JPH0438732A - 光ディスク製造方法 - Google Patents

光ディスク製造方法

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JPH0438732A
JPH0438732A JP2145916A JP14591690A JPH0438732A JP H0438732 A JPH0438732 A JP H0438732A JP 2145916 A JP2145916 A JP 2145916A JP 14591690 A JP14591690 A JP 14591690A JP H0438732 A JPH0438732 A JP H0438732A
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light emitting
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holes
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Kiyobumi Chikuma
清文 竹間
Kiyoshi Takei
清 武井
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Pioneer Corp
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Pioneer Electronic Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、光ディスクの製造方法に関する。
背景技術 光学式情報記録媒体、例えばコンパクトディスクやビデ
オディスクなどの光ディスクでは、トラック上の微小な
ピットの有無(配列)として情報を記録し、この記録情
報をトラック上を、トレースする光学式ピックアップに
よって、ピットへの照射レーザ光の反射光の変化を電気
信号として検出することにより再生するようになってい
る。
かかる光ディスクの製造は、以下のように行なわれてい
た。まず、ガラス原盤にフォトレジストを塗布し、カッ
ティングマシンにて微小なレーザ光スポットを原盤に照
射し、フオトレジス!・を感光させる。情報信号に従い
感光した領域が離散的に作られる。現像後、感光した領
域のみガラス原盤上から除去され微小なピットが形成さ
れる。その後ニッケル鍍金をほどこし、電鋳によりニッ
ケル金属層を増加させスタンバを形成する。このスタン
パを型としてインジェクション装置により透明樹脂に情
報ピットを転写しサブストレート成し、アルミニウム等
の金属を蒸着し反射層を形成してCD等の光ディスクに
していた。
これら光ディスクを用いた従来の情報記録再生システム
においては、再生光学系のレンズの開口数をNA1情報
検出光の波長をλとするとき、周波数特性上、検出でき
る情報(ピット又は領域の大きさ)の限界は最大2NA
/λなる空間周波数となる解像度までしか達していない
。したがって、実用的に再生可能な記録最高空間周波数
はNA/λの1.0〜1.5倍程度であるので、光ディ
スクの高密度化にも限界があった。
また、高密度化光ディスクも種々開発されつつあるが、
かかる高密度化光ディスクの製造方法は今だ十分開発さ
れていない。
発明の概要 そこで、本発明は、高密度にて情報の記録再生が可能な
光ディスクの簡素な製造方法を提供することを目的とす
る。
本発明による光学式情報記録媒体の製造方法は、レーザ
ービームの吸収により該レーザービームの波長とは異な
る波長の光を発光する発光領域と、照射されたレーザー
ビームを反射する反射領域とがトラック上に交互に配列
された光ディスクの製造方法であって、 透明基板」二に反射層を形成する工程と、前記反射層に
複数の貫通孔を形成する工程と、前記貫通孔中に蛍光体
からなる発光層を充填する工程とを含むことを特徴とす
る。
実施例 以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。
第1図(a)は本発明による光学式情報記録媒体の一実
施例を示す断面図である。図において、透明基板のサブ
ストレート11は透明ガラス盤からなり、その平坦な一
生面には反射層14が設けられており、反射層]4には
微小な貫通孔12の列が例えばスパイラル状若しくは同
心円状に設けられている。サブストレート11の貫通孔
12には、サブストレート1]−の他主面側からの照射
光に感応して照射光とは異なる波長の光を発光する発光
体が充填されて発光領域を形成している。このように、
反射層14の外側に当該発光体から続く発光層13が設
けられている。発光体としては、フォトルミネセンス材
料、蛍光色素、蛍光体等を用い得る。この反射層14は
サブストレート11の他主面側からの照射光を反射し、
貫通孔12は発光領域13で発光した光を通過させる。
発光層13上には保護層15が設けられる。レーザビー
ムLaは基板11側から照射される。かかる構成の記録
媒体10のサブストレート11は、ガラス盤の他、例え
ば、従来の光ディスクのマスタリングで作成されたスタ
ンパから複製されたアクリルやポリカーボネートなどの
透明樹脂の円盤でもよく、よって、その貫通孔12は従
来の光ディスクのピットに相当する。したがって、貫通
孔12により画定された島状の発光領域13の配列によ
って情報が記録されていることになる。
かかる光ディスク10は、以下の工程で製造される。
まず、第2図(al )に示すように、サブストレート
となるガラス盤1の主面上に一様にアルミニウムの反射
層1−4およびフォトレジスト層2を順に積層、形成し
たフォトレジスト原盤を用意して、レーザーカッティン
グ工程において、レーザービームLaにより、フォトレ
ジスト層2上に所定情報に対応したスポット列の潜像を
螺旋又は同心円状に形成する。
次に、現像工程において、現像装置に露光したフォトレ
ジスト原盤を装着しこれを現像して、フォトレジスト原
盤上に記録すべき信号に対応する微小凹凸(以下ピット
と称する)の列を設け、第2図(al )に示す如き、
情報記録層であるピットを有するフォトレジスト層2と
ガラス盤1とからなる現像原盤を得る。
次に、ポストベーク工程において、かかる現像原盤のフ
ォトレジスト層2を乾燥させ反射層14上に定着させて
、第2図(b)に示す如き乾燥した原盤を得る。
次に、エツチング工程において、エツチング装置に乾燥
原盤を装着しこれにエツチング液を接触させピットに対
応する部分の反射層14を食刻して、反射層14におい
て記録信号に対応するピットである貫通孔12の列を設
け、第2図(c)に示す如き盤を得、フォトレジスト層
2を去して、第2図(d)に示す如き情報記録層である
ピットである貫通孔の列を有する反射層14とガラス盤
1とからなる反射層基盤を得る。
次に、発光層形成工程において、スピンコード装置に貫
通孔12を有する反射層基盤を装着し、これに蛍光体を
適当な透明樹脂溶媒に担持した蛍光液を反射層14上に
一様に塗布して、蛍光体液を乾燥させ、反射層14上に
蛍光体からなる発光層1]を形成し、第2図(e)に示
す基盤を得る。
次に、蛍光体からなる発光層11上に保護層15を公知
の方法で形成して、第2図(f)に示す光ディスクを得
る。
なお、第1図(a)に示すように蛍光体からなる発光層
11が貫通孔12を含め反射層14をすべて覆うように
するのではなく、第1図(b)に示すように蛍光体から
なる発光層11及び反射層14を同一膜厚として貫通孔
12内にのみ蛍光体からなる発光層11を形成してもよ
い。また、図に示す上記光ディスクでは蛍光体からなる
発光層1]及び保護層]2を密接させているが、蛍光体
からなる発光層11及び保護層12間にさらなる反射層
(図示せず)を形成すれば、反射光量及び蛍光光量を増
大させることができる。
この様に、ビットを発光材料で充填したため情報を読み
出す対物レンズの開口数をNAとし、照射する光の波長
をλ1、発光材料が照射光により発光する光の波長λ2
とすれば、本出願人による特開平2−50328号公報
に開示する装置において専用のピックアップを用いれば
、2NA (1/λ1+]/λ2)迄の空間周波数を読
み出すことができる。従って、この様な構造の光ディス
クは従来の約2倍までの空間周波数を記録でき、光ディ
スクの高密度化を達成することができる。
発明の詳細 な説明したように、本発明による、レーザービームの吸
収により該レーザービームの波長とは異なる波長の光を
発光する発光領域と照射されたレーザービームを反射す
る反射領域とがトラック上に交互に配列された光ディス
クの製造方法においては、透明基板上に反射層を形成す
る工程と、反射層に複数の貫通孔を形成する工程と、貫
通孔中に蛍光体からなる発光層を充填する工程とを含む
故に、高密度にての情報の記録再生可能な光ディスクの
製造が容易となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による光ディスクの一実施例を示す断面
図、第2図は本発明による光デイスク製造方法の一実施
例を示す各工程における各構成部祠の断面図である。 明1度1目り 主要部分の符号の説明 10・・・・・・光ディスク 1]・・・・・・サブストレート 13・・・・・・発光層 14・・・・・・反射層 出願人   パイオニア株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 レーザービームの吸収により該レーザービームの波長と
    は異なる波長の光を発光する発光領域と、照射されたレ
    ーザービームを反射する反射領域とがトラック上に交互
    に配列された光ディスクの製造方法であって、 透明基板上に反射層を形成する工程と、 前記反射層に複数の貫通孔を形成する工程と、前記貫通
    孔中に蛍光体からなる発光層を充填する工程とを含むこ
    とを特徴とする製造方法。
JP2145916A 1990-06-04 1990-06-04 光ディスク製造方法 Pending JPH0438732A (ja)

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EP91100476A EP0460347B1 (en) 1990-06-04 1991-01-16 Optical disk and its manufacturing method
US07/902,422 US5182669A (en) 1990-06-04 1992-06-24 High density optical disk and method of making

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DE69119476T2 (de) 1996-09-19
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