JPH04344618A - Transistor for driving liquid crystal - Google Patents

Transistor for driving liquid crystal

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JPH04344618A
JPH04344618A JP3146906A JP14690691A JPH04344618A JP H04344618 A JPH04344618 A JP H04344618A JP 3146906 A JP3146906 A JP 3146906A JP 14690691 A JP14690691 A JP 14690691A JP H04344618 A JPH04344618 A JP H04344618A
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Abstract

PURPOSE:To reduce a leak current which flows in an OFF state by forming a thin film transistor(TFT) which drives each picture element by connecting two 1st LDD transistor(TR) and 2nd LDD TR in series. CONSTITUTION:The 1st LDD(Lightly Doped Drain) TR 1 is provided with a gate electrode 6 on a P type area 3 across a gate insulating film 4 and also an N type high-density area across an LDD area 6 to form a source-drain electrode 9. The 2nd LDD TR 2 is provided with a gate electrode 10 on a P type area 8 across a gate insulating film 7 and an N type high-density area across an LDD area 11 to forming a source-drain electrode 12. The P type areas 3 and 8 of the TRs 1 and 2 are connected in series across an N type low-density drain area 13. Therefore, voltages applied to the sources - drains of the TRs 1 and 2 can be reduced in the OFF state.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は液晶駆動用トランジスタ
に係わり、特に、オフ時のリーク電流を減少させるもの
に用いて好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transistor for driving a liquid crystal, and is particularly suitable for use in reducing leakage current when turned off.

【0002】0002

【従来の技術】周知の通り、液晶ディスプレイの駆動方
式としては単純マトリックス駆動方式やアクティブマト
リックス方式などが知られている。これらの駆動方式を
比較した場合、一般に、画質や応答性の点において、ア
クティブマトリックス方式が優れていると言われている
。上記アクティブマトリックス方式は、画素に非線形素
子を付加する駆動方式であり、上記非線形素子としては
ダイオードやバリスタ、或いはオン・オフ比の大きいM
OS型トランジスタなどが用いられている。上記MOS
型トランジスタは、透明基板上に作成されるので一般的
に薄膜トランジスタTFTと呼ばれている。これらの各
素子のうち、フルカラーLCDとして活発に研究開発が
行われているのは薄膜トランジスタTFTである。
2. Description of the Related Art As is well known, the simple matrix driving method, the active matrix driving method, and the like are known as driving methods for liquid crystal displays. When these driving methods are compared, the active matrix method is generally said to be superior in terms of image quality and responsiveness. The above active matrix method is a driving method that adds a nonlinear element to the pixel, and the nonlinear element may be a diode, a varistor, or an M with a large on/off ratio.
OS type transistors and the like are used. The above MOS
A type transistor is generally called a thin film transistor (TFT) because it is fabricated on a transparent substrate. Among these elements, thin film transistors (TFTs) are currently being actively researched and developed as full-color LCDs.

【0003】図4に薄膜トランジスタTFTを用いたア
クティブマトリックス型液晶ディスプレイの等価回路を
示す。図4から明らかなように、アクティブマトリック
ス型液晶ディスプレイにおいては、ゲートバスライン2
0とソースバスライン21とにより各画素22が構成さ
れる。そして、画素電極24を介して送られる信号を各
画素22ごとに書き込んだり、保持するために薄膜トラ
ンジスタ23が用いられる。
FIG. 4 shows an equivalent circuit of an active matrix liquid crystal display using thin film transistors TFT. As is clear from FIG. 4, in the active matrix liquid crystal display, the gate bus line 2
0 and the source bus line 21 constitute each pixel 22. A thin film transistor 23 is used to write and hold a signal sent through the pixel electrode 24 in each pixel 22.

【0004】このような目的で用いられる薄膜トランジ
スタ23は、オン時には電流を流す能力が要求され、ま
た、オフ時にはその反対に電流を流さないようにする能
力が要求される。そこで、ポリシリコンTFTは駆動能
力が優れているので、これらの要求に答えることが可能
なトランジスタとして用いられている。また、上記ポリ
シリコンTFTは周辺回路をオンチップすることが可能
であり、画素トランジスタを小さくすることができる利
点がある。
The thin film transistor 23 used for this purpose is required to have the ability to conduct current when it is on, and conversely, to prevent current from flowing when it is off. Therefore, since polysilicon TFTs have excellent driving ability, they are used as transistors that can meet these requirements. Furthermore, the polysilicon TFT has the advantage that peripheral circuits can be mounted on-chip, and pixel transistors can be made smaller.

【0005】しかしながら、ポリシリコンTFTはオフ
時にリーク電流を抑えることが難しいとされている。そ
こで、このオフ時にリーク電流を抑える問題を解決する
ために次の3つの方法が従来より用いられている。すな
わち、その内の一つはダブルゲート構造とよばれるもの
であり、これはトランジスタを直列に2個接続してドレ
ーン電界を半分にすることにより、トンネル電流を抑え
るようにしたものである。また、チャンネルのポリシリ
コン膜厚を薄くしてリークする体積を減らすことにより
リーク電流を抑えるようにする、いわゆる超薄膜化法が
用いられることもある。また、その他の技術してLDD
(Lightly  Doped  Drain)トラ
ンジスタを用いることもある。
However, it is considered difficult to suppress leakage current in polysilicon TFTs when they are off. Therefore, the following three methods have been conventionally used to solve the problem of suppressing leakage current during off-time. That is, one of them is called a double gate structure, in which two transistors are connected in series to reduce the drain electric field by half, thereby suppressing tunnel current. In addition, a so-called ultra-thin film method is sometimes used in which leakage current is suppressed by reducing the leakage volume by reducing the thickness of the polysilicon film in the channel. In addition, other technologies such as LDD
(Lightly Doped Drain) transistors may also be used.

【0006】LDDトランジスタは、図5の断面図に示
すように低濃度ドレイン領域Nを設けることにより、接
合のトンネル電流が発生しないように電界を抑える構造
にしている。ただし、このようにすると空乏層が拡がる
ので、その中の発生電流に注意しなければならない。こ
れらの技術のうち、LDD構造はリーク電流がドレーン
電界の影響をそれほど受けないので、液晶駆動用トラン
ジスタとして用いるのに適しており、研究開発が活発に
行われている。ところで、通常LDDというのはドレイ
ン側にのみ設けるのでこのように呼ばれている。しかし
ながら、液晶駆動トランジスタの場合は電流をどちら側
からも流す必要があるので、どちらがソースでどちらが
ドレインであるとの区別がない。したがって、以下の説
明においては特別の断りがない限り両側に低濃度領域が
あるものとする。
[0006] As shown in the cross-sectional view of FIG. 5, the LDD transistor has a structure in which a low concentration drain region N is provided to suppress the electric field so that a tunnel current in the junction is not generated. However, if this is done, the depletion layer will expand, so care must be taken regarding the current generated within it. Among these technologies, the LDD structure is suitable for use as a liquid crystal driving transistor because the leakage current is not so affected by the drain electric field, and research and development is being actively carried out. By the way, an LDD is usually provided only on the drain side, so it is called this way. However, in the case of a liquid crystal driving transistor, current must flow from either side, so there is no distinction as to which side is the source and which is the drain. Therefore, in the following description, it is assumed that there are low concentration regions on both sides unless otherwise specified.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】LDD構造のトランジ
スタの特徴は、リーク電流がドレインの電界にそれ程影
響を受けない点にある。したがって、LDDトランジス
タの場合にはトンネル電流が流れないから異常に大きな
リークが発生する不都合はない。しかし、この場合はド
レーン電圧に応じた空乏層がLDD部に拡がるので、空
乏層内で電流が発生する。このため、黒表示時は中間調
を表示しているときよりもリークが大きくなる不都合が
ある。
A characteristic of a transistor having an LDD structure is that leakage current is not significantly affected by the drain electric field. Therefore, in the case of an LDD transistor, since no tunnel current flows, there is no problem of abnormally large leakage occurring. However, in this case, a depletion layer corresponding to the drain voltage expands to the LDD portion, so a current is generated within the depletion layer. For this reason, there is an inconvenience that leakage is larger when displaying black than when displaying halftones.

【0008】図6に、LDDトランジスタの典型的な電
気特性図を示す。図6から明らかなように、+Vgのゲ
ート電圧で電流ID が流れ込む。また、ゲートに−V
gの電圧を印加することにより上記電流ID が流れな
いようにしている。このときの電流Ioff は小さい
方がよいが、従来公知の技術を用いてこれを少なくする
ことが困難であった。本発明は上述の問題点に鑑み、オ
フ時に薄膜トランジスタに流れるリーク電流を少なくす
ることを目的とする。
FIG. 6 shows a typical electrical characteristic diagram of an LDD transistor. As is clear from FIG. 6, current ID flows in at a gate voltage of +Vg. Also, -V at the gate
By applying a voltage of g, the current ID is prevented from flowing. Although it is better for the current Ioff to be small at this time, it has been difficult to reduce it using conventionally known techniques. In view of the above-mentioned problems, it is an object of the present invention to reduce the leakage current flowing through the thin film transistor when it is off.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の液晶駆動用トラ
ンジスタは、アクティブマトリックス型液晶ディスプレ
イの各画素を駆動するために用いられる液晶駆動用の薄
膜トランジスタにおいて、上記各画素を駆動するための
薄膜トランジスタを、低濃度ドレイン領域を有するLD
Dトランジスタを直列に2個接続して構成している。ま
た、本発明の他の特徴とするところは、上記LDDトラ
ンジスタにおける低濃度ドレイン領域と同じ半導体層の
みを用いて上記2つのLDDトランジスタを接続するよ
うにしている。
[Means for Solving the Problems] A liquid crystal driving transistor of the present invention is a liquid crystal driving thin film transistor used to drive each pixel of an active matrix liquid crystal display. , LD with low concentration drain region
It is constructed by connecting two D transistors in series. Another feature of the present invention is that the two LDD transistors are connected using only the same semiconductor layer as the lightly doped drain region of the LDD transistor.

【0010】0010

【作用】第1のLDDトランジスタと第2のLDDトラ
ンジスタとを直列に2個接続することにより、オフして
いるときにこれら第1および第2のトランジスタのソー
ス〜ドレイン間に各々印加される電圧を減少させ、オフ
時に流れるリーク電流を少なくする。
[Operation] By connecting two first LDD transistors and two second LDD transistors in series, a voltage is applied between the sources and drains of these first and second transistors when they are off. This reduces the leakage current that flows when the device is off.

【0011】[0011]

【実施例】図1は、本発明の一実施例を示す液晶駆動用
トランジスタの断面図である。図1から明らかなように
、本実施例の液晶駆動用トランジスタは、第1のLDD
トランジスタ1と、第2のLDDトランジスタ2とを直
列に2個接続した構成となっている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal driving transistor showing an embodiment of the present invention. As is clear from FIG. 1, the liquid crystal driving transistor of this embodiment is connected to the first LDD.
It has a configuration in which a transistor 1 and two second LDD transistors 2 are connected in series.

【0012】また、本実施例においては、2つのLDD
トランジスタ1,2を直列に接続するに際し、各LDD
トランジスタ1,2間の距離が短くなるように工夫して
いる。すなわち、第1のLDDトランジスタ1は、ゲー
ト絶縁膜4を介して第1のP型領域3上にゲート電極5
を設けるとともに、上記第1のP型領域3との間に第1
のLDD領域6を挟んでN型の高濃度領域を設け、第1
のトランジスタの一方のソース・ドレイン電極9を形成
することにより構成している。
[0012] Furthermore, in this embodiment, two LDDs
When connecting transistors 1 and 2 in series, each LDD
Efforts have been made to shorten the distance between transistors 1 and 2. That is, the first LDD transistor 1 has a gate electrode 5 on the first P-type region 3 via the gate insulating film 4.
A first P type region 3 is provided between the first P type region 3 and the first P type region 3.
An N-type high concentration region is provided across the LDD region 6 of the first
It is constructed by forming one source/drain electrode 9 of the transistor.

【0013】また、第2のLDDトランジスタ2は、ゲ
ート絶縁膜7を介して第2のP型領域8上にゲート電極
10を設けるとともに、上記第2のP型領域8との間に
第2のLDD領域11を挟んでN型の高濃度領域を設け
てその一方のソース・ドレイン電極12を形成すること
により構成されている。そして、上記第1のP型領域3
と第2のP型領域8との間を、N型の低濃度ドレイン領
域13を介して接続することにより、第1のLDDトラ
ンジスタ1および第2のLDDトランジスタ2を直列に
接続している。なお、各部はSiO2 よりなる絶縁膜
にて絶縁されている。
Further, the second LDD transistor 2 has a gate electrode 10 provided on the second P-type region 8 via the gate insulating film 7, and a second P-type region 8 between the second P-type region 8 and the second P-type region 8. It is constructed by providing an N-type high concentration region with an LDD region 11 in between, and forming one of the source/drain electrodes 12. Then, the first P-type region 3
and the second P-type region 8 through the N-type low concentration drain region 13, thereby connecting the first LDD transistor 1 and the second LDD transistor 2 in series. Note that each part is insulated with an insulating film made of SiO2.

【0014】このようにして構成される本実施例の液晶
駆動用トランジスタには、第1のトランジスタの一方の
ソース・ドレイン電極9にソースバスライン21が接続
され、第2のトランジスタの一方のソース・ドレイン電
極12に画素電極24が接続される。また、各ゲート電
極5,10にゲートバスライン20がそれぞれ接続され
る。したがって、これらの第1および第2のLDDトラ
ンジスタ1,2は、1つのトランジスタとして動作する
こととなり、図2の構成図に示すように表すことができ
る。また、その等価回路は図3の回路図に示すようにな
り、電圧VD は第1のトランジスタの一方のソース・
ドレイン電極9と第2のトランジスタの一方のソース・
ドレイン電極12との間に印加される。
In the liquid crystal driving transistor of this embodiment constructed in this manner, a source bus line 21 is connected to one source/drain electrode 9 of the first transistor, and a source bus line 21 is connected to one source/drain electrode 9 of the second transistor. - The pixel electrode 24 is connected to the drain electrode 12. Further, a gate bus line 20 is connected to each gate electrode 5, 10, respectively. Therefore, these first and second LDD transistors 1 and 2 operate as one transistor, and can be represented as shown in the configuration diagram of FIG. 2. The equivalent circuit is shown in the circuit diagram of FIG. 3, and the voltage VD is applied to one source of the first transistor.
The drain electrode 9 and one source of the second transistor
A voltage is applied between the drain electrode 12 and the drain electrode 12 .

【0015】このため、各トランジスタの接続点の電位
をVX とした場合、各々のトランジスタ1,2にかか
る電圧は、VX および(VD −VX )となる。し
たがって、電流Ioff 時における各トランジスタの
抵抗値をR1 、R2 とした場合、   VX =(R1 /R1 +R2 )・VD   
              …(1)となり、各々の
トランジスタにかかる電圧を大幅に減少させることがで
きる。実験によれば、各々のトランジスタ1,2にかか
る電圧を、1/2〜1/3に減少させることができた。
Therefore, when the potential at the connection point of each transistor is VX, the voltages applied to each transistor 1 and 2 are VX and (VD - VX). Therefore, if the resistance values of each transistor at the time of current Ioff are R1 and R2, VX = (R1 /R1 +R2)・VD
...(1), and the voltage applied to each transistor can be significantly reduced. According to experiments, it was possible to reduce the voltage applied to each transistor 1 and 2 by 1/2 to 1/3.

【0016】なお、上記実施例においては、第1のLD
Dトランジスタ1と第2のLDDトランジスタ2とを直
列に接続するに際し、第1のトランジスタの他方のソー
ス・ドレイン電極と、第2のトランジスタの他方のソー
ス・ドレイン電極とを低濃度ドレイン領域13により共
通に形成し、これら2つのトランジスタを直列に接続す
るようにした。したがって、各トランジスタ間の接続距
離を極端に短くすることができ、LDDトランジスタを
2個つなげても所要面積が大きくならないようにするこ
とができる。しかし、このような接続を行うことなく、
2個のLDDトランジスタを単に直列に接続するだけで
も、本発明の目的および効果は良好に達成される。
Note that in the above embodiment, the first LD
When connecting the D transistor 1 and the second LDD transistor 2 in series, the other source/drain electrode of the first transistor and the other source/drain electrode of the second transistor are connected by the low concentration drain region 13. These two transistors are connected in series. Therefore, the connection distance between each transistor can be extremely shortened, and even if two LDD transistors are connected, the required area can be prevented from increasing. However, without making such a connection,
The objects and effects of the present invention can be satisfactorily achieved by simply connecting two LDD transistors in series.

【0017】[0017]

【発明の効果】本発明は上述したように、請求項1の発
明によれば、第1のLDDトランジスタと第2のLDD
トランジスタとを直列に2個接続して各画素を駆動する
薄膜トランジスタを形成するようにしたので、オフして
いるときに各薄膜トランジスタのソース〜ドレイン間に
印加される電圧を大幅に減少させることができる。した
がって、オフ時に流れるリーク電流を少なくすることが
でき、液晶ディスプレイのコントラスト、および画質を
良好に改善することができる。また、請求項2の発明に
よれば、各トランジスタ間の接続距離を短くすることが
できるので、LDDトランジスタを2個つなげても所要
面積が大きくならないようにすることができる。
Effects of the Invention As described above, according to the invention of claim 1, the first LDD transistor and the second LDD transistor
By connecting two transistors in series to form a thin film transistor that drives each pixel, it is possible to significantly reduce the voltage applied between the source and drain of each thin film transistor when it is off. . Therefore, it is possible to reduce the leakage current that flows when the display is off, and it is possible to improve the contrast and image quality of the liquid crystal display. Further, according to the second aspect of the invention, since the connection distance between each transistor can be shortened, the required area can be prevented from increasing even if two LDD transistors are connected.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の一実施例を示す液晶駆動用トランジス
タの断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal driving transistor showing an embodiment of the present invention.

【図2】液晶駆動用トランジスタの構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of a liquid crystal driving transistor.

【図3】液晶駆動用トランジスタの等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of a liquid crystal driving transistor.

【図4】液晶ディスプレイの等価回路図である。FIG. 4 is an equivalent circuit diagram of a liquid crystal display.

【図5】LDDトランジスタの断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of an LDD transistor.

【図6】LDDトランジスタの電気特性図である。FIG. 6 is an electrical characteristic diagram of an LDD transistor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  第1のLDDトランジスタ 2  第2のLDDトランジスタ 3  第1のP型領域 6  第1のLDD領域 8  第2のP型領域 9  第1のトランジスタの一方のソース・ドレイン電
極11  第2のLDD領域 12  第2のトランジスタの一方のソース・ドレイン
電極 13  低濃度ドレイン領域
1 First LDD transistor 2 Second LDD transistor 3 First P-type region 6 First LDD region 8 Second P-type region 9 One source/drain electrode of the first transistor 11 Second LDD region 12 One source/drain electrode of the second transistor 13 Low concentration drain region

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  アクティブマトリックス型液晶ディス
プレイの各画素を駆動するために用いられる液晶駆動用
の薄膜トランジスタにおいて、上記各画素を駆動するた
めの薄膜トランジスタを、低濃度ドレイン領域を有する
LDDトランジスタを直列に2個接続して構成したこと
を特徴とする液晶駆動用トランジスタ。
1. In a liquid crystal driving thin film transistor used to drive each pixel of an active matrix liquid crystal display, the thin film transistor for driving each pixel is formed by connecting two LDD transistors having low concentration drain regions in series. A liquid crystal driving transistor characterized in that it is configured by individually connecting each other.
【請求項2】  上記LDDトランジスタにおける低濃
度ドレイン領域と同じ半導体層のみを用いて上記2つの
LDDトランジスタを接続するようにしたことを特徴と
する請求項1に記載の液晶駆動用トランジスタ。
2. The liquid crystal driving transistor according to claim 1, wherein the two LDD transistors are connected using only the same semiconductor layer as the low concentration drain region of the LDD transistor.
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