JPH04373143A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH04373143A
JPH04373143A JP17741091A JP17741091A JPH04373143A JP H04373143 A JPH04373143 A JP H04373143A JP 17741091 A JP17741091 A JP 17741091A JP 17741091 A JP17741091 A JP 17741091A JP H04373143 A JPH04373143 A JP H04373143A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor integrated
integrated circuit
chip
circuit
test circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP17741091A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Manabu Miura
学 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP17741091A priority Critical patent/JPH04373143A/en
Publication of JPH04373143A publication Critical patent/JPH04373143A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a semiconductor integrated circuit device in which the area of a chip is reduced. CONSTITUTION:A test circuit 2a is formed on a dicing line 3, and connected with an internal circuit 4 constituted generally of a selector or the like, by using a wiring 6. A plurality of chips 1 are made to commonly use one test circuit 2a. Thereby the chip area can be reduced, so that the number of chips which can be obtained from one wafer is increased, and the device cost is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】この発明は、半導体集積回路装置
に関し、特にひとつのチップ面積を小さくしたものに関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and particularly to one in which the area of one chip is reduced.

【0002】0002

【従来の技術】図3はウエハ状態にあるときの従来の半
導体集積回路装置の要部の平面図である。図において、
1はチップ、2aはテスト回路、明示のため斜線を施し
た領域3はICを各チップに分割するときの切りしろと
なる領域であるダイシングライン、4は一般にセレクタ
などで構成される内部回路、5は集積回路本来の機能を
達成するための内部回路、7はボンディングパッド、8
aはテストパッド(ボンディングパッド)、9はチップ
1内の配線である。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a plan view of the main parts of a conventional semiconductor integrated circuit device in a wafer state. In the figure,
1 is a chip, 2a is a test circuit, a diagonally shaded area 3 for clarity is a dicing line which is a cutting margin when dividing the IC into each chip, 4 is an internal circuit generally consisting of a selector, etc. 5 is an internal circuit for achieving the original function of the integrated circuit; 7 is a bonding pad; 8 is an internal circuit for achieving the original function of the integrated circuit;
a is a test pad (bonding pad), and 9 is a wiring inside the chip 1.

【0003】次に動作について説明する。内部回路4は
一般にセレクタなどで構成され、半導体集積回路装置の
通常動作時はボンディングパッド7からの入力を、テス
ト時はテスト回路2aからの出力を選択し、内部回路5
へ入力する。
Next, the operation will be explained. The internal circuit 4 is generally composed of a selector and the like, and selects the input from the bonding pad 7 during normal operation of the semiconductor integrated circuit device and the output from the test circuit 2a during testing.
Enter.

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体集積回路
装置は以上のようにチップ1内部にテスト回路2aを設
けていたが、テスト回路2aは半導体集積回路装置のテ
ストを容易に行うだけのための回路なので、この装置の
通常動作時には不要である。このため、従来の半導体集
積回路装置ではテスト回路2aの占める領域分、チップ
1の面積が大きくなってしまうという問題点があった。 また、テスト回路2aをチップ1内部に設けているので
、そのテスト回路2aへのデータ入出力や制御入力をす
るテストパッド8a(ボンディングパッド)もチップ内
部に必要となるという問題点があった。
[Problems to be Solved by the Invention] The conventional semiconductor integrated circuit device is provided with the test circuit 2a inside the chip 1 as described above, but the test circuit 2a is provided only to easily test the semiconductor integrated circuit device. This circuit is unnecessary during normal operation of this device. For this reason, the conventional semiconductor integrated circuit device has a problem in that the area of the chip 1 increases by the area occupied by the test circuit 2a. Further, since the test circuit 2a is provided inside the chip 1, there is a problem in that a test pad 8a (bonding pad) for inputting/outputting data and controlling input to the test circuit 2a is also required inside the chip.

【0005】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、チップ面積を小さくできる半導
体集積回路装置を提供することを目的としている。
The present invention was made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device that can reduce the chip area.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体集
積回路装置は、この装置の通常動作時には不要であるテ
スト回路をダイシングライン上に設け、このテスト回路
とチップ内の内部回路とを配線したものである。また、
上記テスト回路を複数個のチップで共有するようにした
ものである。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes a test circuit that is unnecessary during normal operation of the device, which is provided on a dicing line, and a wiring between this test circuit and an internal circuit within a chip. It is something. Also,
The above test circuit is shared by multiple chips.

【0007】[0007]

【作用】この発明における半導体集積回路装置は、この
装置基板のダイシングライン上にテスト回路を設けるこ
とにより、半導体集積回路装置の通常動作時には不要な
テスト回路の面積分チップ面積を小さくでき、さらにこ
のテスト回路を複数個のチップで共有することにより、
1枚のウエハから得られるチップ数を増やすことができ
る。
[Function] By providing a test circuit on the dicing line of the device substrate, the semiconductor integrated circuit device of the present invention can reduce the chip area by the area of the test circuit that is unnecessary during normal operation of the semiconductor integrated circuit device. By sharing the test circuit with multiple chips,
The number of chips obtained from one wafer can be increased.

【0008】[0008]

【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1はこの発明の一実施例による半導体集積回路
装置がウエハ状態にあるときの要部の平面図である。図
において、1はチップ、2aはテスト回路でダイシング
ライン3上に設けられている。4は一般にセレクタなど
で構成される内部回路、5は集積回路本来の機能を達成
するための内部回路、6はダイシングライン3上に設け
たテスト回路2aと内部回路4とを接続する配線、7は
ボンディングパッド、8aはテストパッド、9はチップ
1内の配線である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of the main parts of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention when it is in a wafer state. In the figure, 1 is a chip, and 2a is a test circuit, which is provided on a dicing line 3. 4 is an internal circuit generally composed of a selector, etc.; 5 is an internal circuit for achieving the original functions of the integrated circuit; 6 is wiring connecting the test circuit 2a provided on the dicing line 3 and the internal circuit 4; 7 is a bonding pad, 8a is a test pad, and 9 is a wiring inside the chip 1.

【0009】次に上記実施例の動作について説明する。 テスト回路2aの出力とボンディングパッド7からの入
力を内部回路4により選択し、内部回路5へ入力する。 内部回路4は一般にセレクタなどで構成され、半導体集
積回路装置の通常動作時はボンディングパッド7からの
入力を、テスト時はテスト回路2aからの出力を選択す
る。
Next, the operation of the above embodiment will be explained. The output of the test circuit 2a and the input from the bonding pad 7 are selected by the internal circuit 4 and input to the internal circuit 5. The internal circuit 4 is generally composed of a selector and the like, and selects the input from the bonding pad 7 during normal operation of the semiconductor integrated circuit device, and selects the output from the test circuit 2a during testing.

【0010】テスト回路2aは半導体集積回路装置のテ
ストを容易に行うための回路であるから、この半導体集
積回路装置の通常動作時には不要な回路である。そこで
、このテスト回路2aを図2(a)に示すようにチップ
1内部に設けるのではなく、半導体集積回路装置基板上
のダイシングライン3上に形成する。このとき、図2(
b)に示した第1の実施例では、1つのチップ1に対し
てダイシングライン3上に設けたテスト回路2aを1つ
としており、図2(a)に示した従来の例におけるチッ
プ1よりもテスト回路2aの面積分チップ1の面積を小
さくできる。また、図1,図2(c)に示した第2の実
施例では、ダイシングライン3上に設けた1つのテスト
回路2aを複数のチップ1で共有させている。この場合
、テスト回路2aに対し入力および出力を行うテストパ
ッド8aをもテスト回路2a内に設けており、チップ1
の内部に設ける必要がなくなるので、チップ1の面積は
テスト回路2aおよびテストパッド8aが占める面積分
さらに小さくできる。
Since the test circuit 2a is a circuit for easily testing the semiconductor integrated circuit device, it is unnecessary during normal operation of the semiconductor integrated circuit device. Therefore, the test circuit 2a is not provided inside the chip 1 as shown in FIG. 2(a), but is formed on the dicing line 3 on the semiconductor integrated circuit device substrate. At this time, Figure 2 (
In the first embodiment shown in FIG. 2(b), one test circuit 2a is provided on the dicing line 3 for one chip 1, and the test circuit 2a is provided on the dicing line 3 for one chip 1. Also, the area of the chip 1 can be reduced by the area of the test circuit 2a. Further, in the second embodiment shown in FIGS. 1 and 2(c), one test circuit 2a provided on the dicing line 3 is shared by a plurality of chips 1. In this case, a test pad 8a for inputting and outputting to the test circuit 2a is also provided in the test circuit 2a, and the chip 1
Since the area of the chip 1 can be further reduced by the area occupied by the test circuit 2a and the test pad 8a.

【0011】[0011]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、半導
体集積回路装置の通常動作時には不要なテスト回路をダ
イシングライン上に設けたので、チップ面積を小さくで
きる。さらに、このテスト回路を複数のチップで共用す
れば、1枚のウエハから得られるチップ数が増え、装置
が安価にできる効果がある。
As described above, according to the present invention, a test circuit that is unnecessary during normal operation of a semiconductor integrated circuit device is provided on a dicing line, so that the chip area can be reduced. Furthermore, if this test circuit is shared by a plurality of chips, the number of chips that can be obtained from one wafer increases, which has the effect of making the device cheaper.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】この発明の一実施例による半導体集積回路装置
のウエハ状態にあるときの要部の平面図である。
FIG. 1 is a plan view of essential parts of a semiconductor integrated circuit device in a wafer state according to an embodiment of the present invention.

【図2】従来の半導体集積回路装置のウエハ状態の平面
図、1つのテスト回路に対し1つのチップの場合のウエ
ハ状態の平面図、及びこの発明により、1つのテスト回
路を複数のチップで共有している場合のウエハ状態の平
面図である。
[Fig. 2] A plan view of the wafer state of a conventional semiconductor integrated circuit device, a plan view of the wafer state in the case of one chip for one test circuit, and a plan view of the wafer state in the case of one chip for one test circuit, and one test circuit shared by multiple chips according to the present invention. FIG. 3 is a plan view of the wafer state when

【図3】従来の半導体集積回路装置のウエハ状態にある
ときの要部の平面図である。
FIG. 3 is a plan view of main parts of a conventional semiconductor integrated circuit device in a wafer state.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1    チップ 2a  テスト回路 3    ダイシングライン 4    内部回路(セレクタ) 6    テスト回路2aと内部回路4を接続する配線
7    ボンディングパッド 8a  テストパッド
1 Chip 2a Test circuit 3 Dicing line 4 Internal circuit (selector) 6 Wiring 7 connecting test circuit 2a and internal circuit 4 Bonding pad 8a Test pad

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  半導体集積回路装置基板上のダイシン
グライン上に設けたテスト回路と、前記テスト回路とチ
ップ内部の内部回路とを結ぶ配線とを備えたことを特徴
とする半導体集積回路装置。
1. A semiconductor integrated circuit device comprising: a test circuit provided on a dicing line on a semiconductor integrated circuit device substrate; and wiring connecting the test circuit to an internal circuit inside a chip.
【請求項2】  上記半導体集積回路装置において、ダ
イシングライン上に設けたテスト回路を複数個のチップ
で共有するようにしたことを特徴とする半導体集積回路
装置。
2. A semiconductor integrated circuit device as described above, wherein a test circuit provided on a dicing line is shared by a plurality of chips.
JP17741091A 1991-06-21 1991-06-21 Semiconductor integrated circuit device Pending JPH04373143A (en)

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JP17741091A JPH04373143A (en) 1991-06-21 1991-06-21 Semiconductor integrated circuit device

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JP17741091A JPH04373143A (en) 1991-06-21 1991-06-21 Semiconductor integrated circuit device

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JPH04373143A true JPH04373143A (en) 1992-12-25

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ID=16030443

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JP17741091A Pending JPH04373143A (en) 1991-06-21 1991-06-21 Semiconductor integrated circuit device

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JP (1) JPH04373143A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007258728A (en) * 2007-04-02 2007-10-04 Fujitsu Ltd Wafer level package, and method for manufacturing semiconductor device using wafer level package

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007258728A (en) * 2007-04-02 2007-10-04 Fujitsu Ltd Wafer level package, and method for manufacturing semiconductor device using wafer level package

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