JPH0432560A - 真空蒸着装置 - Google Patents

真空蒸着装置

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Publication number
JPH0432560A
JPH0432560A JP13707590A JP13707590A JPH0432560A JP H0432560 A JPH0432560 A JP H0432560A JP 13707590 A JP13707590 A JP 13707590A JP 13707590 A JP13707590 A JP 13707590A JP H0432560 A JPH0432560 A JP H0432560A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
ozone
vacuum evaporation
oxygen
vacuum
Prior art date
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Pending
Application number
JP13707590A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanobu Inoue
井上 雅伸
Hiroshi Kawai
博 川井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Iwasaki Denki KK
Original Assignee
Iwasaki Denki KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はガラス、セラミック、プラスチック等の基板上
に金属膜あるいは誘電体多層膜をコーテングする真空蒸
着装置の改良に関する。
〔従来の技術〕
従来、ガラス、セラミック、プラスチック等の基板上に
金属膜あるいは誘電体多層膜をコーテングすることが行
われている。
同ガラス、セラミック、プラスチック等の基板上に金属
膜あるいは誘電体多層膜をコーテングするには、その前
処理として基板に対する膜の付着力を増大するために、
基板をプラズマ洗浄するか、あるいはイオンボンバード
等により処理することが行われている。
この前処理を行うと、基板の表面に付着している油脂等
の有機汚染物を分解除去できるだけでなく、基板の表面
はエツチングされ基板に対する金属膜あるいは誘電体多
層膜の付着力を強くすることができる。
ところで、従来の真空蒸着装置は、真空ポンプに接続し
てなる真空蒸着装置本体の上方内部に基板支持部を設け
、同真空蒸着装置本体の内部を所定の圧力まで排気し、
かかる後、ガスの導入を行い、プラズマ洗浄あるいはイ
オンボンバード処理し、次に薬品を蒸発源より蒸発し、
ガラス、セラミック、プラスチック等の基板上に金属膜
あるいは誘電体多層膜をコーテングすることが行われて
いる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、上記した真空蒸着装置によると、真空蒸着装置
本体の内部を通常は約10分程度かけてグロー放電が行
われる程度の圧力まで排気し、かかる後例えばアルゴン
ガスを封入して、約5分程度でプラズマ洗浄かイオンボ
ンバード処理し、次に電子銃で、薬品を噴射しコーテン
グするので、コーテング作業に長時間を要し能率が悪い
またガラス、セラミック、プラスチック等の基板の汚れ
がひどい場合は、真空蒸着装置とは別に設けたオゾン処
理槽で、基板の有機物を分解除去するため、真空蒸着装
置とは別にオゾン処理装置が必要となる。さらに折角オ
ゾン処理した基板を再度真空蒸着装置に収納し前記処理
するため、真空排気時に排気系の油回転ポンプから出る
微量の油脂分が再度付着してしまう欠点がある。
〔発明の目的〕
本発明は上記の諸点に鑑み発明したものであって、コー
テング作業が短縮して作業能率が向上し、また装置は簡
単となり、さらに基板に油脂分が再度付着することのな
い真空蒸着装置を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は上記の課題を解決するために次の構成とする。
つまり、真空蒸着装置を、真空ポンプに接続してなる真
空蒸着装置本体と、真空蒸着装置本体の上方内部に収納
してなる基板と、薬品を蒸発する蒸発源と、酸素供給体
と、オゾン発生光源とを有して構成し、装置内部を排気
しつつオゾンで基板を処理し、排気と基板の洗浄を一緒
に行うように構成する。
〔作用〕
上記した構造の真空蒸着装置によると、真空蒸着装置本
体の内部において、装置内部を排気しつつオゾンで基板
を処理し、基板の洗浄と排気を一緒に行うので、作業時
間が短縮して作業能率が向上する。
また真空蒸着装置と別々にオゾン処理装置を設ける必要
がなく、さらに装置内部を排気しつつ同一装置でオゾン
で基板を処理するので、−塵処理したものに再度油脂骨
が再度付着する不合理はなし16 〔実施例〕 以下本発明を第1図及び第2図について説明する。図に
おいて、1は真空蒸着装置本体であって、真空ポンプ(
図示せず)に接続しである。2は真空蒸着装置本体1の
上方内部に収納してなる基板支持体であって、例えば回
転自在に構成しである。
また同基板支持体2に、ガラスやセラミックやプラスチ
ック等で構成してなる多数の基板を支持する。3は真空
蒸着装置本体1の内底部に設けてなるオゾン発生光源で
あって、例えば低圧水銀灯を用いる。
また同オゾン発生光源は第2図に示すように、真空蒸着
装置本体1から突出して構成してもよい。
4は薬品を蒸発する蒸発源であって、例えば電子銃、薬
品としては例えば二酸化珪素(SiC2)あるいはフッ
化マグネシウム(MgF2)を使用する。
5は酸素供給部であって、酸素供給体(図示せず)に接
続し、酸素からオゾンを発生させる。
同真空蒸着装置によると、次の順序で作業をおこなう。
■装置内部をグロー放電が行われる圧力まで排気しつつ
オゾン発生光源を点灯する。
■装置内部が排気された後、グロー放電が開始される1
0−2乃至10−3程度の圧力になるように、酸素供給
体より酸素を供給する。
ここで、オゾン発生光源から184.9nmと253.
7nmの紫外線が生成され、184.9nmはオゾン発
生、253゜7nmはそのオゾンの分解を促し、且つ活
性酸素を発生させ、そのオゾンから分離した活性酸素の
酸化作用で有機物を揮発性物質(例えばH2O、CO2
、C○、NO2等)に分解変化させて除去する。
■さらに装置内部の圧力が蒸発可能な1例えば10−4
程度になり、基板の有機物が分解除去されたときに、電
子銃より薬品を蒸発し、基板に蒸着させる。この膜は必
要に応じて、例えば数十層構成する。
〔発明の効果〕
本発明は上記したように、真空ポンプに接続してなる真
空蒸着装置本体と、真空蒸着装置本体の上方内部に収納
してなる基板と、薬品を蒸発する蒸発源と、酸素供給体
と、オゾン発生光源とを有して構成し、真空装置内部を
排気しつつオゾンで基板を処理し、排気と基板の洗浄を
一緒に行うように構成しであるので、作業を短時間で能
率よく行うことができる。
また真空蒸着装置と別々にオゾン処理装置を設ける必要
がなく装置は簡単となり、しかも装置内部を排気しつつ
オゾンで基板を処理するので、従来の装置のように一度
処理したものに再度油脂分が付着することがない特有な
効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る真空蒸着装置の側面図、第2図は
他の実施例を示す真空蒸着装置の側面図である。 1・・・ 2・・・ 3・・・ 4・・・ 5・・・ 真空蒸着装置本体 基板支持体 オゾン発生光源 蒸発源 酸素供給部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.真空ポンプに接続してなる真空蒸着装置本体と、 真空蒸着装置本体の上方内部に収納してなる基板と、 薬品の蒸発源と、 酸素を真空装置本体内へ供給する酸素供給体と、オゾン
    発生光源とを有し、 装置内部を排気しつつオゾンで基板を処理し、排気と基
    板の洗浄を一緒に行い得るように構成したことを特徴と
    する真空蒸着装置。
JP13707590A 1990-05-29 1990-05-29 真空蒸着装置 Pending JPH0432560A (ja)

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JP13707590A JPH0432560A (ja) 1990-05-29 1990-05-29 真空蒸着装置

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JPH0432560A true JPH0432560A (ja) 1992-02-04

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6106352A (en) * 1998-03-18 2000-08-22 Sanyo Electric Co., Ltd. Method for fabrication of organic electroluminescent device
JP2012026000A (ja) * 2010-07-23 2012-02-09 Utec:Kk 被成膜基材の前処理方法、被成膜基材への薄膜の成膜方法、プラズマcvd装置、蒸着装置、スパッタ装置及びプラスチック基材

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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