JPH0441069A - リフロー炉における被加熱物の温度監視方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、リフロー炉内でコンベアに乗せられて移動す
る被加熱物の温度を監視するリフロー炉における被加熱
物の温度監視方法に関するものである。

［従来の技術］ 第４図は、リフロー炉１の概略構成を示したものである
。該リフロー炉１は、炉体２内にその人口３Ａから出口
３Ｂ方向に向けて温度立ち上げ用加熱域４．均熱用加熱
域５１本加熱用加熱域６が順次設けられている。各加熱
域４，５．６には、それぞれ面ヒータ４ａ、４ｂ、５ａ
、５ｂ、５ｃ。

５ｄ、６ａ、６ｂが配置されていて、第５図に示すよう
な温度分布で加熱を行うようになっている。

このような炉体２内には、回路基板７がコンベア８に乗
せられて大口３Ａから出口３Ｂに向けて移動されるよう
になっている。コンベア８は、駆動ローラ９と従動ロー
ラ１０とに掛は渡されていて、駆動ローラ９をモータ１
１で駆動することによりＣ８なる速度で回転駆動される
ようになっている。

このようなりフロー類１で回路基板７上の電子部品１２
と図示しないクリーム半田とを加熱して該回路基板７に
該電子部品１２を半田付けする場合、特に熱に弱いＩＣ
等よりなる電子部品１２の場合は定められた温度以上に
加熱されないように温度監視をする必要がある。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、従来のりフロー類では、回路基板７上の
特定の電子部品１２が本加熱用加熱域６で何度まで加熱
されたのか測定できない問題点があった。

本発明の目的は、コンベア上の電子部品の如き被加熱物
が加熱されている温度を監視することができるリフロー
炉における被加熱物の温度監視方法を提供することにあ
る。

［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するための本発明の詳細な説明すると
、本発明はりフロー炉内でコンベアに乗せられて移動す
る被加熱物の温度を監視するリフロー炉における被加熱
物の温度監視方法において、前記リフロー炉内の所要の
加熱域でしかも前記被加熱物が通過するコンベア幅方向
の特定の温度測定位置に指向させて放射温度計を予め設
置しておき、前記被加熱物が前記放射温度計の前記温度
測定位置に到達する時間に前記被加熱物の温度を前記放
射温度計で測定することにより該被加熱物の温度監視を
することを特徴とする。

［作用コ このようにリフロー炉内の本加熱用加熱域の如き所要の
加熱域でしかも被加熱物が通過するコンベア幅方向の特
定の温度測定位置に指向させて放射温度計を予め設置し
ておくと、この温度測定位置を被加熱物が通過する時間
に温度測定を行うことにより、特定の温度測定位置を被
加熱物が通過するときの温度を監視できるようになる。

［実施例］ 以下、本発明の実施例を第１図乃至第３図及び前述した
第４図、第５図を参照して詳細に説明する。

本実施例では、リフロー炉１内の本加熱用加熱域６でし
かも特定の被加熱物である電子部品１２が通過するコン
ベア幅方向（Ｙ方向）の特定の温度測定位置１３に指向
させて放射温度計１４を予め設置する。また、該温度測
定位置１３には回路基板７の先端位置の通過を検出する
センサ１５を予め設置する。更に、回路基板７の先端か
ら電子部品１２の中心までのＸ方向距離りを予め測定し
ておく。

かかる状態で、回路基板７をコンベア８上に乗せ、リフ
ロー炉１内に通し、温度立ち上げ用加熱域４．均熱用加
熱域５９本加熱用加熱域６に順次送り込んで加熱を行い
、電子部品１２の半田付けを行う。

本加熱用加熱域６に達した回路基板７の先端がセンサ１
５の検出位置に達すると、該回路基板７の到達が検出さ
れて、センサ１５からトリガパルスが第３図に示すよう
に出力される。この場合のコンベア８の移動速度をＣ８
とすると、トリガパルスが出てからＬ／Ｃ８時間後に電
子部品１２は温度測定位置１３に到達することになる。

従って、放射温度計１４は、トリガパルスが出てからＬ
／Ｃ８時間後の測定出力を電子部品１２の加熱温度とし
て出力する。

このようにして電子部品１２が最も高い温度で加熱され
る本加熱用加熱域６での加熱温度を測定することができ
る。

測定すべき電子部品１２が回路基板７のＹ軸方向のいず
れの位置にあっても、それに応じて放射温度計１４の位
置をＹ軸方向に変えることにより、位置の変化に対応さ
せることができる。従って、電子部品１２が回路基板７
上のいずれの位置にあっても、そのＸ、Ｙ方向の位置を
測定することにより、加熱温度を測定が可能となる。

［発明の効果］ 以上説明したように本発明に係るリフロー炉における被
加熱物の温度監視方法では、リフロー炉内の所要の加熱
域でしかも被加熱物が通過するコンベア幅方向の特定の
温度測定位置に指向させて放射温度計を予め設置してお
き、この温度測定位置を被加熱物が通過する時間に温度
測定を行うので、特定の温度測定位置を被加熱物が通過
するときの温度を容易に監視することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の方法における放射温度計及びセンサと
回路基板及び電子部品との位置関係の一例を示す説明図
、第２図は回路基板の一例を示す斜視図、第３図は回路
基板の検出時間と電子部品の温度測定時間の関係を示す
波形図、第４図はりフロー類の一例の概略構成を示す縦
断面図、第５図は該リフロー炉の温度分布図である。 １・・・リフロー炉、２・・・炉体、４・・・温度立ち
上げ用加熱域、５・・・均熱用加熱域、６・・・本加熱
用加熱域、７・・・回路基板、８・・・コンベア、１２
・・・電子部品、１４・・・放射温度計、１５・・・セ
ンサ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. リフロー炉内でコンベアに乗せられて移動する被加熱物
   の温度を監視するリフロー炉における被加熱物の温度監
   視方法において、前記リフロー炉内の所要の加熱域でし
   かも前記被加熱物が通過するコンベア幅方向の特定の温
   度測定位置に指向させて放射温度計を予め設置しておき
   、前記被加熱物が前記放射温度計の前記温度測定位置に
   到達する時間に前記被加熱物の温度を前記放射温度計で
   測定することにより該被加熱物の温度監視をすることを
   特徴とするリフロー炉における被加熱物の温度監視方法
   。