JPH0432554A - 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 - Google Patents
電解コンデンサ用電極箔の製造方法Info
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- JPH0432554A JPH0432554A JP13799690A JP13799690A JPH0432554A JP H0432554 A JPH0432554 A JP H0432554A JP 13799690 A JP13799690 A JP 13799690A JP 13799690 A JP13799690 A JP 13799690A JP H0432554 A JPH0432554 A JP H0432554A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は基材表面に蒸着皮膜を形成した電解コンデンサ
用電極箔の製造方法に関するものである。
用電極箔の製造方法に関するものである。
［従来の技術］
アルミニウムなどの弁作用金属の箔をセパレータととも
に巻回してコンデンサ素子とした電解コタデンサは、一
般にコンデンサ素子に駆動用電解液を含浸し、アルミニ
ウムなどの金属ケースや合成樹脂製のケースにコンデン
サ素子を収納し密閉した構造を有する。
に巻回してコンデンサ素子とした電解コタデンサは、一
般にコンデンサ素子に駆動用電解液を含浸し、アルミニ
ウムなどの金属ケースや合成樹脂製のケースにコンデン
サ素子を収納し密閉した構造を有する。
このような電解コンデンサの駆動用電解液としては従来
、エチレングリコールなどの極性有機温媒を主溶媒とし
、これに飽和有機酸のアンモニウム塩のように金属から
なる電極を侵食しない塩を溶解した電解液が一般に使用
されている（特公昭５８−１３０１９号公報）。
、エチレングリコールなどの極性有機温媒を主溶媒とし
、これに飽和有機酸のアンモニウム塩のように金属から
なる電極を侵食しない塩を溶解した電解液が一般に使用
されている（特公昭５８−１３０１９号公報）。
また、電解コンデンサの静電容量を高めるために、電極
材料の基材であるアルミニウム箔の表面積をエツチング
により拡大することが行なわれているが、エツチングが
過度になるとアルミニウム箔表面の溶解が同時に進行し
て却って拡面率の増大を妨げることなどの理由から、エ
ツチング技術による電極材料の静電容量の増大化には限
界があった。このような問題点を解決するために、弁作
用金属であるアルミニウム箔を基材とし該基材表面を粗
面化した後に、この基材表面に蒸着法により蒸着皮膜を
形成した電極材料を陰極として使用することも特開昭６
１−１８０４２０号、特開昭６１−２１４４２０号、特
開昭６２−５８６０９号、特開昭６２−１５８１３号、
特開昭６４−３３９１８号、特開昭６３−１００７１１
号、特開平１−３０４７２０号公報などにより知られて
いる。これら基材表面に物理的、化学的または電気化学
的に微細な凹凸を形成すると、蒸着箔の静電容量を増加
させる効果が認められる場合があるが、このような加工
は基材の強度、伸度を著しく損なうため、実用に供する
ためには少なくとも２０ＬＬｍ以上の基材厚が必要とさ
れ、電解コンデンサ製品の小型化および凹凸加工工程を
必要とするのでコスト面で不利な選択を強いられていた
。
材料の基材であるアルミニウム箔の表面積をエツチング
により拡大することが行なわれているが、エツチングが
過度になるとアルミニウム箔表面の溶解が同時に進行し
て却って拡面率の増大を妨げることなどの理由から、エ
ツチング技術による電極材料の静電容量の増大化には限
界があった。このような問題点を解決するために、弁作
用金属であるアルミニウム箔を基材とし該基材表面を粗
面化した後に、この基材表面に蒸着法により蒸着皮膜を
形成した電極材料を陰極として使用することも特開昭６
１−１８０４２０号、特開昭６１−２１４４２０号、特
開昭６２−５８６０９号、特開昭６２−１５８１３号、
特開昭６４−３３９１８号、特開昭６３−１００７１１
号、特開平１−３０４７２０号公報などにより知られて
いる。これら基材表面に物理的、化学的または電気化学
的に微細な凹凸を形成すると、蒸着箔の静電容量を増加
させる効果が認められる場合があるが、このような加工
は基材の強度、伸度を著しく損なうため、実用に供する
ためには少なくとも２０ＬＬｍ以上の基材厚が必要とさ
れ、電解コンデンサ製品の小型化および凹凸加工工程を
必要とするのでコスト面で不利な選択を強いられていた
。
また、蒸着方法について種々の提案が特開昭５６−２９
６６９号、特開昭６４−３３９１５号、特開昭６４−３
３９１８号公報などにより知られている。
６６９号、特開昭６４−３３９１５号、特開昭６４−３
３９１８号公報などにより知られている。
即ち、蒸着角度を付けたり、基材を冷却しつつ蒸着する
ことによりチタンを柱状に形成させ、静電容量の発現を
達成することが知られている。
ことによりチタンを柱状に形成させ、静電容量の発現を
達成することが知られている。
［発明が解決しようとする課題］
従来、実質的に平滑なアルミニウム箔の基材にチタンを
柱状に蒸着により形成させる場合、アルミニウム基材の
表面にその製造時の油分が残留しているために蒸着膜の
密着性が悪く、蒸着膜が剥離してしまうという問題点が
ある。
柱状に蒸着により形成させる場合、アルミニウム基材の
表面にその製造時の油分が残留しているために蒸着膜の
密着性が悪く、蒸着膜が剥離してしまうという問題点が
ある。
この問題点を解決するために、ロール状のアルミニウム
基材を熱処理（焼鈍処理）することによってアルミニウ
ム基材の表面に付着している油分を除去しているが、油
分の除去が未だ不十分であったり、またはアルミニウム
基材の箔強度が弱くなり、次工程の蒸着時の作業性が低
下するという問題点があった。
基材を熱処理（焼鈍処理）することによってアルミニウ
ム基材の表面に付着している油分を除去しているが、油
分の除去が未だ不十分であったり、またはアルミニウム
基材の箔強度が弱くなり、次工程の蒸着時の作業性が低
下するという問題点があった。
［課題を解決するための手段］
本発明は前記問題点を解決するため、実質上平滑なアル
ミニウム箔基材に、チタン蒸着皮膜を形成させるに際し
て、水酸化ナトリウム水溶液中にアルミニウム基材を浸
漬し、次に水洗し、引続き乾燥し、しかる後にチタン蒸
着皮膜を形成するようにしたものである。かかる方法に
より、実質状平滑性を維持しつつ油分の除去ができる。
ミニウム箔基材に、チタン蒸着皮膜を形成させるに際し
て、水酸化ナトリウム水溶液中にアルミニウム基材を浸
漬し、次に水洗し、引続き乾燥し、しかる後にチタン蒸
着皮膜を形成するようにしたものである。かかる方法に
より、実質状平滑性を維持しつつ油分の除去ができる。
水溶液中のＮａＯＨの濃度としてはＯ１Ｏ○４〜０．５
ｗｔ％が好ましく、特には０．０１〜０．１ｗｔ％が好
ましい。浸漬温度は１０〜６０℃が好ましい。
ｗｔ％が好ましく、特には０．０１〜０．１ｗｔ％が好
ましい。浸漬温度は１０〜６０℃が好ましい。
一方、本発明に用いられるコンデンサ素子の陰極箔とし
ては、５〜４０ｕｍの厚さの実質上平滑なアルミニウム
箔が基材として使用されるが、特に７〜２５μｍのもの
が好適に使用される。アルミニウム基材へのチタンの付
着形成法としては抵抗加熱蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレティング法、ＣＶＤ法などを例示することが
できる。また、真空中または酸素ガス、水素ガス、不活
性ガスなどの雰囲気中で５０〜３（１００人の厚さに付
着形成するのが好ましい。
ては、５〜４０ｕｍの厚さの実質上平滑なアルミニウム
箔が基材として使用されるが、特に７〜２５μｍのもの
が好適に使用される。アルミニウム基材へのチタンの付
着形成法としては抵抗加熱蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレティング法、ＣＶＤ法などを例示することが
できる。また、真空中または酸素ガス、水素ガス、不活
性ガスなどの雰囲気中で５０〜３（１００人の厚さに付
着形成するのが好ましい。
［実施例］
以下に、本発明を実施例および比較例にもとづいて説明
する。
する。
（実施例１）
厚さ１２ｔＬｍ、引張強度２．４Ｋｇ／ｃｍ巾の平滑な
アルミニウム基材を液温２５℃の０．０１ｗｔ％水酸化
ナトリウム水溶液中に２分間浸漬した。次に、水洗し、
さらにアルミニウム基材を乾燥させ、しかる後に蒸着角
度付けて、柱状にチタンの蒸着皮膜を０．１μｍの厚さ
に形成した。
アルミニウム基材を液温２５℃の０．０１ｗｔ％水酸化
ナトリウム水溶液中に２分間浸漬した。次に、水洗し、
さらにアルミニウム基材を乾燥させ、しかる後に蒸着角
度付けて、柱状にチタンの蒸着皮膜を０．１μｍの厚さ
に形成した。
（実施例２）
厚さ２０μｍの平滑なアルミニウム基材を液温３０℃の
Ｏ，１ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液中に１分間浸漬し
た。次に、水洗し、さらにアルミニウム基材を乾燥させ
、しかる後に蒸着角度を付けて柱状にチタンの蒸着皮膜
を０．２ｕｍの厚さに形成した。
Ｏ，１ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液中に１分間浸漬し
た。次に、水洗し、さらにアルミニウム基材を乾燥させ
、しかる後に蒸着角度を付けて柱状にチタンの蒸着皮膜
を０．２ｕｍの厚さに形成した。
（比較例１）
実施例１と同様の厚さ１２μｍ、引張強度２４ Ｋ ｇ
／ ｃ ｍ巾の平滑なアルミニウム基材を３５０℃の
炉内で６時間焼鈍処理した。引張り度を測定したところ
、０．７Ｋｇ／ｃｍに低下した。このアルミニウム基材
は強度不足のために蒸着ができなかった。
／ ｃ ｍ巾の平滑なアルミニウム基材を３５０℃の
炉内で６時間焼鈍処理した。引張り度を測定したところ
、０．７Ｋｇ／ｃｍに低下した。このアルミニウム基材
は強度不足のために蒸着ができなかった。
（比較例２）
実施例１と同様の厚さ１２μｍ、引張強度２゜４ Ｋ
ｇ ／ ｃ ｍ巾の平滑なアルミニウム基材を２００℃
の炉内で４時間焼鈍処理した。このアルミニウム基材に
蒸着角度を付けて柱状にチタンの蒸着皮膜を０．１μｍ
の厚さに形成した。
ｇ ／ ｃ ｍ巾の平滑なアルミニウム基材を２００℃
の炉内で４時間焼鈍処理した。このアルミニウム基材に
蒸着角度を付けて柱状にチタンの蒸着皮膜を０．１μｍ
の厚さに形成した。
次に、実施例１〜２および比較例２のチタン蒸着箔にセ
ロハンテープを張り、これを剥離することによってチタ
ン薄膜の剥離試験を行なったところ、実施例１〜２にお
いてはチタン薄膜の剥離はなかった。これに対して比較
例２においては部分的にチタン薄膜の剥離が認められた
。
ロハンテープを張り、これを剥離することによってチタ
ン薄膜の剥離試験を行なったところ、実施例１〜２にお
いてはチタン薄膜の剥離はなかった。これに対して比較
例２においては部分的にチタン薄膜の剥離が認められた
。
［発明の効果］
上述したように、本発明においては実質上平滑なアルミ
ニウム箔を水酸化ナトリウム水溶液で処理した実質上平
滑なアルミニウム箔にチタン薄膜を付着形成したもので
あるために、箔の強度の低下を招くことなく、かつチタ
ン蒸着膜の接着強度の強い電解コンデンサ用電極箔を提
供することができる。
ニウム箔を水酸化ナトリウム水溶液で処理した実質上平
滑なアルミニウム箔にチタン薄膜を付着形成したもので
あるために、箔の強度の低下を招くことなく、かつチタ
ン蒸着膜の接着強度の強い電解コンデンサ用電極箔を提
供することができる。
Claims (1)
- （１）実質上平滑なアルミニウム箔基材を水酸化ナトリ
ウム水溶液中に浸漬し、水洗し、乾燥させ、しかる後に
アルミニウム箔基材上にチタン薄膜を形成することを特
徴とした電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13799690A JPH0432554A (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13799690A JPH0432554A (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0432554A true JPH0432554A (ja) | 1992-02-04 |
Family
ID=15211629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13799690A Pending JPH0432554A (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0432554A (ja) |
-
1990
- 1990-05-28 JP JP13799690A patent/JPH0432554A/ja active Pending
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