JPH04373157A - ハイブリッドic - Google Patents

ハイブリッドic

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JPH04373157A
JPH04373157A JP3177366A JP17736691A JPH04373157A JP H04373157 A JPH04373157 A JP H04373157A JP 3177366 A JP3177366 A JP 3177366A JP 17736691 A JP17736691 A JP 17736691A JP H04373157 A JPH04373157 A JP H04373157A
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hybrid
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ivh
laminated
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はハイブリッドICに関し
、特に小型化を図るとともに実装構造の簡略化を図った
ハイブリッドICに関する。
【0002】
【従来の技術】従来のハイブリッドICの一例を図3の
一部破断斜視図に示す。このハイブリッドICは複数枚
の回路基板21〜25を多層に重ねて多層回路基板20
を形成し、各回路基板に形成した回路パターンをスルー
ホール2、盲目型IVH(Interstitial 
Via Hole )3、埋込型IVH4で相互に電気
接続して所要の回路を構成する。又、最上層の回路基板
21には半導体素子チップ5や各種チップ部品6を搭載
し、ボンディングワイヤ9による接続やフェースダウン
による接続等により電気接続し、所要のハイブリッド回
路を構成している。 尚、7は半導体素子チップ5を封止するための樹脂であ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のハイ
ブリッドICでは、積層回路基板20の最上層の回路基
板21に半導体素子チップ5や各種チップ部品6を搭載
するため、これらの搭載部品が表面に露呈された状態と
なる。このため、ハイブリッドICの上側に凹凸が生じ
るとともに、全体の高さ寸法が大きくなり、ハイブリッ
ドICを実装するためのスペースが大きく必要になると
いう問題がある。又、半導体素子チップ等が露呈されて
いることで、周囲の雑音に影響され易く、特に高周波信
号を取り扱う場合には、所要の信頼性を確保するために
は別にシールド構造が必要とされ、実装構造が複雑化す
るという問題がある。本発明の目的は小型化を図るとと
もに実装構造の簡略化を図ったハイブリッドICを提供
することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明のハイブリッドI
Cは、複数枚の回路基板を積層して構成した積層回路基
板内に半導体素子チップや各種チップ部品を埋設し、こ
れらを回路基板に設けた回路パターンに電気接続した構
成とする。又、最上層の回路基板の上面及び最下層の回
路基板の下面に夫々シールド用の導電膜を形成すること
が好ましい。
【0005】
【作用】本発明によれば、半導体素子チップや各種チッ
プ部品を積層回路基板内に埋設させ、積層回路基板内の
スペースの有効利用を図ってハイブリッドICの小型化
を可能とし、かつ各部品の露呈を防止してシールド効果
を高め、実装構造の簡略化を可能とする。
【0006】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の一実施例の一部破断斜視図である。 同図のように複数枚の回路基板(ここでは4枚)11〜
14を積層して積層回路基板1を形成し、各回路基板1
1〜14に設けた回路パターンをスルーホール2、盲目
型IVH3、埋込型IVH4で相互に電気接続し、所要
の回路を構成している。又、積層回路基板1の中間部に
は絶縁板15を介挿するとともに、この絶縁板には開口
を形成し、この開口に臨む下側の回路基板13に半導体
素子チップ5や各種チップ部品6を搭載し、かつ樹脂7
で封止することでこれらの部品が前記積層回路基板1の
内部に埋設されるように構成している。更に、この実施
例では最上層回路基板11の上面と、最下層回路基板1
4の下面には夫々導電膜16,17を形成し、シールド
膜として構成している。
【0007】図2は図1の構成を製造する方法を工程順
に示す断面図である。同図(a)のように、回路基板1
3の上面に設けた回路パターン13aの一部にバンプ1
3bを形成し、半導体素子チップ5のパターン面を下側
にしてフェースダウンボンディングにより搭載する。 又、図示は省略するが各種チップ部品も回路基板に搭載
する。そして、これら半導体素子チップやチップ部品に
相当する箇所に開口15aを設けた絶縁板15を回路基
板13上に重ね、接着する。次いで、同図(b)のよう
に、絶縁板15の開口部に樹脂7を注入し、半導体素子
チップやチップ部品を封止する。このとき、各部品の下
側の空隙には窒素8を充填させておくことが好ましい。
【0008】次いで、同図(c)のように、その上に回
路基板12を重ね、接着する。以後、同様に回路基板を
重ねることで積層回路基板を形成する。このとき、図示
は省略するが、埋込型IVHにより各回路基板の回路パ
ターンを導通させる。その後、所要の枚数の回路基板を
重ね、スルーホールや盲目型IVHで夫々の回路パター
ンを電気接続することで、図1のハイブリッドICが完
成される。
【0009】このハイブリッドICによれば、半導体素
子チップ5や各種チップ部品6は、多層回路基板1内に
埋設されるため、これらの部品が露呈されることはない
。このため、積層回路基板1内の空間を有効利用し、ハ
イブリッドICの全体の高さを低減させ、小型化を図る
ことができる。又、半導体素子チップ5等は積層回路基
板1内に埋設されるため、外部雑音が影響することは少
なく、電気的特性の安定化を図ることができる。特に、
この実施例では最上層及び最下層の各回路基板11,1
4にシールド膜16,17を設けているので、実装に際
してのシールド構造が不要となり、実装構造の簡略化を
図ることができる。
【0010】尚、複数枚の回路基板の夫々に半導体素子
チップや各種チップ部品を搭載させるように構成しても
よく、これにより各回路基板に形成する回路パターンの
簡易化を図ることもできる。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、複数枚の
回路基板を積層して構成した積層回路基板内に半導体素
子チップや各種チップ部品を埋設し、これらを回路基板
に設けた回路パターンに電気接続しているので、積層回
路基板の空間を利用して部品の搭載ができ、ハイブリッ
ドICの小型化が実現できるとともに、外部からの雑音
の影響を無くしてシールド構造等を不要にし、実装構造
の簡略化が達成できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のハイブリッドICの一実施例の一部破
断斜視図である。
【図2】(a)乃至(c)は図1の構造を製造する工程
を示す断面図である。
【図3】従来のハイブリッドICの一部破断斜視図であ
る。
【符号の説明】
1  積層回路基板 2  スルーホール 3  盲目型IVH 4  埋込型IVH 5  半導体素子チップ 6  各種チップ部品 7  樹脂 8  窒素

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  複数枚の回路基板を積層して積層回路
    基板を構成し、この積層回路基板内に半導体素子チップ
    や各種チップ部品を埋設し、これらを前記回路基板に設
    けた回路パターンに電気接続したことを特徴とするハイ
    ブリッドIC。
  2. 【請求項2】  最上層の回路基板の上面及び最下層の
    回路基板の下面に夫々シールド用の導電膜を形成してな
    る請求項1のハイブリッドIC。
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