが導入され、かつ処理室１０からガ
ス排出孔８を介して高圧容器１外に導出可能とさ
れており、前記処理室１０内には、これよりガス
排出孔８にガスを導出可能でかつ被処理体９から
生じたワツクス等を捕捉可能な耐熱性材１１が
設けられている点にある。

（作用） 処理室１０に収容されている被処理体９は、加
熱要素４への通電、ガス通路６を介しての圧媒ガ
スの導入によつて、例えば、処理室１０の雰囲気
を450℃×９Kg・ｆ／cm²に保つことで加熱処理さ
れる。

処理室１０の上部から導入された圧媒ガスは加
熱により気化して被処理体９から滲出るワツクス
等を捕捉して下方へ流下される。

このワツクスの気化成分は温度が低い耐熱性
材１１に触れると液化・固化し材１１を通過す
る過程で捕捉される。

従つて、ガス排出孔８を通る際には、ワツクス
成分はほゞ除去されていることになる。

（実施例） 図面を参照して本考案の実施例を詳述する。

円筒形状とされた高圧容器１の上下開口端には
シール２Ａを有する端蓋２が装着されてボルト２
Ｂで取付けられている。

即ち、高圧容器１に装着される端蓋２は少なく
とも一方が着脱自在とされている。

高圧容器１の中には、倒立コツプ形状の断熱層
３が同芯として配置され、該断熱層３の内側には
本例では二段構成とされた円筒形の加熱要素４が
同芯として配置されている。

加熱要素４の内側には、円筒形の気密筒５が配
置されており、該気密筒５の下底部は下部の端蓋
２上に容器１と同芯として載置され、かつシール
５Ａによつて略気密状態とされ、ここに、気密筒
５の内部が処理室１０とされている。

更に、気密筒５の下底側には上底板５Ｂを有
し、この上底板５Ｂのやゝ上方に径外方向に突出
するフランジ５Ｃを有し、このフランジ５Ｃ上
に、断熱層３の下底が載置されて支持されてい
る。

また、気密筒５の上部側、実質的に頂部には筒
中心上にガス通路６を有する蓋７が着脱自在に取
付けられており、下部の端蓋２に穿設して圧媒ガ
スの導入孔１２、フランジ５Ｃに穿設した連通孔
１２Ａを介して下方から導入されたアルゴン等の
不活性ガスが断熱層３内周と気密筒５外周とのス
キマを介して上方ヘ送流されてガス通路６を介し
て処理室１０の上部側から導入可能とされてい
る。

気密筒５の上底板５Ｂ上には脚杆１３Ａを介し
て被処理体９の載置台１３が気密筒５の筒長中程
に位置して設けられており、ここに、蓋７を取外
して挿入される被処理体９が処理室１０内に収納
される。

載置台１３の外径は気密筒５の内径により小さ
くされ、ガス通路６を介して導入された圧媒ガス
を下方へ流出可能としており、載置台１３のやゝ
下方には仕切板１４が備えられ、該仕切板１４に
は筒中心上にガス通路１４Ａが穿設されている。

仕切板１４と上底板５Ｂとの間における気密筒
５内の底側には耐熱性材１１が挿脱自在に充填
されており、該耐熱性在１１は通路１４Ａを介
して流下される圧媒ガスが通過可能であり、ワツ
クス等を捕捉可能なものであり、例えば金属繊維
の集合体、金属あるいはセラミツクの粉末体また
は連続気泡を有する成形体、セラミツクフアイ
バ、金属シートの集合体等からなり、いずれにし
ても、比表面積が大きくガスを流通可能でワツク
ス等を捕捉可能なものである。

この耐熱性材１１を圧媒ガス流下中に、ワツ
クスの気化成分は温度の低い材１１に触れて液
化・固化し、該材１１を通過過程においてワツ
クス等はほとんどが除去され、圧媒ガスは上底板
５Ｂに穿設された通路１５および端蓋２の筒中心
上に穿設されたガス排出孔８を介して容器１の外
に流出され、図外のバルブ等を有する排気ガス系
統へと送出される。

すなわち、本実施例では上部側の端蓋２を外し
て断熱送３を吊上げておいて、更に、蓋７を外し
た状態で有機バインダ、ワツクス等を含有する被
処理体９が載置台１３へ乗せられてから図示の如
く各部材をセツトする。

処理室１０を脱気してガス導入孔１２より圧媒
ガスを処理室１０に封入するとともに加熱要素４
に通電して処理室１０の雰囲気を例えば450℃×
９Kg・ｆ／cm²に保持する。

処理室１０内の圧媒ガスは加熱により気化さ
れ、被処理体９から滲出るワツクスを捕捉して下
方へ流出される。

このワツクスの気化成分は、温度の低い耐熱性
材１１に触れる液化・固化し、該材１１を通
る間においてすべてが捕捉される。

従つて、ガス排出孔８を通るときにはワツクス
成分はほとんどが除去され、該孔８およびこれ以
降における排気系統のパイプ、バルブ等に目詰り
することがない。

加熱処理された後は、被処理体（装品）９は上
方から取出される。

なお、繰返しで加熱処理すると耐熱性材１１
はその機能低下を招くが、このときは該材１１
を取出し外部で加熱して捕捉されたワツクスを除
去することにより再使用が可能となる。

前述した実施例では被処理体９を上方取出とさ
れているが、断熱層３を上蓋２等に吊具で取付て
おいて、下方取出とすることもできる。

また、ガス導入孔１２は上蓋２又は容器１に設
けたものであつてもよい。

（考案の効果） 本考案は高圧容器１と、該容器１に少なくとも
一方が着脱自在として装着されている端蓋２と、
前記高圧容器１の内部に配置された断熱層３と、
該断熱層３の内側に配置された加熱要素４と、を
備え、加熱要素４の内側に配置された気密筒５内
における処理室１０内で被処理体９を加熱された
圧媒ガスで加圧熱処理するものにおいて、 気密筒５の上部側に、ガス通路６を有する蓋７
が取付けられ、該ガス通路６を介して処理室１０
に、圧媒ガスが導入され、かつ処理室１０からガ
ス排出孔８を介して高圧容器１外に導出可能とさ
れており、前記処理室１０内には、これよりガス
導出孔８にガスを導出可能でかつ被処理体９から
生じたワツクス等を捕捉可能な耐熱性材１１が
設けられているので、加圧脱ワツクスを簡単な手
法で安定に操業でき、ガス排気系統を目詰りさせ
るおそれが少ない。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の実施例を示す立面断面図であ
る。 １……高圧容器、２……端蓋、３……断熱層、
４……加熱要素、５……気密筒、６……ガス通
路、７……蓋、８……ガス排出孔、１１……耐熱
性材、１３……載置台。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 高圧容器１と、該容器１に少なくとも一方が着
   脱自在として装着されている端蓋２と、前記高圧
   容器１の内部に配置された断熱層３と、該断熱層
   ３の内側に配置された加熱要素４と、を備え、加
   熱要素４の内側に配置された機密筒５内における
   処理室１０内で被処理体９を加熱された圧媒ガス
   で加圧熱処理するものにおいて、 気密筒５の上部側に、ガス通路６を有する蓋７
   が取付けられ、該ガス通路６を介して処理室１０
   に、圧媒ガスが導入され、かつ処理室１０からガ
   ス排出孔８を介して高圧容器１外に導出可能とさ
   れており、前記処理室１０内には、これよりガス
   排出孔８にガスを導出可能でかつ被処理体９から
   生じたワツクス等を捕捉可能な耐熱性材１１が
   設けられていることを特徴とする加圧熱処理装
   置。