JPH04328751A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真感光体の製造方法Info
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体の製造
方法に関するものであり、詳しくは、陽極酸化被膜を設
けた基体上に光導電層を設けて成り、主として、反転現
像方式で使用される電子写真感光体の製造方法であって
、良好な画像が得られるように改良された電子写真感光
体の工業的有利な製造方法に関するものである。
方法に関するものであり、詳しくは、陽極酸化被膜を設
けた基体上に光導電層を設けて成り、主として、反転現
像方式で使用される電子写真感光体の製造方法であって
、良好な画像が得られるように改良された電子写真感光
体の工業的有利な製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、電子写真方式を利用した画像形成
システムは、複写分野に広く応用されている。また、最
近は、デジタル信号データ処理システムが普及し、これ
らのデータを印字出力するプリンターの機能も向上が望
まれており、この分野への電子写真方式の印字システム
の利用が検討され実用化されている。
システムは、複写分野に広く応用されている。また、最
近は、デジタル信号データ処理システムが普及し、これ
らのデータを印字出力するプリンターの機能も向上が望
まれており、この分野への電子写真方式の印字システム
の利用が検討され実用化されている。
【0003】上記のシステムは、電気信号のデータをレ
ーザースキャナー、LEDアレイ、液晶シャッター等の
手段によって光信号に変換し、感光体へ照射し、感光体
上に静電潜像を形成し、トナー現像によって可視化し、
画像を得るシステムであり、光プリンターとも呼ばれて
いる。この方式は、従来のインパクト方式に比べて極め
て印字スピードが速く且つ騒音も無く、しかも、高品位
な印字が可能であることから、急速に普及しつつある。
ーザースキャナー、LEDアレイ、液晶シャッター等の
手段によって光信号に変換し、感光体へ照射し、感光体
上に静電潜像を形成し、トナー現像によって可視化し、
画像を得るシステムであり、光プリンターとも呼ばれて
いる。この方式は、従来のインパクト方式に比べて極め
て印字スピードが速く且つ騒音も無く、しかも、高品位
な印字が可能であることから、急速に普及しつつある。
【0004】光プリンターに使用する感光体としては、
Se,CdS,As2 Se3 等の無機系の光導電体
、ポリビニルカルバゾールとトリニトロフルオレノンの
電荷移動錯体等の有機系の感光体などが使用されてきた
が、感光波長域の選択容易性、特に、半導体レーザーの
出力波長域である近赤外で感度を持たせることの比較的
容易な有機光導電体が極めて適しており、種々の材料が
開発されている。
Se,CdS,As2 Se3 等の無機系の光導電体
、ポリビニルカルバゾールとトリニトロフルオレノンの
電荷移動錯体等の有機系の感光体などが使用されてきた
が、感光波長域の選択容易性、特に、半導体レーザーの
出力波長域である近赤外で感度を持たせることの比較的
容易な有機光導電体が極めて適しており、種々の材料が
開発されている。
【0005】有機系感光体の中では、特に、電荷発生層
および電荷移動層よりなる積層型の感光体は、有機化合
物のバラエティの豊富さを充分生かせることができ、既
に、高感度、高耐刷の感光体が得られており、また、安
全性の面でも無公害な材料を選択できる点においても極
めて有用である。
および電荷移動層よりなる積層型の感光体は、有機化合
物のバラエティの豊富さを充分生かせることができ、既
に、高感度、高耐刷の感光体が得られており、また、安
全性の面でも無公害な材料を選択できる点においても極
めて有用である。
【0006】一方、光プリンターにおける画像形成方法
としては、光の有効利用あるいは解像力を上げる目的か
ら、光を照射した部分にトナーを付着させ画像を形成す
るいわゆる反転現像方式を採用することが多い。ところ
が、反転現像方式においては、暗電位部が白地となり、
明電位部が黒地部(画線部)になるが、感光体上に欠陥
等による局所的帯電不良が存在すると、白地への黒点の
発生、延いては、多数の黒点による地かぶり現像が生じ
、その結果、著しい画像不良となって現れる。
としては、光の有効利用あるいは解像力を上げる目的か
ら、光を照射した部分にトナーを付着させ画像を形成す
るいわゆる反転現像方式を採用することが多い。ところ
が、反転現像方式においては、暗電位部が白地となり、
明電位部が黒地部(画線部)になるが、感光体上に欠陥
等による局所的帯電不良が存在すると、白地への黒点の
発生、延いては、多数の黒点による地かぶり現像が生じ
、その結果、著しい画像不良となって現れる。
【0007】上記のような局所的帯電不良は、正規現像
において使用した場合には何ら問題の無いレベルであっ
ても、反転現像においては画像不良と成り易く、しかも
、従来の積層型感光体では、程度の差こそあれ、黒点や
地かぶり現象に問題を持っていることが判った。そして
、局所的帯電不良には種々の原因が考えられるが、電極
である導電性支持体と光導電層の間で電荷の注入が局所
的に起り、帯電電位が上がらないことによるものと考え
られる。
において使用した場合には何ら問題の無いレベルであっ
ても、反転現像においては画像不良と成り易く、しかも
、従来の積層型感光体では、程度の差こそあれ、黒点や
地かぶり現象に問題を持っていることが判った。そして
、局所的帯電不良には種々の原因が考えられるが、電極
である導電性支持体と光導電層の間で電荷の注入が局所
的に起り、帯電電位が上がらないことによるものと考え
られる。
【0008】従来、局所的帯電不良の解決方法として、
導電性支持体と光導電層の間にブロッキング層を設ける
方法が知られており、ブロッキング層としては、酸化ア
ルミニウム、水酸化アルミニウム等の無機層、ポリビニ
ルアルコール、カゼイン、カゼインナトリウム、ポリビ
ニルピロリドン、ポリアクリル酸、セルロース類、ゼラ
チン、デンプン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミ
ド等の有機樹脂層が使用されている。
導電性支持体と光導電層の間にブロッキング層を設ける
方法が知られており、ブロッキング層としては、酸化ア
ルミニウム、水酸化アルミニウム等の無機層、ポリビニ
ルアルコール、カゼイン、カゼインナトリウム、ポリビ
ニルピロリドン、ポリアクリル酸、セルロース類、ゼラ
チン、デンプン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミ
ド等の有機樹脂層が使用されている。
【0009】しかしながら、ブロッキング層を有する感
光体を反転現像方式において使用した場合は、依然とし
て黒点の発生があり、特に、高湿の環境条件下では地か
ぶりが著しくなる。低湿下で繰返し使用した場合には、
実用に耐えられない程に黒地電位が上昇する。
光体を反転現像方式において使用した場合は、依然とし
て黒点の発生があり、特に、高湿の環境条件下では地か
ぶりが著しくなる。低湿下で繰返し使用した場合には、
実用に耐えられない程に黒地電位が上昇する。
【0010】そして、従来より知られているブロッキン
グ層の中では、アルミニウム基板上に封孔処理を施した
陽極酸化被膜を設けたものが、比較的電気特性の環境依
存性が小さくて良好な特性を示すが、反転現像方式で使
用した場合、特に、高温高湿下においては、しみ状ある
いは流れ模様等の画像欠陥が顕著に現れる。
グ層の中では、アルミニウム基板上に封孔処理を施した
陽極酸化被膜を設けたものが、比較的電気特性の環境依
存性が小さくて良好な特性を示すが、反転現像方式で使
用した場合、特に、高温高湿下においては、しみ状ある
いは流れ模様等の画像欠陥が顕著に現れる。
【0011】本出願人は、先に、上述のような問題点を
解決した電子写真感光体の製造方法として、陽極酸化被
膜を有するアルミニウム基体上に光導電層を設けた電子
写真感光体を製造する方法において、アルミニウム基体
上に陽極酸化被膜を形成した後、該被膜面を物理的に接
触こすり洗浄することを特徴とする電子写真感光体の製
造方法を提案した(特開平2−5068号)。
解決した電子写真感光体の製造方法として、陽極酸化被
膜を有するアルミニウム基体上に光導電層を設けた電子
写真感光体を製造する方法において、アルミニウム基体
上に陽極酸化被膜を形成した後、該被膜面を物理的に接
触こすり洗浄することを特徴とする電子写真感光体の製
造方法を提案した(特開平2−5068号)。
【0012】上記の発明は、黒点や地かぶりは陽極酸化
被膜面に付着している異物によって惹起されるとの知見
を基にして完成されたものであり、陽極酸化被膜面を物
理的に接触こすり洗浄することにより、陽極酸化被膜面
に付着している異物を除去せんとするものである。そし
て、具体的には、ブラシ状、フォーム状、布状のこすり
材を使用し、高濃度に水蒸気を含む空気を接触こすり洗
浄処理後の表面に吹きつけた際に実質的均一に水滴膜が
形成する程度までにこすり洗浄を行って異物の除去を行
うものである。
被膜面に付着している異物によって惹起されるとの知見
を基にして完成されたものであり、陽極酸化被膜面を物
理的に接触こすり洗浄することにより、陽極酸化被膜面
に付着している異物を除去せんとするものである。そし
て、具体的には、ブラシ状、フォーム状、布状のこすり
材を使用し、高濃度に水蒸気を含む空気を接触こすり洗
浄処理後の表面に吹きつけた際に実質的均一に水滴膜が
形成する程度までにこすり洗浄を行って異物の除去を行
うものである。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
製造方法は、陽極酸化被膜面を物理的に接触こすり洗浄
する方法であるため、多量且つ連続的に行う工業的方法
には適しておらず、しかも、時として、除去されている
筈の異物が再付着することがあるため、異物の除去が十
分なレベルで一定しないという新たな問題を有している
。
製造方法は、陽極酸化被膜面を物理的に接触こすり洗浄
する方法であるため、多量且つ連続的に行う工業的方法
には適しておらず、しかも、時として、除去されている
筈の異物が再付着することがあるため、異物の除去が十
分なレベルで一定しないという新たな問題を有している
。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の製造方
法の上述のような新たな問題を解決するためになされた
ものであり、その要旨は、アルミニウム円筒基体上に陽
極酸化被膜を形成し、必要に応じて陽極酸化被膜を封孔
処理し、次いで、アルミニウム円筒基体の陽極酸化被膜
面を洗浄した後、その上に光導電層を設ける電子写真感
光体の製造方法において、前記陽極酸化被膜面の洗浄方
法として、上部には、アルミニウム円筒基体の外面に接
触することなくこれを回転させつつ上下移動させる駆動
手段が設けられ、内部には、超音波振動子に接続された
集中型チップが配置されると共に洗浄液体が収容された
洗浄槽を使用し、そして、上記の駆動手段により、その
側面が洗浄槽内の集中型チップに対向するようにアルミ
ニウム円筒基体を上下移動させ、且つ、その少なくとも
一方の移動操作中にアルミニウム円筒基体を回転させて
超音波洗浄を行う洗浄方法を使用することを特徴とする
電子写真感光体の製造方法に存する。
法の上述のような新たな問題を解決するためになされた
ものであり、その要旨は、アルミニウム円筒基体上に陽
極酸化被膜を形成し、必要に応じて陽極酸化被膜を封孔
処理し、次いで、アルミニウム円筒基体の陽極酸化被膜
面を洗浄した後、その上に光導電層を設ける電子写真感
光体の製造方法において、前記陽極酸化被膜面の洗浄方
法として、上部には、アルミニウム円筒基体の外面に接
触することなくこれを回転させつつ上下移動させる駆動
手段が設けられ、内部には、超音波振動子に接続された
集中型チップが配置されると共に洗浄液体が収容された
洗浄槽を使用し、そして、上記の駆動手段により、その
側面が洗浄槽内の集中型チップに対向するようにアルミ
ニウム円筒基体を上下移動させ、且つ、その少なくとも
一方の移動操作中にアルミニウム円筒基体を回転させて
超音波洗浄を行う洗浄方法を使用することを特徴とする
電子写真感光体の製造方法に存する。
【0015】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいては、アルミニウム円筒基体は、陽極酸化処理を施
す前に、酸、アルカリ、有機溶剤、界面活性剤、エマル
ジョン、電解などの各種脱脂洗浄方法により脱脂処理さ
れることが好ましい。
おいては、アルミニウム円筒基体は、陽極酸化処理を施
す前に、酸、アルカリ、有機溶剤、界面活性剤、エマル
ジョン、電解などの各種脱脂洗浄方法により脱脂処理さ
れることが好ましい。
【0016】陽極酸化被膜は、通常、例えば、クロム酸
、硫酸、シュウ酸、ホウ酸、スルファミン酸等の酸性浴
中での陽極酸化処理により形成されるが、硫酸中での陽
極酸化処理が最も良好な結果を与える。硫酸中での陽極
酸化の場合、硫酸濃度は100〜300g/l、溶存ア
ルミニウム濃度は2〜15g/l、液温は15〜30℃
、電解電圧は5〜20V、電流密度は0.5〜3A/d
m2の範囲に設定するのがよい。陽極酸化被膜の平均膜
厚は、通常は20μm以下、特には7μm以下とするの
が好ましい。
、硫酸、シュウ酸、ホウ酸、スルファミン酸等の酸性浴
中での陽極酸化処理により形成されるが、硫酸中での陽
極酸化処理が最も良好な結果を与える。硫酸中での陽極
酸化の場合、硫酸濃度は100〜300g/l、溶存ア
ルミニウム濃度は2〜15g/l、液温は15〜30℃
、電解電圧は5〜20V、電流密度は0.5〜3A/d
m2の範囲に設定するのがよい。陽極酸化被膜の平均膜
厚は、通常は20μm以下、特には7μm以下とするの
が好ましい。
【0017】アルミニウム円筒基体上の陽極酸化被膜は
、そのまま使用することもできるが、多孔質であるため
、耐候性に乏しく腐食等が生じ易いことから、好ましく
は、それらの孔を封じる処理、すなわち、封孔処理を施
こして使用するのがよい。
、そのまま使用することもできるが、多孔質であるため
、耐候性に乏しく腐食等が生じ易いことから、好ましく
は、それらの孔を封じる処理、すなわち、封孔処理を施
こして使用するのがよい。
【0018】封孔処理は、加圧水蒸気または沸騰水によ
る処理によっても行い得るが、封孔処理剤を使用するの
が効率的であり好ましい。封孔処理剤を使用した封孔処
理としては、例えば、主成分としてフッ化ニッケルを含
有する水溶液を使用する低温封孔処理、例えば、主成分
として酢酸ニッケルを含有する水溶液を使用する高温封
孔処理が挙げられる。
る処理によっても行い得るが、封孔処理剤を使用するの
が効率的であり好ましい。封孔処理剤を使用した封孔処
理としては、例えば、主成分としてフッ化ニッケルを含
有する水溶液を使用する低温封孔処理、例えば、主成分
として酢酸ニッケルを含有する水溶液を使用する高温封
孔処理が挙げられる。
【0019】低温封孔処理の場合、フッ化ニッケル水溶
液の濃度は、適宜選択し得るが、3〜6g/lの範囲内
が最も効果的である。フッ化ニッケル水溶液のpHは、
4.5〜6.5、好ましくは5.5〜6.0の範囲がよ
い。pH調節剤としては、シュウ酸、ホウ酸、蟻酸、酢
酸、水酸化ナトリウム、酢酸ナトリウム、アンモニア水
等を用いることができる。
液の濃度は、適宜選択し得るが、3〜6g/lの範囲内
が最も効果的である。フッ化ニッケル水溶液のpHは、
4.5〜6.5、好ましくは5.5〜6.0の範囲がよ
い。pH調節剤としては、シュウ酸、ホウ酸、蟻酸、酢
酸、水酸化ナトリウム、酢酸ナトリウム、アンモニア水
等を用いることができる。
【0020】また、低温封孔処理における処理温度は、
封孔処理をスムーズに進めるため、25〜40℃、好ま
しくは30〜35℃の範囲、フッ化ニッケル水溶液のp
Hは、4.5〜6.5、好ましくは5.5〜6.0の範
囲がよい。処理時間は、被膜の平均膜厚1μm当り1〜
3分の範囲内が好ましい。また、フッ化ニッケル水溶液
には、被膜物性を改良するため、フッ化ニッケル、酢酸
コバルト、硫酸ニッケル、界面活性剤等を添加してもよ
い。
封孔処理をスムーズに進めるため、25〜40℃、好ま
しくは30〜35℃の範囲、フッ化ニッケル水溶液のp
Hは、4.5〜6.5、好ましくは5.5〜6.0の範
囲がよい。処理時間は、被膜の平均膜厚1μm当り1〜
3分の範囲内が好ましい。また、フッ化ニッケル水溶液
には、被膜物性を改良するため、フッ化ニッケル、酢酸
コバルト、硫酸ニッケル、界面活性剤等を添加してもよ
い。
【0021】高温封孔処理の場合は、酢酸ニッケル水溶
液の他、酢酸コバルト、酢酸鉛、酢酸ニッケル−コバル
ト、硝酸バリウム等の金属塩水溶液を用いることができ
るが、特に酢酸ニッケルを用いるのが好ましい。酢酸ニ
ッケル水溶液の濃度は、3〜20g/lの範囲内が好ま
しい。酢酸ニッケル水溶液のpHは、5.0〜6.0の
範囲がよい。pH調節剤としては、アンモニア水、酢酸
ナトリウム等を用いることができる。
液の他、酢酸コバルト、酢酸鉛、酢酸ニッケル−コバル
ト、硝酸バリウム等の金属塩水溶液を用いることができ
るが、特に酢酸ニッケルを用いるのが好ましい。酢酸ニ
ッケル水溶液の濃度は、3〜20g/lの範囲内が好ま
しい。酢酸ニッケル水溶液のpHは、5.0〜6.0の
範囲がよい。pH調節剤としては、アンモニア水、酢酸
ナトリウム等を用いることができる。
【0022】また、高温封孔処理における処理温度は、
65〜100℃、好ましくは80〜98℃の範囲がよい
。この場合も、酢酸ニッケル水溶液には、被膜物性を改
良するため、酢酸ナトリウム、有機カルボン酸塩、アニ
オン系、ノニオン系界面活性剤等を添加してもよい。
65〜100℃、好ましくは80〜98℃の範囲がよい
。この場合も、酢酸ニッケル水溶液には、被膜物性を改
良するため、酢酸ナトリウム、有機カルボン酸塩、アニ
オン系、ノニオン系界面活性剤等を添加してもよい。
【0023】なお、低温封孔処理や高温封孔処理に好適
に使用される封孔処理剤としては、日科化学(株)製の
ハードウォール−3、日本化学産業(株)製のアルマイ
トシーラ、奥野製業(株)製のトップシールDXなどが
挙げられる。
に使用される封孔処理剤としては、日科化学(株)製の
ハードウォール−3、日本化学産業(株)製のアルマイ
トシーラ、奥野製業(株)製のトップシールDXなどが
挙げられる。
【0024】本発明においては、以上のようにして陽極
酸化被膜または封孔処理の施された陽極酸化被膜を形成
したアルミニウム円筒基体は、洗浄槽内にて洗浄され、
陽極酸化被膜面に付着している異物が除去される。
酸化被膜または封孔処理の施された陽極酸化被膜を形成
したアルミニウム円筒基体は、洗浄槽内にて洗浄され、
陽極酸化被膜面に付着している異物が除去される。
【0025】そして、本発明の特徴は、上記の陽極酸化
被膜面の洗浄方法として、上部にはアルミニウム円筒基
体の外面に接触することなくこれを回転させつつ上下移
動させる駆動手段が設けられ、内部には超音波振動子に
接続された集中型チップが配置されると共に洗浄液体が
収容された洗浄槽を使用し、そして、上記の駆動手段に
より、その側面が洗浄槽内の集中型チップに対向するよ
うにアルミニウム円筒基体を上下移動させ、且つ、その
少なくとも何れか一方の移動操作中にアルミニウム円筒
基体を回転させて超音波洗浄を行う洗浄方法を使用する
点にある。
被膜面の洗浄方法として、上部にはアルミニウム円筒基
体の外面に接触することなくこれを回転させつつ上下移
動させる駆動手段が設けられ、内部には超音波振動子に
接続された集中型チップが配置されると共に洗浄液体が
収容された洗浄槽を使用し、そして、上記の駆動手段に
より、その側面が洗浄槽内の集中型チップに対向するよ
うにアルミニウム円筒基体を上下移動させ、且つ、その
少なくとも何れか一方の移動操作中にアルミニウム円筒
基体を回転させて超音波洗浄を行う洗浄方法を使用する
点にある。
【0026】図1は、本発明の製造方法において使用さ
れる洗浄槽の一例を概念的に示す説明図であり、アルミ
ニウム円筒基体が洗浄されている状態を示したものであ
る。
れる洗浄槽の一例を概念的に示す説明図であり、アルミ
ニウム円筒基体が洗浄されている状態を示したものであ
る。
【0027】洗浄槽(30)の内部には、超音波振動子
(31)に接続された集中型チップ(32)が配置され
ている。そして、好ましい態様として、洗浄槽(30)
は、オーバーフロー形式となっており、オーバーフロー
口(33)より溢流した洗浄液体は、ポンプ(34)冷
却器(35)及びフィルター(36)を経て洗浄槽(3
0)に循環される。従って、洗浄液体は、循環流として
常に流れており、陽極酸化被膜面から除去された異物の
洗浄槽(30)内の蓄積は防止される。勿論、オーバー
フロー形式の代わりに、洗浄液体のバッチ交換方式を採
用することもできる。
(31)に接続された集中型チップ(32)が配置され
ている。そして、好ましい態様として、洗浄槽(30)
は、オーバーフロー形式となっており、オーバーフロー
口(33)より溢流した洗浄液体は、ポンプ(34)冷
却器(35)及びフィルター(36)を経て洗浄槽(3
0)に循環される。従って、洗浄液体は、循環流として
常に流れており、陽極酸化被膜面から除去された異物の
洗浄槽(30)内の蓄積は防止される。勿論、オーバー
フロー形式の代わりに、洗浄液体のバッチ交換方式を採
用することもできる。
【0028】図1においては、洗浄槽(30)は、1槽
しか示していないが、工業的には、多数の洗浄槽を並列
させるか、または、1槽の長手の洗浄槽に超音波振動子
(31)に接続された集中型チップ(32)を多数配置
し、同時に、複数のアルミニウム円筒基体(4)が洗浄
されるようにするのが有利である。なお、図1中、(1
)及び(17)は、それぞれ、アルミニウム円筒基体(
4)の駆動手段に使用されるチャック装置の中空軸およ
び三角形状板であり、当該チャック装置については後述
する。
しか示していないが、工業的には、多数の洗浄槽を並列
させるか、または、1槽の長手の洗浄槽に超音波振動子
(31)に接続された集中型チップ(32)を多数配置
し、同時に、複数のアルミニウム円筒基体(4)が洗浄
されるようにするのが有利である。なお、図1中、(1
)及び(17)は、それぞれ、アルミニウム円筒基体(
4)の駆動手段に使用されるチャック装置の中空軸およ
び三角形状板であり、当該チャック装置については後述
する。
【0029】洗浄液体としては、特に制限はないが、陽
極酸化被膜面に付着している異物の除去を一層効果的に
行うためには、本出願人により、特願平2−19705
1号として既に提案された電子写真感光体の製造方法に
従い、アルコール又はケトンを含む洗浄液体を使用する
のが好ましい。
極酸化被膜面に付着している異物の除去を一層効果的に
行うためには、本出願人により、特願平2−19705
1号として既に提案された電子写真感光体の製造方法に
従い、アルコール又はケトンを含む洗浄液体を使用する
のが好ましい。
【0030】すなわち、封孔処理に使用される封孔処理
剤中には、金属塩以外に、微量の界面活性剤や有機カル
ボン酸塩が含まれている。そして、陽極酸化被膜面に付
着している異物は、界面活性剤などにに由来する有機化
合物が無機化合物を取り込んだものと考えられる。また
、封孔処理剤を使用しない場合でも、空気中または装置
から混入した有機化合物(高分子潤滑剤など)が陽極酸
化被膜面に付着している。そして、このような有機化合
物などからなる上記の異物は、純水よりもアルコール又
はケトンを含む洗浄液体により遙かに除去され易い。
剤中には、金属塩以外に、微量の界面活性剤や有機カル
ボン酸塩が含まれている。そして、陽極酸化被膜面に付
着している異物は、界面活性剤などにに由来する有機化
合物が無機化合物を取り込んだものと考えられる。また
、封孔処理剤を使用しない場合でも、空気中または装置
から混入した有機化合物(高分子潤滑剤など)が陽極酸
化被膜面に付着している。そして、このような有機化合
物などからなる上記の異物は、純水よりもアルコール又
はケトンを含む洗浄液体により遙かに除去され易い。
【0031】アルコール又はケトンとしては、比較的低
分子量のものが使用され、具体的には、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール、n−プロパノール又はア
セトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。そして、
洗浄液体中のアルコール又はケトンの濃度は、特に制限
はないが、一般的には、いずれの場合も、4〜50重量
%の水溶液として使用するのが好ましい。
分子量のものが使用され、具体的には、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール、n−プロパノール又はア
セトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。そして、
洗浄液体中のアルコール又はケトンの濃度は、特に制限
はないが、一般的には、いずれの場合も、4〜50重量
%の水溶液として使用するのが好ましい。
【0032】上記の洗浄槽の上部にはアルミニウム円筒
基体(4)の外面に接触することなくこれを回転させつ
つ上下移動させる駆動手段が設けられている。そして、
この駆動手段により、アルミニウム円筒基体(4)は、
その側面が洗浄槽内の集中型チップ(32)に対向する
ように上下移動させられ、その少なくとも一方の移動操
作中に陽極酸化被膜面の超音波洗浄洗浄が行われる。
基体(4)の外面に接触することなくこれを回転させつ
つ上下移動させる駆動手段が設けられている。そして、
この駆動手段により、アルミニウム円筒基体(4)は、
その側面が洗浄槽内の集中型チップ(32)に対向する
ように上下移動させられ、その少なくとも一方の移動操
作中に陽極酸化被膜面の超音波洗浄洗浄が行われる。
【0033】上記の駆動手段としては、特に制限される
ものではないが、取扱が容易であり、アルミニウム円筒
基体(4)の側面と集中型チップ(32)との距離を常
に一定に保持しつつ、しかも、回転のガタツキがない状
態でアルミニウム円筒基体(4)を上下移動し得る駆動
手段が好ましい。
ものではないが、取扱が容易であり、アルミニウム円筒
基体(4)の側面と集中型チップ(32)との距離を常
に一定に保持しつつ、しかも、回転のガタツキがない状
態でアルミニウム円筒基体(4)を上下移動し得る駆動
手段が好ましい。
【0034】図2〜4は、上記の洗浄槽(30)におい
て好適に使用される駆動手段の一例の要部を示す説明図
であり、図2は、チャック装置の一例の全体を説明する
、アルミニウム円筒基体(4)を拘持した状態の側面断
面図、図3は、同装置の拘持機構を説明する、図2のA
−A′線に沿った部分平面図、図4は、同装置の駒部材
を説明する、図2のB−B′線に沿った部分平面図であ
る。
て好適に使用される駆動手段の一例の要部を示す説明図
であり、図2は、チャック装置の一例の全体を説明する
、アルミニウム円筒基体(4)を拘持した状態の側面断
面図、図3は、同装置の拘持機構を説明する、図2のA
−A′線に沿った部分平面図、図4は、同装置の駒部材
を説明する、図2のB−B′線に沿った部分平面図であ
る。
【0035】上記のチャック装置は、アルミニウム円筒
基体(4)の一端開放部からその内部に相対的に挿入さ
れる中空軸(1)と、該中空軸内に挿入され且つ上下に
移動可能な心棒(7)と、該心棒の上下動により前記中
空軸の一端において前記アルミニウム円筒基体の径方向
へ収縮拡大する拘持機構(11)と、前記中空軸の周囲
に等間隔または一体的に形成され、しかも、前記アルミ
ニウム円筒基体の内部に挿入されて当該円筒基体の内面
に当接する傾斜部を有する駒部材(15)とを含む構成
になされている。
基体(4)の一端開放部からその内部に相対的に挿入さ
れる中空軸(1)と、該中空軸内に挿入され且つ上下に
移動可能な心棒(7)と、該心棒の上下動により前記中
空軸の一端において前記アルミニウム円筒基体の径方向
へ収縮拡大する拘持機構(11)と、前記中空軸の周囲
に等間隔または一体的に形成され、しかも、前記アルミ
ニウム円筒基体の内部に挿入されて当該円筒基体の内面
に当接する傾斜部を有する駒部材(15)とを含む構成
になされている。
【0036】そして、上記のチャック装置において、傾
斜部を有する駒部材(15)は、アルミニウム円筒基体
(4)の内部に挿入されて当該円筒基体の内面に当接し
、そして、アルミニウム円筒基体(4)は、その上昇に
従って駒部材(15)の傾斜部に案内され、その中心を
中空軸(1)の中心と一致するように移動する。その結
果、上記のチャック装置は、簡単な構造にしてアルミニ
ウム円筒基体(4)への挿入が容易でありながら当該円
筒基体との求心合わせを容易に行い得る特徴を有する。
斜部を有する駒部材(15)は、アルミニウム円筒基体
(4)の内部に挿入されて当該円筒基体の内面に当接し
、そして、アルミニウム円筒基体(4)は、その上昇に
従って駒部材(15)の傾斜部に案内され、その中心を
中空軸(1)の中心と一致するように移動する。その結
果、上記のチャック装置は、簡単な構造にしてアルミニ
ウム円筒基体(4)への挿入が容易でありながら当該円
筒基体との求心合わせを容易に行い得る特徴を有する。
【0037】中空軸(1)は、その基部の周囲に配置さ
れたベアリング(2)を介し、固定枠(3)に回転自在
に支持されている。そして、中空軸(1)は、アルミニ
ウム円筒基体(4)または固定枠(3)の昇降により、
アルミニウム円筒基体(4)の一端開放部からその内部
に相対的に挿入される。
れたベアリング(2)を介し、固定枠(3)に回転自在
に支持されている。そして、中空軸(1)は、アルミニ
ウム円筒基体(4)または固定枠(3)の昇降により、
アルミニウム円筒基体(4)の一端開放部からその内部
に相対的に挿入される。
【0038】また、中空軸(1)は、その先端部側にお
いて、軸方向に沿って形成された一条の切欠溝(5)を
周方向に等間隔で3個有しており、その基部側において
、内径を拡大して形成したバネ室(6)を有している。
いて、軸方向に沿って形成された一条の切欠溝(5)を
周方向に等間隔で3個有しており、その基部側において
、内径を拡大して形成したバネ室(6)を有している。
【0039】心棒(7)は、中空軸(1)内に挿入され
上下に移動可能に配置されている。そして、心棒(7)
は、その先端部において、3つ股固定部材(8)を固設
し、その基部側において、ストッパー(9)を固設して
いる。そして、心棒(7)の基部側は中空軸(1)より
突出し、また、心棒のストッパー(9)は中空軸のバネ
室(6)に収容されたバネ(10)の反発力を受けてい
る。
上下に移動可能に配置されている。そして、心棒(7)
は、その先端部において、3つ股固定部材(8)を固設
し、その基部側において、ストッパー(9)を固設して
いる。そして、心棒(7)の基部側は中空軸(1)より
突出し、また、心棒のストッパー(9)は中空軸のバネ
室(6)に収容されたバネ(10)の反発力を受けてい
る。
【0040】拘持機構(11)は、リンク機構を構成す
る2個の棒状部材(12)、(13)の3組から構成さ
れ、それぞれ、一方の棒状部材(12)の端部を中空軸
の切欠溝(5)の基部側側壁にピン止めすると共に他方
の棒状部材(13)の端部を3つ股固定部材(8)の1
の股内にピン止めされている。図2中、(14)はピン
を表す。
る2個の棒状部材(12)、(13)の3組から構成さ
れ、それぞれ、一方の棒状部材(12)の端部を中空軸
の切欠溝(5)の基部側側壁にピン止めすると共に他方
の棒状部材(13)の端部を3つ股固定部材(8)の1
の股内にピン止めされている。図2中、(14)はピン
を表す。
【0041】そして、拘持機構(11)は、心棒(7)
の上下動により、中空軸(1)の一端においてアルミニ
ウム円筒基体(4)の径方向へ収縮拡大する。すなわち
、後述するエアーシリンダー(19)のピストンロッド
(20)の降下により、心棒(7)を引き下げた状態に
おいては、拘持機構(11)を構成する棒状部材(12
)、(13)の3組は、いずれも、直線状態に伸びてそ
れぞれの切欠溝(5)内に収容されている。そして、例
えば、アルミニウム円筒基体(4)を上昇させ、その一
端開放部より中空軸(1)を挿入し、ピストンロッド(
20)を上昇させ、バネ(10)の反発力により、心棒
(7)を引き上げた状態においては、棒状部材(12)
、(13)は、そのリンク機構により、それぞれの切欠
溝(5)から突出し、アルミニウム円筒基体(4)の径
方向へ拡大してこれを3点で拘持する。
の上下動により、中空軸(1)の一端においてアルミニ
ウム円筒基体(4)の径方向へ収縮拡大する。すなわち
、後述するエアーシリンダー(19)のピストンロッド
(20)の降下により、心棒(7)を引き下げた状態に
おいては、拘持機構(11)を構成する棒状部材(12
)、(13)の3組は、いずれも、直線状態に伸びてそ
れぞれの切欠溝(5)内に収容されている。そして、例
えば、アルミニウム円筒基体(4)を上昇させ、その一
端開放部より中空軸(1)を挿入し、ピストンロッド(
20)を上昇させ、バネ(10)の反発力により、心棒
(7)を引き上げた状態においては、棒状部材(12)
、(13)は、そのリンク機構により、それぞれの切欠
溝(5)から突出し、アルミニウム円筒基体(4)の径
方向へ拡大してこれを3点で拘持する。
【0042】駒部材(15)は、中空軸(1)に嵌合し
たスライダー(16)と中空軸(1)の基部に向かって
末広がりの傾斜部を有する4枚の三角形状板(17)よ
り構成され、各三角形状板は、スライダー(16)の周
囲に等間隔で固定されている。そして、駒部材(15)
は、中空軸(1)に沿って移動し、アルミニウム円筒基
体(4)の内部に挿入されて当該円筒基体の内面にその
傾斜部を当接する。スライダー(16)は、駒部材(1
5)を中空軸(1)に沿って移動可能にするために、好
ましい態様として設けられたものであり、このような構
成によれば、長さの異なる各種のアルミニウム円筒基体
を拘持し得る。
たスライダー(16)と中空軸(1)の基部に向かって
末広がりの傾斜部を有する4枚の三角形状板(17)よ
り構成され、各三角形状板は、スライダー(16)の周
囲に等間隔で固定されている。そして、駒部材(15)
は、中空軸(1)に沿って移動し、アルミニウム円筒基
体(4)の内部に挿入されて当該円筒基体の内面にその
傾斜部を当接する。スライダー(16)は、駒部材(1
5)を中空軸(1)に沿って移動可能にするために、好
ましい態様として設けられたものであり、このような構
成によれば、長さの異なる各種のアルミニウム円筒基体
を拘持し得る。
【0043】駒部材(15)は、上記の構造の他、スラ
イダー(16)とその周囲に一体的に形成された逆三角
錐体(図示せず)で構成されたものであってもよい。ま
た、駒部材(15)を構成する各三角形状板(17)の
傾斜部は、内寸の異なる各種のアルミニウム円筒基体(
4)にそれぞれ緊密嵌合し得る位置に形成された垂直部
を有する多段状のものであるのが好ましい。この多段形
状は、上記の逆三角錐体を使用する場合は、同一中心円
状に形成される。
イダー(16)とその周囲に一体的に形成された逆三角
錐体(図示せず)で構成されたものであってもよい。ま
た、駒部材(15)を構成する各三角形状板(17)の
傾斜部は、内寸の異なる各種のアルミニウム円筒基体(
4)にそれぞれ緊密嵌合し得る位置に形成された垂直部
を有する多段状のものであるのが好ましい。この多段形
状は、上記の逆三角錐体を使用する場合は、同一中心円
状に形成される。
【0044】また、中空軸(1)の表面には、軸方向に
沿って一条の突起(図示せず)を形成し、スライダー(
16)の内面には、上記突起に嵌合する溝(18)(図
4参照)を設けるのが好ましい。このような構成によれ
ば、スライダー(16)は、回転することなく円滑に中
空軸(1)に沿って移動し得る。
沿って一条の突起(図示せず)を形成し、スライダー(
16)の内面には、上記突起に嵌合する溝(18)(図
4参照)を設けるのが好ましい。このような構成によれ
ば、スライダー(16)は、回転することなく円滑に中
空軸(1)に沿って移動し得る。
【0045】固定枠(3)の上には、エアーシリンダー
(19)が配置され、そのピストンロッド(20)は、
心棒(7)の突出端部に当接するように配置されている
。また、固定枠(3)の上には、モータ(21)が配置
され、その駆動軸(22)の先端は、動力伝達機構(2
3)を介し、心棒(7)の突出部の周囲に設けられた回
転駆動部(24)に連結されている。
(19)が配置され、そのピストンロッド(20)は、
心棒(7)の突出端部に当接するように配置されている
。また、固定枠(3)の上には、モータ(21)が配置
され、その駆動軸(22)の先端は、動力伝達機構(2
3)を介し、心棒(7)の突出部の周囲に設けられた回
転駆動部(24)に連結されている。
【0046】上記のチャック装置においては、アルミニ
ウム円筒基体(4)の一端開放部より中空軸(1)を挿
入する際、駒部材を構成する三角形状板(17)の傾斜
部がアルミニウム円筒基体(4)の内面に当接する。そ
して、アルミニウム円筒基体(4)は、その上昇に従っ
て三角形状板(17)の傾斜部に案内され、その中心を
中空軸(1)の中心と一致するように移動する。その結
果、アルミニウム円筒基体(4)への挿入が容易な大き
さの中空軸(1)であっても、アルミニウム円筒基体(
4)との求心合わせは容易に達成される。
ウム円筒基体(4)の一端開放部より中空軸(1)を挿
入する際、駒部材を構成する三角形状板(17)の傾斜
部がアルミニウム円筒基体(4)の内面に当接する。そ
して、アルミニウム円筒基体(4)は、その上昇に従っ
て三角形状板(17)の傾斜部に案内され、その中心を
中空軸(1)の中心と一致するように移動する。その結
果、アルミニウム円筒基体(4)への挿入が容易な大き
さの中空軸(1)であっても、アルミニウム円筒基体(
4)との求心合わせは容易に達成される。
【0047】そして、三角形状板(17)が多段形状の
傾斜部を有するものの場合は、拘持すべきアルミニウム
円筒基体(4)の内径に多段形状の垂直部が直ちに嵌合
するため、上記の求心合わせは一層容易となる。また、
多段形状の傾斜部の垂直部においては、アルミニウム円
筒基体(4)は、比較的緊密状態に嵌合されるため、モ
ータ(21)を駆動させ、アルミニウム円筒基体(4)
の回転状態で拘持する場合、中空軸(1)とアルミニウ
ム円筒基体(4)とのガタツキを効果的に防止し得る。
傾斜部を有するものの場合は、拘持すべきアルミニウム
円筒基体(4)の内径に多段形状の垂直部が直ちに嵌合
するため、上記の求心合わせは一層容易となる。また、
多段形状の傾斜部の垂直部においては、アルミニウム円
筒基体(4)は、比較的緊密状態に嵌合されるため、モ
ータ(21)を駆動させ、アルミニウム円筒基体(4)
の回転状態で拘持する場合、中空軸(1)とアルミニウ
ム円筒基体(4)とのガタツキを効果的に防止し得る。
【0048】図2においては、固定枠(3)には1基の
チャック装置しか示していないが、工業的には、洗浄槽
に配置される複数の集中型チップ(32)に見合った基
数のチャック装置(通常は、1台の固定枠に対して2〜
10基)が配置され、同時に、複数のアルミニウム円筒
基体(4)が洗浄される。この場合、モータ(21)は
、固定枠(3)の端部に配置され、複数の心棒(7)の
各回転駆動部(24)は、複数の動力伝達機構(23)
により相互に連結される。
チャック装置しか示していないが、工業的には、洗浄槽
に配置される複数の集中型チップ(32)に見合った基
数のチャック装置(通常は、1台の固定枠に対して2〜
10基)が配置され、同時に、複数のアルミニウム円筒
基体(4)が洗浄される。この場合、モータ(21)は
、固定枠(3)の端部に配置され、複数の心棒(7)の
各回転駆動部(24)は、複数の動力伝達機構(23)
により相互に連結される。
【0049】そして、図示を省略したが、通常は、固定
枠(3)が例えばスピードコントロールモータにより上
下移動するように構成され、また、洗浄槽の上方に固定
枠(3)が走行するレールを横架し、陽極酸化処理また
は封孔処理のされたアルミニウム円筒基体(4)の配置
位置と洗浄槽(30)との間を固定枠(3)が往復移動
し得るように構成することもできる。
枠(3)が例えばスピードコントロールモータにより上
下移動するように構成され、また、洗浄槽の上方に固定
枠(3)が走行するレールを横架し、陽極酸化処理また
は封孔処理のされたアルミニウム円筒基体(4)の配置
位置と洗浄槽(30)との間を固定枠(3)が往復移動
し得るように構成することもできる。
【0050】本発明において、アルミニウム円筒基体(
4)の陽極酸化被膜の洗浄は、上記のように構成された
チャック装置を備えた駆動手段を使用し、例えば、次の
ように行われる。
4)の陽極酸化被膜の洗浄は、上記のように構成された
チャック装置を備えた駆動手段を使用し、例えば、次の
ように行われる。
【0051】先ず、例えば、陽極酸化処理または封孔処
理のされたアルミニウム円筒基体(4)の配置位置に固
定枠(3)を移動させ、チャック装置によりアルミニウ
ム円筒基体(4)を拘持させ、洗浄槽(30)の上部に
固定枠(3)を移動させる。次に、スピードコントロー
ルモータ(図示せず)により固定枠(3)を下方に移動
させてアルミニウム円筒基体(4)を洗浄液体に浸漬さ
せた後、モータ(21)によりアルミニウム円筒基体(
4)を回転させながら例えばスピードコントロールモー
タにより固定枠(3)を上方に移動させると共に超音波
振動子(31)を駆動させる。
理のされたアルミニウム円筒基体(4)の配置位置に固
定枠(3)を移動させ、チャック装置によりアルミニウ
ム円筒基体(4)を拘持させ、洗浄槽(30)の上部に
固定枠(3)を移動させる。次に、スピードコントロー
ルモータ(図示せず)により固定枠(3)を下方に移動
させてアルミニウム円筒基体(4)を洗浄液体に浸漬さ
せた後、モータ(21)によりアルミニウム円筒基体(
4)を回転させながら例えばスピードコントロールモー
タにより固定枠(3)を上方に移動させると共に超音波
振動子(31)を駆動させる。
【0052】上記の操作により、アルミニウム円筒基体
(4)の全側面は、洗浄槽内の集中型チップ(32)に
対向し、陽極酸化被膜面の超音波洗浄が行われる。超音
波振動子(31)に与える超音波エネルギーは、アルミ
ニウム円筒基体(4)の1回の片道移動により十分な洗
浄効果を得るためには、通常、実行出力として30〜9
0w/cm2 の範囲とするのがよく、また、アルミニ
ウム円筒基体(4)の側面と集中型チップ(32)の端
面との距離は1〜50mm、好ましくは5〜30mmの
範囲、アルミニウム円筒基体(4)の1回転当りの移動
量は、例えば、直径32mmの集中型チップ(32)を
使用した場合は、その直径の1/16の〜1/4(2.
5mm〜8mm)の範囲とするのが好ましく、この場合
、アルミニウム円筒基体(4)の移動速度および回転速
度は、それぞれ、2.5〜40mm/秒の範囲、75〜
300rpmの範囲となる。
(4)の全側面は、洗浄槽内の集中型チップ(32)に
対向し、陽極酸化被膜面の超音波洗浄が行われる。超音
波振動子(31)に与える超音波エネルギーは、アルミ
ニウム円筒基体(4)の1回の片道移動により十分な洗
浄効果を得るためには、通常、実行出力として30〜9
0w/cm2 の範囲とするのがよく、また、アルミニ
ウム円筒基体(4)の側面と集中型チップ(32)の端
面との距離は1〜50mm、好ましくは5〜30mmの
範囲、アルミニウム円筒基体(4)の1回転当りの移動
量は、例えば、直径32mmの集中型チップ(32)を
使用した場合は、その直径の1/16の〜1/4(2.
5mm〜8mm)の範囲とするのが好ましく、この場合
、アルミニウム円筒基体(4)の移動速度および回転速
度は、それぞれ、2.5〜40mm/秒の範囲、75〜
300rpmの範囲となる。
【0053】本発明においては、以上のようして超音波
洗浄された陽極酸化被膜上に光導電層を設けるが、陽極
酸化被膜と光導電層の間に、有機樹脂から成るブロッキ
ング層を設けるなど他の処理を行なってもよい。
洗浄された陽極酸化被膜上に光導電層を設けるが、陽極
酸化被膜と光導電層の間に、有機樹脂から成るブロッキ
ング層を設けるなど他の処理を行なってもよい。
【0054】光導電層としては、例えば、次のような態
様により、無機系、有機系の各種光導電層が適用できる
が、本発明においては、以下の積層型光導電層を使用す
るのが好ましい。 (1)光導電体物質を主成分とする電荷発生層と電荷移
動材料を含有する電荷移動層とより成る積層型光導電層
。 (2)電荷移動材料とバインダー樹脂からなる結合材中
に光導電体粒子を分散してなる分散型光導電層。
様により、無機系、有機系の各種光導電層が適用できる
が、本発明においては、以下の積層型光導電層を使用す
るのが好ましい。 (1)光導電体物質を主成分とする電荷発生層と電荷移
動材料を含有する電荷移動層とより成る積層型光導電層
。 (2)電荷移動材料とバインダー樹脂からなる結合材中
に光導電体粒子を分散してなる分散型光導電層。
【0055】そして、上記の積層型光導電層の場合、電
荷発生層に用いる光導電体としては、Seおよびその合
金、ヒ素−セレン、硫化カドミニウム、その他の無機光
導電体、フタロシアニン、アゾ色素、キナクリドン、多
環キノン等の有機顔料が使用できる。中でも無金属フタ
ロシアニン;銅、塩化インジウム、塩化ガリウム、錫、
オキシチタニウム、亜鉛、パナジウム等の金属又はその
酸化物、塩化物の配位したフタロシアニン類;モノアゾ
、ビスアゾ、トリスアゾ、ポリアゾ類等のアゾ顔料が好
ましい。
荷発生層に用いる光導電体としては、Seおよびその合
金、ヒ素−セレン、硫化カドミニウム、その他の無機光
導電体、フタロシアニン、アゾ色素、キナクリドン、多
環キノン等の有機顔料が使用できる。中でも無金属フタ
ロシアニン;銅、塩化インジウム、塩化ガリウム、錫、
オキシチタニウム、亜鉛、パナジウム等の金属又はその
酸化物、塩化物の配位したフタロシアニン類;モノアゾ
、ビスアゾ、トリスアゾ、ポリアゾ類等のアゾ顔料が好
ましい。
【0056】電荷発生層は、光導電体物質の均一層とし
て或いは光導電体物質がバインダー樹脂中に分散した状
態で形成される。ここで使用されるバインダー樹脂とし
ては、フェノキシ、エポキシ、ポリエステル、アクリル
、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート樹脂等が挙
げられる。膜厚としては通常0.1〜1μm、好ましく
は0.15〜0.6μmが好適である。また、これら光
導電体の含有量としては通常バイダー樹脂100重量部
(以下、「部」と略す)に対して20〜300部、好ま
しくは30〜150部の範囲で用いられる。
て或いは光導電体物質がバインダー樹脂中に分散した状
態で形成される。ここで使用されるバインダー樹脂とし
ては、フェノキシ、エポキシ、ポリエステル、アクリル
、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート樹脂等が挙
げられる。膜厚としては通常0.1〜1μm、好ましく
は0.15〜0.6μmが好適である。また、これら光
導電体の含有量としては通常バイダー樹脂100重量部
(以下、「部」と略す)に対して20〜300部、好ま
しくは30〜150部の範囲で用いられる。
【0057】電荷移動層中の電荷移動材料としては、ポ
リビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリアセナ
フチレン等の高分子化合物、又は各種ピラゾリン誘導体
、オキサゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン
誘導体等の低分子化合物が使用できる。
リビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリアセナ
フチレン等の高分子化合物、又は各種ピラゾリン誘導体
、オキサゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン
誘導体等の低分子化合物が使用できる。
【0058】上記の電荷移動材料とともに必要に応じて
バインダー樹脂が配合される。好ましいバインダー樹脂
としては、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、
ポリ塩化ビニル等のビニル重合体、及びその共重合体、
ポリカーボネート、ポリエステル、フェノキシ、エポキ
シ、シリコーン樹脂等があげられ、またこれらの部分的
架橋硬化物も使用される。
バインダー樹脂が配合される。好ましいバインダー樹脂
としては、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、
ポリ塩化ビニル等のビニル重合体、及びその共重合体、
ポリカーボネート、ポリエステル、フェノキシ、エポキ
シ、シリコーン樹脂等があげられ、またこれらの部分的
架橋硬化物も使用される。
【0059】また、上記の電荷移動材料の電荷移動層中
の含有量は、バインダー樹脂100部に対して通常30
〜200部、好ましくは50〜150部の範囲で用いら
れる。また電荷移動層には、必要に応じて酸化防止剤、
増感剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。電荷移動層
の膜厚は10〜40μm、好ましくは10〜30μmの
厚みで使用されるのがよい。
の含有量は、バインダー樹脂100部に対して通常30
〜200部、好ましくは50〜150部の範囲で用いら
れる。また電荷移動層には、必要に応じて酸化防止剤、
増感剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。電荷移動層
の膜厚は10〜40μm、好ましくは10〜30μmの
厚みで使用されるのがよい。
【0060】なお、分散型光導電層の場合は、上記光導
電体と電荷移動材料を組み合せ使用し、バインダー樹脂
100部に対し、20〜200部、好ましくは40〜1
50部程度配合したものが用いられる。
電体と電荷移動材料を組み合せ使用し、バインダー樹脂
100部に対し、20〜200部、好ましくは40〜1
50部程度配合したものが用いられる。
【0061】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を越えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
するが、本発明は、その要旨を越えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
【0062】実施例1
表面を鏡面仕上げした肉厚1mmのアルミニウム円筒基
体を脱脂剤、NG−#30(キザイ(株)製)の30g
/l水溶液中で60℃、5分間脱脂洗浄を行なった。続
いて、7%硝酸に25℃で1分間浸漬した。更に、水洗
後、180g/lの硫酸電解液中(溶存アルミニウム濃
度7g/l)で1.2A/dm2 の電流密度で陽極酸
化を行ない、平均膜厚6μmの陽極酸化被膜を形成した
。 次いで、水洗後、酢酸ニッケルを主成分とする高温封孔
剤トップシールDX−500(奥野製薬工業(株)製)
の10g/l水溶液に95℃で30分間浸漬したのち、
ほぼ常温に冷却した前記高温封孔剤をアルミニウム円筒
基体に振り掛けながら引き上げて封孔処理を行なった。
体を脱脂剤、NG−#30(キザイ(株)製)の30g
/l水溶液中で60℃、5分間脱脂洗浄を行なった。続
いて、7%硝酸に25℃で1分間浸漬した。更に、水洗
後、180g/lの硫酸電解液中(溶存アルミニウム濃
度7g/l)で1.2A/dm2 の電流密度で陽極酸
化を行ない、平均膜厚6μmの陽極酸化被膜を形成した
。 次いで、水洗後、酢酸ニッケルを主成分とする高温封孔
剤トップシールDX−500(奥野製薬工業(株)製)
の10g/l水溶液に95℃で30分間浸漬したのち、
ほぼ常温に冷却した前記高温封孔剤をアルミニウム円筒
基体に振り掛けながら引き上げて封孔処理を行なった。
【0063】続いて、水洗後、図2〜3に示すチャック
装置を備えた駆動手段を上部に有する図1に示す洗浄槽
(集中型超音波装置としてチップ先端径32mmの(株
)日本精機製作所製超音波ホモジナイザーUS−600
を装備)に洗浄液体として10重量%のエチルアルコー
ル水溶液を満たしてオーバーフローさせながら、アルミ
ニウム円筒基体を下方に移動させて洗浄液体に浸漬させ
た後、240rpmで回転させながら上方に移動させる
と共に集中型超音波装置を駆動させて陽極酸化被膜面を
超音波洗浄を行った。なお、集中型超音波装置は、アル
ミニウム円筒基体の側面と集中型チップ端面との距離が
10mmとなる位置に装備し、アルミニウム円筒基体の
移動速度は10mm/秒、集中型超音波装置の実効出力
は約40w/cm2 とした。
装置を備えた駆動手段を上部に有する図1に示す洗浄槽
(集中型超音波装置としてチップ先端径32mmの(株
)日本精機製作所製超音波ホモジナイザーUS−600
を装備)に洗浄液体として10重量%のエチルアルコー
ル水溶液を満たしてオーバーフローさせながら、アルミ
ニウム円筒基体を下方に移動させて洗浄液体に浸漬させ
た後、240rpmで回転させながら上方に移動させる
と共に集中型超音波装置を駆動させて陽極酸化被膜面を
超音波洗浄を行った。なお、集中型超音波装置は、アル
ミニウム円筒基体の側面と集中型チップ端面との距離が
10mmとなる位置に装備し、アルミニウム円筒基体の
移動速度は10mm/秒、集中型超音波装置の実効出力
は約40w/cm2 とした。
【0064】次いで、上記と同様の駆動手段を上部に有
する洗浄槽を使用し、アルミニウム円筒基体を240r
pmで回転させつつ、移動速度10mm/秒で1往復上
下移動させ、指向性のある高周波の超音波を付与した純
水により陽極酸化被膜面を超音波洗浄した。この超音波
洗浄には、洗浄槽の上側部に配置された噴射ホーン型指
向性高周波超音波装置(本多電子(株)製パルスジェッ
トW−357P)を使用して行った。そして、最後に、
上記と同様の駆動手段を上部に有する洗浄槽内の90℃
の超純水に1分間浸漬した後、上昇速度10mm/秒で
引き上げて乾燥した。
する洗浄槽を使用し、アルミニウム円筒基体を240r
pmで回転させつつ、移動速度10mm/秒で1往復上
下移動させ、指向性のある高周波の超音波を付与した純
水により陽極酸化被膜面を超音波洗浄した。この超音波
洗浄には、洗浄槽の上側部に配置された噴射ホーン型指
向性高周波超音波装置(本多電子(株)製パルスジェッ
トW−357P)を使用して行った。そして、最後に、
上記と同様の駆動手段を上部に有する洗浄槽内の90℃
の超純水に1分間浸漬した後、上昇速度10mm/秒で
引き上げて乾燥した。
【0065】一方、オキシチタニウムフタロシアニン1
0重量部、ポリビニルブチラール(積水化学工業(株)
製、商品名エスレックBH−3)5重量部に1,2−ジ
メトキシエタン500重量部を加え、サンドグラインド
ミルで粉砕、分散処理を行なった。この分散液に先に形
成した陽極酸化被膜を設けたアルミニウム円筒基体を浸
漬塗布し、乾燥後の膜厚が0.4μmとなるように電荷
発生層を設けた。
0重量部、ポリビニルブチラール(積水化学工業(株)
製、商品名エスレックBH−3)5重量部に1,2−ジ
メトキシエタン500重量部を加え、サンドグラインド
ミルで粉砕、分散処理を行なった。この分散液に先に形
成した陽極酸化被膜を設けたアルミニウム円筒基体を浸
漬塗布し、乾燥後の膜厚が0.4μmとなるように電荷
発生層を設けた。
【0066】次に、このアルミニウム円筒基体を、次の
化学式〔化1〕に示すヒドラゾン化合物56重量部、〔
化2〕に示すヒドラゾン化合物14重量部、〔化3〕に
示すシアノ化合物1.5重量部とポリカーボネート樹脂
(三菱化成(株)製、ノバレックス(登録商標)703
0A)100重量部とを1,4−ジオキサン1000重
量部に溶解させた液に浸漬塗布し、乾燥後の膜厚が17
μmとなるように電荷移動層を設けた。この様にして得
られたドラムを感光体Aとする。
化学式〔化1〕に示すヒドラゾン化合物56重量部、〔
化2〕に示すヒドラゾン化合物14重量部、〔化3〕に
示すシアノ化合物1.5重量部とポリカーボネート樹脂
(三菱化成(株)製、ノバレックス(登録商標)703
0A)100重量部とを1,4−ジオキサン1000重
量部に溶解させた液に浸漬塗布し、乾燥後の膜厚が17
μmとなるように電荷移動層を設けた。この様にして得
られたドラムを感光体Aとする。
【0067】
【化1】
【0068】
【化2】
【0069】
【化3】
【0070】比較のため、実施例1において、超音波洗
浄に代えて、ポリエステル製スポンジによる3回の往復
こすり洗浄を行った後水洗する以外は、実施例1と同様
にして電子写真用感光体を製造した。このようにして得
られたドラムを感光体Bとする。
浄に代えて、ポリエステル製スポンジによる3回の往復
こすり洗浄を行った後水洗する以外は、実施例1と同様
にして電子写真用感光体を製造した。このようにして得
られたドラムを感光体Bとする。
【0071】次に、上記の各感光体を市販の反転現像方
式のレーザープリンターに装着し、各環境下における画
像特性を評価した。その結果、実施例の感光体Aでは、
5℃/10%(RH)、25℃/60%(RH)、35
℃/85%(RH)のいずれの環境条件下においても白
地、黒地画像ともに良好な画像が得られたが、感光体B
では、特に、白地画像にこすり洗浄不良が原因と思われ
る筋状の画像欠陥が現れ、良好な画像の得られる割合が
少なかった。以上の結果から、本発明の製造法による電
子写真感光体は、非常に優れた性能を有していると判断
できる。
式のレーザープリンターに装着し、各環境下における画
像特性を評価した。その結果、実施例の感光体Aでは、
5℃/10%(RH)、25℃/60%(RH)、35
℃/85%(RH)のいずれの環境条件下においても白
地、黒地画像ともに良好な画像が得られたが、感光体B
では、特に、白地画像にこすり洗浄不良が原因と思われ
る筋状の画像欠陥が現れ、良好な画像の得られる割合が
少なかった。以上の結果から、本発明の製造法による電
子写真感光体は、非常に優れた性能を有していると判断
できる。
【0072】
【発明の効果】本発明によって得られた電子写真感光体
は、反転現像方式のプロセスを含む電子写真システムに
て使用した場合、高湿下を含めた広い環境条件下におい
て、かぶり等のない良好な画像を与える。
は、反転現像方式のプロセスを含む電子写真システムに
て使用した場合、高湿下を含めた広い環境条件下におい
て、かぶり等のない良好な画像を与える。
【図1】本発明の製造方法において使用される洗浄槽の
一例を概念的に示す説明図である。
一例を概念的に示す説明図である。
【図2】図1に示す洗浄槽においてアルミニウム円筒基
体の駆動手段に使用されるチャック装置の一例の全体を
説明する側面断面図である。
体の駆動手段に使用されるチャック装置の一例の全体を
説明する側面断面図である。
【図3】図2に示すチャック装置の拘持機構を説明する
、図2のA−A′線に沿った部分平面図である。
、図2のA−A′線に沿った部分平面図である。
【図4】図2に示すチャック装置の駒部材を説明する、
図2のB−B′線に沿った部分平面図である。
図2のB−B′線に沿った部分平面図である。
(1) :中空軸
(4) :アルミニウム円筒基体
(5) :切欠溝
(7) :心棒
(11):拘持機構
(15):駒部材
(16):スライダー
(17):三角形状板
(30):洗浄槽
(31):超音波振動子
(32):集中型チップ
Claims (1)
- 【請求項1】 アルミニウム円筒基体上に陽極酸化被
膜を形成し、必要に応じて陽極酸化被膜を封孔処理し、
次いで、アルミニウム円筒基体の陽極酸化被膜面を洗浄
した後、その上に光導電層を設ける電子写真感光体の製
造方法において、前記陽極酸化被膜面の洗浄方法として
、上部には、アルミニウム円筒基体の外面に接触するこ
となくこれを回転させつつ上下移動させる駆動手段が設
けられ、内部には、超音波振動子に接続された集中型チ
ップが配置されると共に洗浄液体が収容された洗浄槽を
使用し、そして、上記の駆動手段により、その側面が洗
浄槽内の集中型チップに対向するようにアルミニウム円
筒基体を上下移動させ、且つ、その少なくとも一方の移
動操作中にアルミニウム円筒基体を回転させて超音波洗
浄を行う洗浄方法を使用することを特徴とする電子写真
感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3126581A JP3001666B2 (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 電子写真感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3126581A JP3001666B2 (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 電子写真感光体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04328751A true JPH04328751A (ja) | 1992-11-17 |
JP3001666B2 JP3001666B2 (ja) | 2000-01-24 |
Family
ID=14938718
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3126581A Expired - Fee Related JP3001666B2 (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3001666B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003005405A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Tohoku Ricoh Co Ltd | 積層型感光体および積層型感光体用基体の製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101662828B1 (ko) * | 2015-04-14 | 2016-10-06 | (주)신한전기 | 천장형 공기조화기용 승강패널승하강장치 |
-
1991
- 1991-04-30 JP JP3126581A patent/JP3001666B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003005405A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Tohoku Ricoh Co Ltd | 積層型感光体および積層型感光体用基体の製造方法 |
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---|---|
JP3001666B2 (ja) | 2000-01-24 |
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