JPH0439239B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〓発明の利用分野〓 本発明は、複雑な形状をして浸漬深さの制限の
ある部品の浸漬法による液体の塗布において、安
定した浸漬、塗布膜圧の一定化、適正な乾燥を行
う為、各々浸漬深さ規制レール、自在傾斜ハンガ
ー、ループ形配置とし一名作業可能としたプリン
ト基板コーテイング装置に関する。

〓発明の目的〓 (1) 昇降浸漬槽と浸漬規制レールによる安定浸漬
法、 (2) 浸漬、余滴、乾燥の全プロセスに適用できる
搬送式自在傾斜ハンガーで、プロセス条件の保
持傾斜、保持時間の任意設定可能とした自在傾
斜ハンガー及びガイドレール、 (3) １回以上の浸漬、余滴、乾燥をループ形配置
し、一角を作業台とする事により一名作業を可
能としたコーテイング装置を提供することにあ
る。

〓発明の概要〓 ソリ等のある部品の水平浸漬において、被浸漬
物を、一般の固定クランプする方法はクランプや
装置精度から水平化が困難な場合が多い。浸漬深
さの上限で規制レールを設置し、その上を走行さ
せる事とチヤツク内に回転を設けて被測定物の精
度と装置側の精度を吸収することにした。

塗布機の精度の為、膜厚を一定化するには、余
滴時の保持傾斜と時間は重要なフアクターであ
る。浸漬から乾燥まで最適の傾斜、時間でプロセ
ス条件を設定できる様、被浸漬物用のチヤツクを
固定するハンガー軸を回閣自在とする事。この軸
に直結したアーム上のローラーを装置内ガイドレ
ールに従動させ傾斜を与え乍ら搬送できる様にし
た。又時間は基本搬送タクトのステーシヨン数倍
で設定する様にした。

必要塗布厚さを得るため、使用液の粘度調整に
加え、装置全体を２回の浸漬、余滴、乾燥ができ
るループ形配置とし、ループ形の一角を作業台と
し、前述の自在傾斜ハンガー上のチヤツクへの基
板着脱と目視チエツク、及び投入後の自動運転指
令をこの作業台で行う、一名作業可能なコーテイ
ング装置構成とした。

〓発明の実施例〓 第１図は装置の平面図である。基板９をクラン
プする７セツトのチヤツクを持つ自在傾斜ハンガ
ー１がトラバーサユニツト６の作業台１０側から
スタートし、浸漬部３、余滴部４、乾燥部５のピ
ツチ搬送の各停止位置８を経て、反作業者側のト
ラバーサユニツト６′へ移動、再度、浸漬部３′、
余滴部４′、乾燥部５′をループして作業台１０に
帰る全体構成である。図２に浸漬部３、３′にお
ける水平浸漬の原理を示す。基板９は搬送ローラ
１４付自在傾斜ハンガー１の下部の揺動自由なハ
ンガー軸１１の下面に取付られたマグネツトチヤ
ツク１６により、その搭載部品トランス９１の上
面で吸着されている。自在傾斜ハンガー１は連結
フレーム１５の中央部で装置内搬送フツク１９に
よりピツチ搬送されて順次送られる。安定した水
平浸漬の為、塗布材２２が堰２５より常にオーバ
ーフローして液面を保つている昇降式浸漬槽２３
の液面下に浸漬深さ規制レール２が槽の支持棒２
４間に保持されている。浸漬槽２３の上昇は、基
板９の先端を押し上げ、水平となる若干手前とな
る点で一定時間停止（浸漬）する。若干手前の点
とは、基板９のソリ、搭載部品９１の取付精度、
チヤツク１６の製作公差等からくる基板先端下向
き状態で、かつ基板上面が浸漬深さ上、許される
最大傾斜を与える点である。この最後の傾斜遊び
はチヤツク１６内のチヤツク軸１６′の回転によ
つて可能となる。ここで逆公差時は基板先端が上
向きとなるが図３ｂに示す様にチヤツク軸１６′
に巻いてある押えスプリング３１に抗して基板９
を水平とする位置で、さきの公差によるバラツキ
を半分にできる事も考慮にいれ、浸漬槽２３の最
適上昇点を決める。図３はマグネツトチヤツクの
構成であり、ａは自然状態での基板傾斜、ｂは浸
漬部３，３′での水平浸漬時、ｃは余滴部４，
４′、乾燥部５，５′でのプロセス条件に沿つた傾
斜保持状態で、ハンガー軸１１に直結した揺動ア
ーム１３上のローラ１２が装置内壁に設けられた
ガイドレール７，７′に、搬送につれ従動して得
られる。図１に示す様にガイドレール７，７′は
浸漬部３，３′の停止位置８で、昇降浸漬槽２３
が下降した時の保持基板状態から余滴、乾燥の全
プロセスを制御する範囲で設置される。本装置に
よるプロセス条件の設定例を図４に示す。本例に
おいては自在傾斜ハンガー１の搬射タクトは
2minを基準としており、各プロセス保持時間は
2minの停止位置数倍となつている。又、トラバ
ーサユナツトでは、自在傾斜ハンガー１全体がト
ラバーサ機能な収納されるので傾斜保持はトラバ
ーサ内に設置せるガイドレールにより行われる。

図３のチヤツクの構成は、被浸漬物９上の搭載
部品９１をチヤツクするマグネツトヨーク３７を
本例では２個もつ。各々のヨーク３７は両サイド
にマグネツト３５を２ケずつ持ちマグウケ３６内
に収納されている。マグネツト３６はスペーサ３
３にネジ固定されている。スペーサ３３内壁には
高さ調整用溝３４があり、ハンガー軸１１に連結
されているプレート３１が挿着され被浸漬物の取
付高さを調整できる様になつている。

装置のガイドレール７，７′による傾斜はハン
ガー軸１１の回転で、浸漬時の基板の水平化傾斜
の遊びはチヤツク軸１６′の回転で得られる。

図１におけるＬ＝8.4m、Ｗ＝2.5mである。

〓発明の効果〓 塗布材を常にオーバーフローする昇降式の浸漬
槽と浸漬深さ規制レール及びチヤツクの回転自由
なチヤツク軸により、一般の固定クランプでは被
浸漬物精度、チヤツク部の精度がそのまま浸漬深
さの制御精度となつたものが、本法により浸漬深
さのバラツキを1/2以下とする事が可能。

装置のガイドレールとそれに従動するローラー
により自在の傾斜をチヤツク部に与え、浸漬、余
滴、乾燥時の保持傾斜、保持時間を最適に制御で
きる様にした。これにより塗布膜厚は各粘度にお
ける傾斜・時間の基礎実験データを任意に装置に
具体化でき、本例では１回目、２回目の余滴傾斜
を逆に設定し基板全域の塗布厚を±0.1を抑えた。

１回以上の浸漬、余滴、乾燥をループ形配置し
その一角に作業台を持ち、ここで基板の着脱、目
視チエツクを行える構成とした事により一名作業
でコーテイングの全プロセスを完了させる事がで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は２回浸漬、余滴、乾燥と作業台から成
るループ形装置の構成図、第２図は浸漬部の自在
傾斜ハンガーとマグネツトチヤツク及び昇降浸漬
槽と浸漬深さ規制レールを示す図、第３図はマグ
ネツトチヤツクの構成図、第４図はプロセス条件
の設定例を示す図である。 １……自在傾斜ハンガー、２……浸漬深さ規制
レール、７，７′……ガイドレール、１１……ハ
ンガー軸、１２……ローラ、１３……揺動アー
ム、１６′……チヤツク軸、２３……昇降式浸漬
槽。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 浸漬部、余滴部、乾燥部の順に並ぶ一連のコ
   ーテイングラインを一回以上繰り返えされるよう
   にループ状に配置し、コーテイングラインの入り
   口および出口に作業台を設け、浸漬部に昇降する
   浸漬槽を設け、浸漬槽に浸漬して塗布液のコーテ
   イングが施される基板の浸漬深さを規制レールを
   浸漬槽に設け、ループ状の上記コーテイングライ
   ン上を走行するハンガーを備え、少なくとも浸漬
   部から余滴部に移行するところから余滴部にかけ
   ての範囲では上記基板を吊る傾きが変化するよう
   に上記ハンガーを傾斜自在にし、このハンガーの
   傾斜が行われる手段を、ハンガーに設けた揺動自
   在なるハンガー軸とこのハンガー軸に直結した揺
   動アームとこの揺動アームの先端に設けたローラ
   とコーテイングラインを形成する装置の内壁に設
   けられたガイドレールにより構成し、ハンガーが
   コーテイングライン上を走行する際にローラがガ
   イドレールに案内されてハンガー軸に揺動作動を
   行われるようにし、ハンガー軸のチヤツクを介し
   て前記基板を吊るようにしたことを特徴とするプ
   リント基板コーテング装置。