JPH04345943A - 光磁気記録方法 - Google Patents
光磁気記録方法Info
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- JPH04345943A JPH04345943A JP3147951A JP14795191A JPH04345943A JP H04345943 A JPH04345943 A JP H04345943A JP 3147951 A JP3147951 A JP 3147951A JP 14795191 A JP14795191 A JP 14795191A JP H04345943 A JPH04345943 A JP H04345943A
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- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
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- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ光を用いて情報の
記録、再生、消去を行う光磁気記録方法に関する。
記録、再生、消去を行う光磁気記録方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】現在行
われている光磁気記録方法では、情報を記録する時に、
消去、記録、照合の3工程が必要であるため時間がかか
るという問題がある。この問題を解決するため、以下に
述べるような種々のオーバーライトの方式が提案されて
いる。
われている光磁気記録方法では、情報を記録する時に、
消去、記録、照合の3工程が必要であるため時間がかか
るという問題がある。この問題を解決するため、以下に
述べるような種々のオーバーライトの方式が提案されて
いる。
【0003】(i)磁界変調方式
照射レーザビームの強度を一定に保ち記録情報に応じて
印加磁界の極性を高速に反転させて記録を行う方式であ
る(特開昭63−204532号、同63−76135
号公報等)。この方式では、印加磁界の極性を高速に反
転させなければならないため、媒体面からある程度離れ
た位置から記録に必要な磁界を発生させるためのパワー
が大きくなり、高周波化は困難である。また、磁気ヘッ
ドを媒体面に近接させる方法も提案されているが、この
方法では光ディスク本来の非接触というメリットがなく
なる。
印加磁界の極性を高速に反転させて記録を行う方式であ
る(特開昭63−204532号、同63−76135
号公報等)。この方式では、印加磁界の極性を高速に反
転させなければならないため、媒体面からある程度離れ
た位置から記録に必要な磁界を発生させるためのパワー
が大きくなり、高周波化は困難である。また、磁気ヘッ
ドを媒体面に近接させる方法も提案されているが、この
方法では光ディスク本来の非接触というメリットがなく
なる。
【0004】(ii)交換結合2層膜方式希土類金属−
遷移金属アモルファス合金の2層膜を記録膜とする光磁
気記録媒体を使用し、2層間の交換結合を利用してオー
バーライトを行う方式である(特開昭62−17594
8号公報等)。具体的には、例えばTbFeからなる記
録層とTbFeCoからなる補助層を備えた光磁気記録
媒体を用い、初期化を行った後、外部磁界の印加とパワ
ーの異なるレーザビームの照射とによりオーバーライト
を実現しようとするものである。この方法では、2層間
の交換結合力を制御するのが困難で生産性が悪い、記録
膜全体の膜厚が厚くなるため記録感度が悪くなる、記録
レーザパワーを高レベルと低レベルの2値のパワーで制
御するためそれぞれのマージンが狭くなる、初期化に大
きな磁界が必要である、等の問題がある。
遷移金属アモルファス合金の2層膜を記録膜とする光磁
気記録媒体を使用し、2層間の交換結合を利用してオー
バーライトを行う方式である(特開昭62−17594
8号公報等)。具体的には、例えばTbFeからなる記
録層とTbFeCoからなる補助層を備えた光磁気記録
媒体を用い、初期化を行った後、外部磁界の印加とパワ
ーの異なるレーザビームの照射とによりオーバーライト
を実現しようとするものである。この方法では、2層間
の交換結合力を制御するのが困難で生産性が悪い、記録
膜全体の膜厚が厚くなるため記録感度が悪くなる、記録
レーザパワーを高レベルと低レベルの2値のパワーで制
御するためそれぞれのマージンが狭くなる、初期化に大
きな磁界が必要である、等の問題がある。
【0005】(iii)2ビーム方式
媒体上の隣接する2つのトラックの上にレーザビームを
照射しながら1周ごとに磁界を反転させるか、もしくは
同一トラック上の2箇所にレーザビームを照射しかつそ
れぞれの照射位置に逆方向の磁界を印加して記録、消去
を行う方法である(特開昭62−120646号、同6
2−170051号、同62−208444号公報等)
。この方法では、記録、消去に必要な逆方向の磁界をあ
る程度離れた位置から印加するためにはどうしてもビー
ムスポットの間の距離をあけなければならず、このため
消去と記録との間に時間差が生じ、理想的なオーバーラ
イトとはいえない。
照射しながら1周ごとに磁界を反転させるか、もしくは
同一トラック上の2箇所にレーザビームを照射しかつそ
れぞれの照射位置に逆方向の磁界を印加して記録、消去
を行う方法である(特開昭62−120646号、同6
2−170051号、同62−208444号公報等)
。この方法では、記録、消去に必要な逆方向の磁界をあ
る程度離れた位置から印加するためにはどうしてもビー
ムスポットの間の距離をあけなければならず、このため
消去と記録との間に時間差が生じ、理想的なオーバーラ
イトとはいえない。
【0006】(iv)磁壁移動方式
単一レーザビーム、単層磁性膜の媒体でレーザ照射方法
を変えて記録、消去を制御する方式である(JJAP,
28,p3−9(1989)、Appl.Phys.L
ett.55,p315−317(1989))。この
方法では、書き換え時にすでに記録されているビットの
位置に正確にレーザビームを照射する必要がある、記録
消去間の条件が微妙である、マーク長記録が困難である
、等の問題がある。
を変えて記録、消去を制御する方式である(JJAP,
28,p3−9(1989)、Appl.Phys.L
ett.55,p315−317(1989))。この
方法では、書き換え時にすでに記録されているビットの
位置に正確にレーザビームを照射する必要がある、記録
消去間の条件が微妙である、マーク長記録が困難である
、等の問題がある。
【0007】上記のようにオーバーライト方式として提
案されている各方式はいずれも長所ばかりでなく短所も
合わせ持っており、理想的なオーバーライトのためには
各々の短所を改善する必要がある。
案されている各方式はいずれも長所ばかりでなく短所も
合わせ持っており、理想的なオーバーライトのためには
各々の短所を改善する必要がある。
【0008】本発明はこのような従来技術の実情に鑑み
てなされたもので、基本的には上記(iv)の方式に属
し、それに加え上記(iii)の方式を利用してこれら
の方式が持つ欠点が解消された光磁気記録方法を提供す
ることを目的とする。
てなされたもので、基本的には上記(iv)の方式に属
し、それに加え上記(iii)の方式を利用してこれら
の方式が持つ欠点が解消された光磁気記録方法を提供す
ることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
、本発明によれば、光磁気記録媒体の同一トラック上の
近接する位置に2個のレーザビームスポットを照射し、
先行するレーザビームスポットは一定パワー又は同一の
連続パルスで照射を行い、後行するレーザビームスポッ
トは記録すべき信号に応じて強度を変化させて照射を行
うことを特徴とする光磁気記録方法が提供される。
、本発明によれば、光磁気記録媒体の同一トラック上の
近接する位置に2個のレーザビームスポットを照射し、
先行するレーザビームスポットは一定パワー又は同一の
連続パルスで照射を行い、後行するレーザビームスポッ
トは記録すべき信号に応じて強度を変化させて照射を行
うことを特徴とする光磁気記録方法が提供される。
【0010】以下本発明の方法を図面に基づき詳述する
。本発明の方法では、図1に示すように光磁気記録媒体
のトラック1上の近接する位置に2個のレーザビームス
ポット2,3を照射する。先行するレーザビームスポッ
ト2は消去用であり、後行するレーザビームスポット3
は記録用である。なお、図中4は記録情報である。消去
用レーザビームスポット2は図2の(a)に示すような
一定パワー(DC)、又は図2の(b)あるいは(c)
に示すような同一の連続パルスで照射する。一方、記録
用レーザビームスポット3は図3の(b)ないし(g)
のように記録すべき信号に応じて変調させて照射する。 なお、図3の(a)は記録信号の波形を示す。 2つのレーザビームスポット2と3の間隔は特に制限は
ないが、1mm以下、特に0.1mm以下が効果的であ
り、1μm程度まで近づけてもよい。このようにすると
光学ヘッドが1つですみ(LDアレイ等の使用が可)、
また1ヘッドで2つのビームスポット間距離が長いもの
と比較して光学系の調整、フォーカス、トラッキングサ
ーボ等が容易となる。2個のレーザビームスポット2,
3を形成する方法としては、回折格子、レーザダイオー
ドアレイ、ダイクロイックミラー、偏光ビームスプリッ
ター等を利用する方法がある。
。本発明の方法では、図1に示すように光磁気記録媒体
のトラック1上の近接する位置に2個のレーザビームス
ポット2,3を照射する。先行するレーザビームスポッ
ト2は消去用であり、後行するレーザビームスポット3
は記録用である。なお、図中4は記録情報である。消去
用レーザビームスポット2は図2の(a)に示すような
一定パワー(DC)、又は図2の(b)あるいは(c)
に示すような同一の連続パルスで照射する。一方、記録
用レーザビームスポット3は図3の(b)ないし(g)
のように記録すべき信号に応じて変調させて照射する。 なお、図3の(a)は記録信号の波形を示す。 2つのレーザビームスポット2と3の間隔は特に制限は
ないが、1mm以下、特に0.1mm以下が効果的であ
り、1μm程度まで近づけてもよい。このようにすると
光学ヘッドが1つですみ(LDアレイ等の使用が可)、
また1ヘッドで2つのビームスポット間距離が長いもの
と比較して光学系の調整、フォーカス、トラッキングサ
ーボ等が容易となる。2個のレーザビームスポット2,
3を形成する方法としては、回折格子、レーザダイオー
ドアレイ、ダイクロイックミラー、偏光ビームスプリッ
ター等を利用する方法がある。
【0011】上記では2個のレーザビームスポット2,
3を用いているが、記録用レーザビームスポットの後に
更に第3の再生用レーザビームスポットを照射し、記録
情報の照合も同時に行ってもよい。
3を用いているが、記録用レーザビームスポットの後に
更に第3の再生用レーザビームスポットを照射し、記録
情報の照合も同時に行ってもよい。
【0012】消去用及び記録用レーザビームの各々の機
能の違いはレーザの照射方法の違いにより、スポット近
傍の温度分布の変化を与え、これによって、反磁界及び
磁壁エネルギー(磁区が縮まろうとする力となる)が変
化することによって起こるものであるため、基本的には
記録時に磁界を印加する必要はないが、光ヘッドアクチ
ュエータからの漏れ磁界(トラック、フォーカスのオフ
セットに応じ変化する場合もある)をキャンセルするた
め、あるいは前記2つのレーザビームの機能をより確実
にするために磁界を印加するようにしてもよい。この場
合、当然のことながら、2つのスポット位置に印加され
る磁界の大きさはほぼ同じとする。印加磁界の値は10
0(Oe)程度以下が適当であり、この値は一般の光磁
気記録の場合より小さい。
能の違いはレーザの照射方法の違いにより、スポット近
傍の温度分布の変化を与え、これによって、反磁界及び
磁壁エネルギー(磁区が縮まろうとする力となる)が変
化することによって起こるものであるため、基本的には
記録時に磁界を印加する必要はないが、光ヘッドアクチ
ュエータからの漏れ磁界(トラック、フォーカスのオフ
セットに応じ変化する場合もある)をキャンセルするた
め、あるいは前記2つのレーザビームの機能をより確実
にするために磁界を印加するようにしてもよい。この場
合、当然のことながら、2つのスポット位置に印加され
る磁界の大きさはほぼ同じとする。印加磁界の値は10
0(Oe)程度以下が適当であり、この値は一般の光磁
気記録の場合より小さい。
【0013】本発明の方法では、図4に示すように、消
去後の磁区の磁化方向は、記録トラック1の周辺の磁化
方向と同一(図4(a))であってもよいし、逆向き(
図4(b))であってもよい。また、記録磁区の磁化方
向についても、消去状態から反転させる場合を“1”と
し、反転させない場合を“0”としてもよいし、その逆
の関係としてもよい。
去後の磁区の磁化方向は、記録トラック1の周辺の磁化
方向と同一(図4(a))であってもよいし、逆向き(
図4(b))であってもよい。また、記録磁区の磁化方
向についても、消去状態から反転させる場合を“1”と
し、反転させない場合を“0”としてもよいし、その逆
の関係としてもよい。
【0014】また、本発明の方法に使用される光磁気記
録媒体としては希土類金属−遷移金属アモルファス合金
膜(厚さ0.03〜1μm程度)を有するものが好まし
いが、特に限定されない。上記アモルファス合金膜の少
なくとも一方は0.2mm以上の厚さの保護層で覆われ
ていることが望ましい。また、媒体のタイプとしては片
面記録仕様でも両面記録仕様でもよい。
録媒体としては希土類金属−遷移金属アモルファス合金
膜(厚さ0.03〜1μm程度)を有するものが好まし
いが、特に限定されない。上記アモルファス合金膜の少
なくとも一方は0.2mm以上の厚さの保護層で覆われ
ていることが望ましい。また、媒体のタイプとしては片
面記録仕様でも両面記録仕様でもよい。
【0015】
【実施例】次に本発明の実施例を説明する。
実施例1
光磁気記録媒体としてTbDyFeCoアモルファス合
金膜(補償温度約140℃、キュリー温度200℃)を
記録膜とする両面貼り合わせタイプの媒体を用い、下記
の条件でオーバーライトを行ったところ、良好な結果が
得られた。なお、消去用レーザビーム及び記録用レーザ
ビームの照射方法をそれぞれ図5及び図6に示す。 ・記録バイアス磁界:0Oe(光学ヘッドを磁気シール
ドし、更に漏れ磁界を電磁石でキャンセルした)・記録
、消去レーザビームスポット間距離:30μm・消去用
レーザ照射条件:5mW DC・記録用レーザ照射条
件:“1”・・・PH=15mW、PL=1mW、パル
ス幅=30ns、パルス周期=100ns “0”・・・1mW 連続 ・線速:3m/S
金膜(補償温度約140℃、キュリー温度200℃)を
記録膜とする両面貼り合わせタイプの媒体を用い、下記
の条件でオーバーライトを行ったところ、良好な結果が
得られた。なお、消去用レーザビーム及び記録用レーザ
ビームの照射方法をそれぞれ図5及び図6に示す。 ・記録バイアス磁界:0Oe(光学ヘッドを磁気シール
ドし、更に漏れ磁界を電磁石でキャンセルした)・記録
、消去レーザビームスポット間距離:30μm・消去用
レーザ照射条件:5mW DC・記録用レーザ照射条
件:“1”・・・PH=15mW、PL=1mW、パル
ス幅=30ns、パルス周期=100ns “0”・・・1mW 連続 ・線速:3m/S
【0016】実施例2
消去用レーザ照射条件及び記録用レーザ照射条件を下記
のようにしたこと以外は実施例1と同様にしてオーバー
ライトを行ったところ、上記と同様、良好な結果を得た
。なお、消去用レーザビーム及び記録用レーザビームの
照射方法をそれぞれ図7及び図8に示す。 ・消去用レーザ照射条件:PH=15mW、PL=1m
W、パルス幅=30ns、パルス周期=100ns・記
録用レーザ照射条件:“1”・・・15mW、パルス幅
20ns+1mW、10ns+5mW連続“0”・・・
1mW 連続
のようにしたこと以外は実施例1と同様にしてオーバー
ライトを行ったところ、上記と同様、良好な結果を得た
。なお、消去用レーザビーム及び記録用レーザビームの
照射方法をそれぞれ図7及び図8に示す。 ・消去用レーザ照射条件:PH=15mW、PL=1m
W、パルス幅=30ns、パルス周期=100ns・記
録用レーザ照射条件:“1”・・・15mW、パルス幅
20ns+1mW、10ns+5mW連続“0”・・・
1mW 連続
【0017】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、同一トラック
上の近接位置に2個のレーザビームスポットを照射し、
先行するレーザビームスポットを一定パワー又は同一の
連続パルスで照射して消去用として用い、後行するレー
ザビームスポットを記録すべき信号に応じて強度を変化
させて照射して記録用として用いたので、以下のような
効果が得られる。 ■オーバーライトが可能となる。 ■記録媒体の構成が簡単なもので良く、生産性が高い。 ■非接触であり、信頼性が高い。 ■データ転送速度が大きい。 ■記録感度が良く、高パワーのレーザを必要としない。 ■磁界印加による初期化は必要ない。 ■マーク長記録が可能であり、高密度化が図れる。
上の近接位置に2個のレーザビームスポットを照射し、
先行するレーザビームスポットを一定パワー又は同一の
連続パルスで照射して消去用として用い、後行するレー
ザビームスポットを記録すべき信号に応じて強度を変化
させて照射して記録用として用いたので、以下のような
効果が得られる。 ■オーバーライトが可能となる。 ■記録媒体の構成が簡単なもので良く、生産性が高い。 ■非接触であり、信頼性が高い。 ■データ転送速度が大きい。 ■記録感度が良く、高パワーのレーザを必要としない。 ■磁界印加による初期化は必要ない。 ■マーク長記録が可能であり、高密度化が図れる。
【0018】また、請求項2〜4の発明によれば、ビー
ムスポットの位置に逆方向の磁界をかける必要がなく、
また媒体の回転毎に磁界の方向を反転させる必要がない
。したがって、複雑な磁界印加装置が必要ないという利
点がある。
ムスポットの位置に逆方向の磁界をかける必要がなく、
また媒体の回転毎に磁界の方向を反転させる必要がない
。したがって、複雑な磁界印加装置が必要ないという利
点がある。
【0019】さらに、請求項5の発明によれば、記録情
報の照合も同時にでき、記録に必要な時間をより一層短
縮することが可能となる。
報の照合も同時にでき、記録に必要な時間をより一層短
縮することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法で用いる2つのレーザビームスポ
ットの照射位置の関係を示す図である。
ットの照射位置の関係を示す図である。
【図2】消去用レーザビームの照射方法の説明図である
。
。
【図3】記録用レーザビームの照射方法の説明図である
。
。
【図4】消去後の磁区の磁化方向の説明図である。
【図5】実施例1における消去用レーザビームの照射方
法の説明図である。
法の説明図である。
【図6】実施例1における記録用レーザビームの照射方
法の説明図である。
法の説明図である。
【図7】実施例2における消去用レーザビームの照射方
法の説明図である。
法の説明図である。
【図8】実施例2における記録用レーザビームの照射方
法の説明図である。
法の説明図である。
1 記録トラック
2 消去用レーザビームスポット
3 記録用レーザビームスポット
4 記録情報
Claims (5)
- 【請求項1】 光磁気記録媒体の同一トラック上の近
接する位置に2個のレーザビームスポットを照射し、先
行するレーザビームスポットは一定パワー又は同一の連
続パルスで照射を行い、後行するレーザビームスポット
は記録すべき信号に応じて強度を変化させて照射を行う
ことを特徴とする光磁気記録方法。 - 【請求項2】 前記2個のレーザビームスポットの位
置にほぼ同一の強度の磁界を印加することを特徴とする
請求項1に記載の光磁気記録方法。 - 【請求項3】 記録時の印加磁界の方向が常に同一方
向であることを特徴とする請求項2に記載の光磁気記録
方法。 - 【請求項4】 前記2個のレーザビームスポットの位
置には外部より磁界を印加しないことを特徴とする請求
項1に記載の光磁気記録方法。 - 【請求項5】 後行するレーザビームスポットの後方
に第3のレーザビームスポットを照射し、該第3のレー
ザビームスポットを記録情報の照合に用いることを特徴
とする光磁気記録方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3147951A JPH04345943A (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | 光磁気記録方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3147951A JPH04345943A (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | 光磁気記録方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04345943A true JPH04345943A (ja) | 1992-12-01 |
Family
ID=15441766
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3147951A Pending JPH04345943A (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | 光磁気記録方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04345943A (ja) |
-
1991
- 1991-05-23 JP JP3147951A patent/JPH04345943A/ja active Pending
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