JPH0434505Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は、第２図に示すように、ミラー１を回
転させて図示しないレーザ光源からの光ビーム２
を反射し、感光材料３上を露光走査して文字・画
像を記録することにより印刷用版下等を出力する
レーザプリンタ等の出力装置における光走査用ミ
ラーに関するものである。

［用語の説明］ 以下の説明では、ミラーへの入射光とその入射
位置における反射面の法線とが成す角を入射角θ
と言う。

［従来技術］ 上記のようなレーザプリンタでは、回転するミ
ラーにより一定方向から入射する光ビーム２を反
射するように構成されているため、ミラー１へ入
射する光ビーム２の入射角θは、第３図１乃至３
に示すように、ミラー１の回転に伴つて時々変化
することになる。

このようにミラー１への光ビーム２の入射角θ
が変わることにより、第３図１乃至３に示すよう
に、感光材料３上の点Ａ，Ｂ，Ｃを走査するよう
に光ビーム２は反射される。

［考案が解決しようとする問題点］ レーザ光源から発せられる光ビームが直線偏光
の場合、ミラー１への入射角θが変化すると、こ
れに従つて反射率も変化することが知られてい
る。

即ち、入射光とその入射位置における反射面の
法線とが成す平面に対し垂直方向に直線偏光した
光ビームの場合、入射角θが大きくなればなるほ
ど反射率も大きくなり、この結果感光材料３上の
走査位置における光量も増すことになる。

逆に、前記平面内の方向に直線偏光した光ビー
ムの場合は、入射角θが大きくなればなるほど反
射率が小さくなり、この結果感光材料３上の光量
が減少することになる。

従つて例えば前者のように、平面に対し垂直方
向に直線偏光した光ビームの場合、第３図１乃至
３において、最も入射角θが大きいときに光ビー
ム２が走査する点Ａにおける光量が最も大きく、
入射角θが小さいときに光ビーム２が走査する点
Ｃにおける光量が最も小さい。

このように、感光材料３上を走査する光量が変
化すると、濃度ムラが生じるという問題点があつ
た。

［問題点を解決するための手段］ 本考案の目的は、特別な補正光学系を用いるこ
となく、ミラーへの入射角θいかんにかかわら
ず、感光材料上の走査位置における光量が常に等
しくなる光走査用ミラーを提供することにある。

本考案は、ミラー上でのビーム形状が、第３図
３の点Ｃに光ビームを反射する状態のときには第
４図１に示す如く光ビームの入射点近傍において
ほぼ円形になり、また第３図１の点Ａに光ビーム
を反射する状態のときには、第４図２に示す如く
光ビームの入射点近傍を中心とする楕円であつ
て、且つ入射光とその入射位置における反射面の
法線とが成す平面と反射面の交線方向に長軸を有
する楕円形になるというように、結局、光量が大
きくなる時に、光ビームの反射に寄与するミラー
１上の面積が大きくなることに着目して考案され
たものである。

従つて、本考案の光走査用ミラーは、その反射
面の一部に反射率を低下する物質を設けて、ビー
ムの入射角θが大きくなりミラー上でのビームの
形状が楕円形になる場合は、ビームの形状が円形
のときよりも外側に広がつた部分の反射率を低下
させて、即ち、ミラー上における前記入射点近傍
も反射率を極値として外方向両側へ離れるに従つ
て反射率が低下するように形成することにより、
ビームの形状が円形の場合とほぼ同じ光量になる
ようにしたものである。

［実施例］ 以下図面に基づいて本考案の実施例を説明す
る。

第１図は本考案の一実施例に係る光走査用ミラ
ーを示す正面図である。

前述したように、ミラー１への光ビームの入射
角θが小さいと光ビームはミラー１上でほぼ円形
４Ｃになり、また入射角θが大きいと楕円形４Ａ
になる。本実施例におけるミラー１は、第１図に
示すように、このビームが円形４Ｃのときの反射
領域を除く、その左右の外側部分を反射率が低下
する物質でコーテイングして形成したコーテイン
グ部５を有するものである。

従つて、ミラー１が回転してビームの入射角θ
が大きくなつても、楕円形４Ａになつたビームの
両端の反射率はコーテイング部５により低下さ
れ、感光材料３上ではほぼビームの形状が円形４
Ｃのときとほぼ等しい光量となる。

第５図は本考案の他の実施例を示す光走査用ミ
ラーの正面図である。

本実施例におけるミラー１は、上記実施例にお
いて反射率を低下させる物質をコーテイングした
コーテイング部５に代わつて微小な反射率ゼロも
しくはそれに近いドツト６を塗料等の着色等によ
り散在させたものである。

このように反射率ゼロのドツト６を設けた部分
は、反射率が低下するので、ビームの入射角θが
大きくなつてミラー上のビームの形状が楕円形４
Ａになつても、そのビームの両端の反射率は低下
され、感光材料３上ではビームの形状が円形４Ｃ
の場合とほぼ同一の光量となる。

上記各実施例においては、入射ビームが円形の
場合を対象としているが、入射ビームが楕円の場
合にも、本考案と同様にして光量を補正すること
ができる。但し、ミラー上でのビームの形状はビ
ームが円形の場合とは異なるので、これに伴つて
コーテイングあるいはドツトを設ける領域を決定
することが必要である。

また、各実施例においては、板状の回転ミラー
を使用しているが、本考案はこれに限定されるも
のではなく、ポリゴンミラー、ガルバノミラー等
にも応用することができる。

［考案の効果］ 本考案によれば、ミラー上に反射率を低下させ
る物質を形成するだけで反射光の光量を一定にす
ることができるので、特別な補正光学系を用いる
ことなく濃度ムラのない印字物を作成することが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例に係る光走査用ミラ
ーを示す正面図、第２図は本考案に係る光走査要
ミラーをレーザプリンタに応用したときの概略を
示す図、第３図１乃至３は回転する光走査用ミラ
ーによりビームを反射して点Ａ，Ｂ，Ｃを走査し
たときの状態を示す図、第４図１及び２は第３図
３及び１に示す状態にあるミラー上のビームの形
状を示す図、第５図は本考案の他の実施例を示す
光走査用ミラーの正面図である。 １……ミラー、２……光ビーム、３……感光材
料、５……コーテイング部、６……ドツト。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 入射光とその入射位置における反射面の法線と
   が成す平面に対し垂直方向に直線偏光した光ビー
   ムで記録部材を露光走査する出力装置の光走査用
   ミラーにおいて、 該ミラーの前記入射点近傍の反射率を極値とし
   て、前記平面と反射面との交線の両方向に反射率
   が低下するように、反射面の一部に、反射率を低
   下する物質を形成することを特徴とする光走査用
   ミラー。