JPH0439522Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0439522Y2
JPH0439522Y2 JP2702286U JP2702286U JPH0439522Y2 JP H0439522 Y2 JPH0439522 Y2 JP H0439522Y2 JP 2702286 U JP2702286 U JP 2702286U JP 2702286 U JP2702286 U JP 2702286U JP H0439522 Y2 JPH0439522 Y2 JP H0439522Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
distance
test piece
gauge
position sensor
light source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP2702286U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62140313U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2702286U priority Critical patent/JPH0439522Y2/ja
Publication of JPS62140313U publication Critical patent/JPS62140313U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0439522Y2 publication Critical patent/JPH0439522Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は材料試験における試験片の標点間距離
測定装置に関する。
[従来技術] 材料試験における試験片の標点間距離の測定
は、従来伸び計を試験片の標点に直接取りつけて
行なつていた。しかし、接触式の伸び計は、実際
に試験片に取り付ける作業が煩雑で、かつ取り付
け状態が悪いと伸び計と試験片の標点との間にス
リツプが生じて正確な測定ができないという欠点
があり、また、高真空中や高熱下のような環境に
耐えうるセンサもなかつた。そこで、接触式の伸
び計に対し、第3図に示すような光学系を構成し
て標点間距離を非接触で測定する方法が採用され
ている。すなわち試験片2の標点位置に互いに45
度開いたミラー3,3′を置き、光源から照射さ
れる光線をこれらミラー3,3′で反射させ、反
射光を位置センサ8で捕らえ、光源から出射され
る光ビームと位置センサ8で捕らえた入射光ビー
ムとの間隔を計測して、標点間の距離を求めるも
のである。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、上記した非接触式の標点間距離
測定装置では、測定系と非測定系との相互位置が
変化すると、第3図の点線で示すように、光源か
らの照射ビームと位置センサへの入射ビームとの
間隔が変化し、この変化分だけ測定誤差が大きく
なるという問題点があつた。引張り/圧縮を行な
う材料強度試験では試験片と非接触系の相互位置
が狂い易いので特に問題となつていた。
そこで、本発明は測定系を試験片の環境外に置
いて非接触で標点間伸びを測定できる装置であつ
て、測定系と非測定系との相互位置が変化しても
変化分を補正して標点間距離を正確に測定できる
試験片の標点間距離測定装置を提供することを目
的とする。
[問題点を解決するための手段] 本発明は上記問題点を解決するため、次のよう
な構成を採用した。
すなわち、本発明にかかる試験片の標点間距離
測定装置は、試験片の一方の標点に試験片に対し
45度傾斜して設置されるミラーと、他方の標点に
該ミラーと平行して設置されるハーフミラーと、
該ハーフミラーの透過若しくは反射光を180度折
返すように設置される全反射ミラーと、標点のど
ちらか一方に直角に光ビームを照射する光源と、
該光源から一方の標点に入射され前記各ミラーを
経て他方の標点から出射される光ビームが入射す
る位置センサと、該位置センサの出力から光源と
位置センサへの入射位置との間隔を求め標点間距
離として出力する計測装置とを備えてなることを
特徴とする。
[作用] 光源から照射された光ビームは、光路中に設置
されるハーフミラーと全反射ミラーにより、光源
が試験片の負荷軸方向へズレた変位分だけその反
射光路が平行に移動させられるので、光源から照
射される光ビームと位置センサへ入射される光ビ
ームとの間隔は変動せず、この間隔を計測するこ
とにより標点間距離を正確に求めることができ
る。
[実施例] 以下、図面にあらわされた実施例について説明
すれば、第1図は本考案の構成説明図であつて、
この標点間距離測定装置1は、材料試験装置に取
り付けられた試験片2の標点位置A,Bに45度傾
斜させて互いに平行に設置される全反射ミラー3
とハーフミラー4、ハーフミラー4に対しミラー
3側の試験片2表面に沿つて設置される全反射ミ
ラー6、標点に向けて直角方向から光ビームを照
射する光源7、光源7から照射され、試験片2側
に設置した光学系を介して反射される光ビームが
入射する位置センサ8、位置センサ8からの出力
により標点間距離を求め出力する計測装置10を
そなえている。
光源7としては、細い平行ビームを発生するレ
ーザ光源を使用するのが好ましく、位置センサ8
としては例えばフオトダイオードアレイが使用さ
れている。
計測装置10は、第2図に示すように、位置セ
ンサ8からの出力最大値に対応する位置データを
求めるための2階微分回路11、位置センサ8を
掃引するクロツク発生器12、2階微分回路11
とクロツク発生器12の出力が入力するアンド回
路14からの出力をセンサの最大出力位置データ
として保持するカウンタ15から構成されてい
る。
光源7から標点Aに向かつて照射された光ビー
ムは、光路aを経て全反射ミラー3で反射され試
験片2と平行な光路bを経てハーフミラー4に入
射する。ハーフミラー4へ入射した光ビームは該
ミラーによつて反射され光路Cを経て全反射ミラ
ー6へ入射し、ここで全反射して再度光路Cを辿
り、ハーフミラー4を通過して光路dを経て位置
センサ8へ入射する。位置センサ8はビームが入
射したフオトダイオードから位置データ信号を出
力する。出力信号は計測装置10へ入力し、ここ
で処理されて光源7から照射される光ビームとの
間隔が求められる。計測装置10は求められたこ
れら光ビームの光路間の間隔を試験片の標点間距
離として出力する。
このような光学系と計測系とを備えた実施例装
置において、試験片2と測定系との相互位置が変
化しても、図示のように変化分平行移動した光路
a′,b′,c′,d′を経るので、光路a,d間の間隔
と光路a′,d′間の間隔とは等しいままに保たれ
る。したがつて計測系と試験片との相対位置が変
化しても試験片の負荷軸方向の変化は自動的に補
正されることになる。
また、計測装置10において、カウンタ15の
出力を位置センサ8の掃引に同期してホールドし
D/A変換をすることにより、従来の接触式セン
サの出力と同等のアナログ出力を得ることもでき
る。
上記実施例では材料試験における標点間距離を
計測する装置について説明したが、この装置を物
品の厚みなどの2点間距離の計測等に使用するこ
とができることは明らかである。
[考案の効果] 以上の説明から明らかなように、本考案にかか
る試験片の標点間距離測定装置によれば、試験片
と測定系との相対位置が変化しても、該変化分を
補正して正確に標点間距離を測定でき、特に引
張/圧縮試験を行なう場合に精度よく測定を行な
うことができるようになつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の1実施例をあらわす構成説明
図、第2図は計測部の構成を示すブロツク図、第
3図は従来例をあらわす構成説明図である。 1……標点間距離測定装置、2……試験片、
3,6……全反射ミラー、4……ハーフミラー、
7……光源、8……位置センサ、10……計測装
置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 試験片の一方の標点に試験片に対し45度傾斜し
    て設置されるミラーと、他方の標点に該ミラーと
    平行して設置されるハーフミラーと、該ハーフミ
    ラーの透過若しくは反射光を180度折返すように
    設置される全反射ミラーと、標点のどちらか一方
    に直角に光ビームを照射する光源と、該光源から
    一方の標点に入射され前記各ミラーを経て他方の
    標点から出射される光ビームが入射する位置セン
    サと、該位置センサの出力から光源と位置センサ
    への入射位置との間隔を求め標点間距離として出
    力する計測装置とを備えてなる試験片の標点間距
    離測定装置。
JP2702286U 1986-02-25 1986-02-25 Expired JPH0439522Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2702286U JPH0439522Y2 (ja) 1986-02-25 1986-02-25

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2702286U JPH0439522Y2 (ja) 1986-02-25 1986-02-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62140313U JPS62140313U (ja) 1987-09-04
JPH0439522Y2 true JPH0439522Y2 (ja) 1992-09-16

Family

ID=30828663

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2702286U Expired JPH0439522Y2 (ja) 1986-02-25 1986-02-25

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0439522Y2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3720248A1 (de) * 1987-06-19 1989-01-05 Schenck Ag Carl Verfahren und anordnung zur messung von verformungen an proben oder pruefkoerpern in pruefmaschinen
DE3740227C2 (de) * 1987-11-27 1994-03-24 Schenck Ag Carl Verfahren und Vorrichtung zur Messung von Verformungen an Proben oder Prüfkörpern in Prüfmaschinen
JP6090538B2 (ja) * 2015-02-10 2017-03-08 中国電力株式会社 ひずみ測定方法、及びひずみ測定システム

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62140313U (ja) 1987-09-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2764103B2 (ja) アナログ測定プローブの使用方法および位置決め装置
US3977789A (en) Scanning differential photoelectric autocollimator
US4483618A (en) Laser measurement system, virtual detector probe and carriage yaw compensator
CN100523719C (zh) 利用激光散斑剪切干涉法的轮胎触地形状测量装置
JPH0153401B2 (ja)
US4950079A (en) Combined scale and interferometer
US3975102A (en) Scanning photoelectric autocollimator
JPS63292005A (ja) 走り誤差補正をなした移動量検出装置
US4836031A (en) Method and apparatus for measuring deformations of test samples in testing machines
JPH0439522Y2 (ja)
US4869110A (en) Laser strain extensometer for material testing
JP2001165629A (ja) 形状測定装置及び形状測定方法
JP2001227929A (ja) 角度測定方法及び角度測定装置
US3820902A (en) Measuring method and apparatus which compensate for abbe s error
JPS61155902A (ja) 干渉計測装置
JP3192461B2 (ja) 光学的測定装置
JPH06273103A (ja) 円筒状物体の外径測定方法
JPH02134505A (ja) 厚み測定装置
JPH0476410A (ja) 光学式形状測定装置
JPS6127681B2 (ja)
JPH03251708A (ja) パラボラアンテナ面形状測定装置
JPS5832103A (ja) 非接触測定装置
JPH0332963Y2 (ja)
JPH02302606A (ja) 厚さ測定装置
JPS59168309A (ja) 変位量測定装置