JPH05175334A - Semiconductor integrated circuit and layout method thereof - Google Patents

Semiconductor integrated circuit and layout method thereof

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JPH05175334A
JPH05175334A JP3339125A JP33912591A JPH05175334A JP H05175334 A JPH05175334 A JP H05175334A JP 3339125 A JP3339125 A JP 3339125A JP 33912591 A JP33912591 A JP 33912591A JP H05175334 A JPH05175334 A JP H05175334A
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JP
Japan
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macro module
region
buffer
semiconductor integrated
integrated circuit
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP3339125A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Tokuyasu
陽彦 徳安
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent the wiring length from becoming too long concerning a semiconductor integrated circuit of a standard cell method and a layout method thereof. CONSTITUTION:A macro module comprising a core region 23, a wiring region 24 formed on the circumference of the core region 23, and a buffer arrangement region 25 adjacent to the wiring region 24 is adopted. After determining the arrangement position of the core region 23 in the macro module, the arrangement position of the buffer region 25 in the macro module is determined.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、スタンダードセル方式
の半導体集積回路、およびそのレイアウト方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a standard cell type semiconductor integrated circuit and a layout method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路の設計方式の1つとして
スタンダードセル方式が広く採用されている。このスタ
ンダードセル方式とは、あらかじめ設計されその動作が
検証された種々のスタンダードセルを登録しておき、実
際の設計にあたっては登録された種々のスタンダードセ
ルを組合せて所望の論理機能を満足する半導体集積回路
を実現する方式である。これらのスタンダードセルは、
通常単純な論理ゲートやフリップフロップ等の論理機能
を有しているが、かなり複雑な回路が一体化された種々
のマクロモジュールを登録しておき、マクロモジュール
をいくつか配置し、それらのマクロモジュールどうしの
間、およびそれらのマクロモジュールと外部回路とつな
ぐ入出力回路との間を配線することにより、1つの半導
体チップ内の回路を構成する場合もある。
2. Description of the Related Art The standard cell system is widely adopted as one of the design systems for semiconductor integrated circuits. The standard cell system is a semiconductor integrated circuit that registers various standard cells that have been designed and whose operation has been verified in advance, and that in the actual design, the various standard cells that have been registered are combined to satisfy a desired logic function. It is a method to realize a circuit. These standard cells are
Although it usually has simple logic gates and logical functions such as flip-flops, it registers various macro modules in which quite complicated circuits are integrated, arranges some macro modules, and then arranges those macro modules. In some cases, a circuit in one semiconductor chip may be configured by wiring between them and between the macro module and an input / output circuit connected to an external circuit.

【0003】図3は、マクロモジュールを使用した従来
の半導体集積回路のレイアウトの一例を示した模式図で
ある。この例ではA〜Eの5つのマクロモジュールが使
用されており、マクロモジュールA内の内部用出力バッ
ファ1はマクロモジュールAの端子a1,配線l1 ,マ
クロモジュールDの端子d1を経由し、マクロモジュー
ルDの内部用入力バッファ14と接続されている。また
これと同様にマクロモジュールAの各内部用入出力バッ
ファ2,3,4は各端子a2 ,a3 ,a4 、各配線l
2 ,l3 ,l4 、各端子d2 ,d3 ,d4 を経由してマ
クロモジュールDの各内部用入出力バッファ15,1
6,17と接続されている。また、マクロモジュールA
の各内部用出力バッファ5,6は各端子a5 ,a6 、各
配線l8 ,l9 、各端子b2 ,b1 を経由してマクロモ
ジュールBの各内部用入力バッファ13,12と接続さ
れている。さらにマクロモジュールの各内部用出力バッ
ファ7,8は、端子a7 ,a8、配線l10,l11、端子
1 ,g1 を経由して、各I/Oバッファ21,22と
接続されている。またマクロモジュールAの内部用出力
バッファ9,各入出バッファ10,11は、各端子a
9 ,a10,a11、各配線l5 ,l6 ,l7 、各端子e
1 ,e2 ,e3 を経由してマクロモジュールEの内部用
入力バッファ18、各内部用入出力バッファ19,20
と接続されている。
FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a layout of a conventional semiconductor integrated circuit using a macro module. In this example, five macro modules A to E are used, and the internal output buffer 1 in the macro module A passes through a terminal a1, a wire l 1 of the macro module A, and a terminal d1 of the macro module D to It is connected to the internal input buffer 14 of the module D. Similarly, the internal input / output buffers 2 , 3 , 4 of the macro module A have terminals a 2 , a 3 , a 4 and wirings l, respectively.
Input / output buffers 15 and 1 for each internal of the macro module D via 2 , l 3 and l 4 and terminals d 2 , d 3 and d 4.
6 and 17 are connected. Also, macro module A
The internal output buffers 5 and 6 of the macro module B are connected to the internal input buffers 13 and 12 of the macro module B via the terminals a 5 and a 6 , the wirings l 8 and l 9 and the terminals b 2 and b 1 , respectively. It is connected. Further, the internal output buffers 7 and 8 of the macro module are connected to the I / O buffers 21 and 22 via terminals a 7 and a 8 , wirings l 10 and l 11 , terminals f 1 and g 1 , respectively. ing. Further, the internal output buffer 9 and the input / output buffers 10 and 11 of the macro module A are connected to the terminals a.
9 , a 10 , a 11 , wirings l 5 , l 6 , l 7 and terminals e
The internal input buffer 18 of the macro module E and the internal input / output buffers 19, 20 via 1 , e 2 , e 3
Connected with.

【0004】上記のように、各マクロモジュールA〜E
には、その周辺部に、他のマクロモジュールないしI/
Oバッファと接続するための、内部用入力バッファ、内
部用出力バッファあるいは入出力バッファ(以下、簡単
のためこれらを総称して単に「バッファ」と呼ぶ)およ
び各端子が備えられており、それらの端子間を配線する
ことにより全体の回路が完成することになる。
As described above, each macro module A to E
, The other macro module or I /
An internal input buffer, an internal output buffer, or an input / output buffer (hereinafter collectively referred to simply as “buffer” for simplicity) and each terminal for connecting to the O buffer are provided. The entire circuit is completed by wiring the terminals.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、マクロモジ
ュールは、そのマクロモジュール内におけるバッファ配
置位置、端子の配置位置を含め、そのマクロモジュール
を構成する各要素の配置位置が定められているため、マ
クロモジュールの組合せやレイアウトによっては、例え
ば図3に示す配線l5 〜l7 ,l10,l11のように配線
長が極めて長くなってしまい、高速動作の妨げとなる場
合がある。このためレイアウトを変更を余儀なくされ、
レイアウト変更で対処できない場合は途中にさらにバッ
ファを配置する等の対策が必要となる場合も生じてい
た。
However, since the macro module defines the arrangement position of each element constituting the macro module, including the buffer arrangement position and the terminal arrangement position in the macro module, the macro module is some modules of the combination or layout, for example, the wiring length as line l 5 ~l 7, l 10, l 11 shown in FIG. 3 becomes extremely long, which may hinder high-speed operation. This forced us to change the layout,
If the layout cannot be dealt with, it may be necessary to take measures such as arranging a buffer on the way.

【0006】本発明は、上記事情に鑑み、配線長が極端
に長くなってしまうことを防止したスタンダードセル方
式の半導体集積回路およびそのレイアウト方法を提供す
ることを目的とする。
In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a standard cell type semiconductor integrated circuit in which the wiring length is prevented from becoming extremely long and a layout method thereof.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の半導体集積回路は、スタンダードセル方式の半導体
集積回路において、コア領域と、該コア領域の周囲に形
成された配線領域と、該配線領域に隣接するバッファ配
置領域とからなるマクロモジュールを備えたことを特徴
とするものである。
A semiconductor integrated circuit of the present invention which achieves the above object is a standard cell type semiconductor integrated circuit, wherein a core region, a wiring region formed around the core region and the wiring are formed. The present invention is characterized in that a macro module including a buffer arrangement area adjacent to the area is provided.

【0008】また、本発明の半導体集積回路のレイアウ
ト方法は、スタンダードセル方式の半導体集積回路のレ
イアウト方法において、コア領域と、該コア領域の周囲
に形成された配線領域と、該配線領域に隣接するバッフ
ァ配置領域とからなるマクロモジュールを採用し、該マ
クロモジュールの前記コア領域の配置位置を定めた後に
該マクロモジュールのバッファの配置位置を定めること
を特徴とするものである。
The semiconductor integrated circuit layout method of the present invention is the same as the standard cell type semiconductor integrated circuit layout method, in which the core region, the wiring region formed around the core region, and the wiring region are adjacent to the core region. And a buffer arranging area of the macro module is used, and after arranging the arranging position of the core area of the macro module, the arranging position of the buffer of the macro module is determined.

【0009】[0009]

【作用】本発明は、マクロモジュールを、コア領域とバ
ッファ配置領域とに分離し、バッファの配置位置を後か
ら定めるようにしたため、レイアウトが簡単となり、ま
た配線長が極端に長くなることが防止される。
According to the present invention, the macro module is divided into the core area and the buffer arranging area, and the buffer arranging position is determined later. Therefore, the layout is simplified and the wiring length is prevented from becoming extremely long. To be done.

【0010】[0010]

【実施例】以下本発明の実施例について説明する。図1
は、本発明の実施例に係る半導体集積回路内の1つのマ
クロモジュールを表わした模式図である。この図に示す
マクロモジュールA’は、図3に示すマクロモジュール
Aと同等の機能を備えたマクロモジュールであって、図
3に示すマクロモジュールAの各端子と同一の位置に配
置された端子には図3に付した符号と同一の符号を付し
て示し、図3に示すマクロモジュールAの各端子と比べ
同一機能かつ異なる配置に配置された端子には図3に付
した符号と同一の符号にダッシュを付して示してある。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. Figure 1
FIG. 3 is a schematic diagram showing one macro module in a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention. A macro module A ′ shown in this figure is a macro module having a function equivalent to that of the macro module A shown in FIG. 3, and the macro module A ′ has terminals arranged at the same positions as the terminals of the macro module A shown in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals as those shown in FIG. 3, and terminals arranged in the same function and different arrangement as those of the terminals of the macro module A shown in FIG. 3 have the same reference numerals as those shown in FIG. The symbols are shown with dashes.

【0011】このマクロモジュールA’は、多数の論理
回路素子が組合わされて構成されたコア領域23と、そ
のコア領域23の周囲の配線領域24と、さらにその配
線領域24に隣接するバッファ配置領域25とから構成
されている。ここで、コア領域23の周囲の配線領域2
4やバッファ配置領域25のスペースを考慮した上で、
先ずコア領域23の半導体チップ上のレイアウトを定
め、次にこのマクロモジュールA’と接続される他のマ
クロモジュールもしくはI/Oバッファの配置を考慮し
てこのマクロモジュールA’から外部に延びる配線の長
さが短くなるように各バッファおよび各端子のレイアウ
トを定める。このとき、コア領域23からバッファまで
の間の配線が多少延びることはあるが、これは、コア領
域23の近傍に配線されるものであるためその長さが極
端に長くなることはなく、このマクロモジュールA’の
設計段階で十分に考慮し得るレベルの長さにとどまる。
The macro module A'includes a core region 23 formed by combining a large number of logic circuit elements, a wiring region 24 around the core region 23, and a buffer placement region adjacent to the wiring region 24. 25 and 25. Here, the wiring region 2 around the core region 23
4 and buffer placement area 25,
First, the layout of the core region 23 on the semiconductor chip is determined, and then, considering the arrangement of another macro module or I / O buffer connected to this macro module A ′, the wiring extending from this macro module A ′ to the outside is considered. Layout each buffer and each terminal so that the length is short. At this time, the wiring from the core region 23 to the buffer may extend to some extent, but since it is wired in the vicinity of the core region 23, its length does not become extremely long. The length of the macro module A'can be sufficiently considered at the design stage.

【0012】図2は、図1に示すようにバッファが配置
されたマクロモジュールA’を、図3に示すマクロモジ
ュールAに代えて配置したときの半導体チップ上のレイ
アウトの模式図である。尚、この図2においては、繁雑
さを避けるため、バッファの図示は省略してある。マク
ロモジュールA’のバッファおよび端子を図1に示すよ
うに配置することにより、この図2の配線l5 ’〜l
7 ’,l10’,l11’に示すように、図3に示す各配線
5 〜l7 ,l10,l11と比べ短い配線で済むこととな
り、マクロモジュール間、もしくはマクロモジュールと
I/Oバッファとの間をつなぐ配線の途中に特にバッフ
ァを備えることなく高速動作に対応することができるこ
ととなる。
FIG. 2 is a schematic diagram of a layout on a semiconductor chip when the macro module A'where the buffers are arranged as shown in FIG. 1 is arranged in place of the macro module A shown in FIG. In FIG. 2, the buffer is not shown in order to avoid complexity. 'By placing the buffer and terminals as shown in Figure 1, in the FIG. 2 line l 5' macro module A to l
7 ', l 10', as shown in l 11 ', it will be taking less wiring compared with each wiring l 5 ~l 7, l 10, l 11 shown in FIG. 3, between the macro module or macro module and I This makes it possible to cope with high-speed operation without providing a buffer in the middle of the wiring that connects to the / O buffer.

【0013】[0013]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路及びそのレイアウト方法は、コア領域とバッファ
配置領域とを分離してその間に配線領域を設け、全体の
レイアウトを考慮してバッファの配置位置を定めるよう
にしたため、マクロモジュールと他の回路あるいはI/
Oバッファとを結ぶ配線の長さを短くすることができ、
高速処理に向いた半導体集積回路が実現されることとな
る。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit and the layout method thereof of the present invention, the core region and the buffer arranging region are separated from each other and the wiring region is provided between them, and the buffer is considered in consideration of the entire layout. Since the arrangement position is decided, the macro module and other circuits or I /
The length of the wiring connecting to the O buffer can be shortened,
A semiconductor integrated circuit suitable for high-speed processing will be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の半導体集積回路内の1つの
マクロモジュールを表わした模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing one macro module in a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示すマクロモジュールA’を、図3に示
すマクロモジュールAに代えて配置した、半導体チップ
上のレイアウトの模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram of a layout on a semiconductor chip in which a macro module A ′ shown in FIG. 1 is arranged instead of the macro module A shown in FIG.

【図3】マクロモジュールを使用した従来の半導体集積
回路のレイアウトの一例を示した模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a layout of a conventional semiconductor integrated circuit using a macro module.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A,A’,B,C,D,E マクロモジュール a1 ,a2 ,a3 ,…,b1 ,b2 ,… 端子 l1 ,l2 ,l3 ,… 配線 23 コア領域 24 配線領域 25 バッファ配置領域A, A ', B, C , D, E macromodule a 1, a 2, a 3 , ..., b 1, b 2, ... terminal l 1, l 2, l 3 , ... wire 23 core region 24 wiring region 25 buffer placement area

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スタンダードセル方式の半導体集積回路
において、コア領域と、該コア領域の周囲に形成された
配線領域と、該配線領域に隣接するバッファ配置領域と
からなるマクロモジュールを備えたことを特徴とする半
導体集積回路。
1. A standard cell type semiconductor integrated circuit comprising a macro module comprising a core region, a wiring region formed around the core region, and a buffer arrangement region adjacent to the wiring region. A characteristic semiconductor integrated circuit.
【請求項2】 スタンダードセル方式の半導体集積回路
のレイアウト方法において、コア領域と、該コア領域の
周囲に形成された配線領域と、該配線領域に隣接するバ
ッファ配置領域とからなるマクロモジュールを採用し、 該マクロモジュールの前記コア領域の配置位置を定めた
後に該マイクロモジュールのバッファの配置位置を定め
ることを特徴とする半導体集積回路のレイアウト方法。
2. A standard module type semiconductor integrated circuit layout method employs a macro module comprising a core region, a wiring region formed around the core region, and a buffer arrangement region adjacent to the wiring region. The layout method of the semiconductor integrated circuit is characterized in that after the arrangement position of the core region of the macro module is determined, the arrangement position of the buffer of the micro module is determined.
JP3339125A 1991-12-21 1991-12-21 Semiconductor integrated circuit and layout method thereof Withdrawn JPH05175334A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08213467A (en) * 1995-01-31 1996-08-20 Nec Corp Designing scheme for semiconductor integrated circuit
US6134704A (en) * 1998-04-03 2000-10-17 International Business Machines Corporation Integrated circuit macro apparatus
US6510549B1 (en) 1999-02-17 2003-01-21 Nec Corporation Method of designing a semiconductor integrated circuit device in a short time

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