JPH04321672A - 5−シアノ−4−低級アルキル−オキサゾール類の製造方法 - Google Patents
5−シアノ−4−低級アルキル−オキサゾール類の製造方法Info
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- JPH04321672A JPH04321672A JP3352848A JP35284891A JPH04321672A JP H04321672 A JPH04321672 A JP H04321672A JP 3352848 A JP3352848 A JP 3352848A JP 35284891 A JP35284891 A JP 35284891A JP H04321672 A JPH04321672 A JP H04321672A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 23
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 16
- HBKBZJZRIWAICY-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1,3-oxazole-5-carboxamide Chemical group CC=1N=COC=1C(N)=O HBKBZJZRIWAICY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 2
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 abstract 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- JZSLPQXOLZCAME-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1,3-oxazole-5-carbonitrile Chemical compound CC=1N=COC=1C#N JZSLPQXOLZCAME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- LXNHXLLTXMVWPM-UHFFFAOYSA-N pyridoxine Chemical compound CC1=NC=C(CO)C(CO)=C1O LXNHXLLTXMVWPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229940011671 vitamin b6 Drugs 0.000 description 2
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- UUAXDPHPSHEGQQ-UHFFFAOYSA-N 1,3-oxazole-2-carbonitrile Chemical compound N#CC1=NC=CO1 UUAXDPHPSHEGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCHCHJQEWYIJDQ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,3-oxazole Chemical compound CC1=NC=CO1 ZCHCHJQEWYIJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VURSFBXZMBBHJC-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1,3-oxazole-5-carbonitrile Chemical compound CCC=1N=COC=1C#N VURSFBXZMBBHJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229940111121 antirheumatic drug quinolines Drugs 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- XNMORZSEENWFLI-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-methyl-1,3-oxazole-5-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C=1OC=NC=1C XNMORZSEENWFLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 oxazole ester Chemical class 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RADKZDMFGJYCBB-UHFFFAOYSA-N pyridoxal hydrochloride Natural products CC1=NC=C(CO)C(C=O)=C1O RADKZDMFGJYCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008160 pyridoxine Nutrition 0.000 description 1
- 239000011677 pyridoxine Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 239000011726 vitamin B6 Substances 0.000 description 1
- 235000019158 vitamin B6 Nutrition 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D263/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
- C07D263/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings
- C07D263/30—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D263/34—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は5−シアノ−4−低級ア
ルキル−オキサゾール類、特に5−シアノ−4−エチル
−オキサゾール又は5−シアノ−4−メチル−オキサゾ
ールの製造のための方法に関する。これらオキサゾール
類は重要な物質群を構成する。このように、例えば5−
シアノ−4−メチル−オキサゾールはピリドキシン(ビ
タミンB6)の合成における価値ある中間体である。
ルキル−オキサゾール類、特に5−シアノ−4−エチル
−オキサゾール又は5−シアノ−4−メチル−オキサゾ
ールの製造のための方法に関する。これらオキサゾール
類は重要な物質群を構成する。このように、例えば5−
シアノ−4−メチル−オキサゾールはピリドキシン(ビ
タミンB6)の合成における価値ある中間体である。
【0002】
【従来技術】これらオキサゾール類の製造のためのいく
つかの方法が既に記述されている。5−シアノ−4−メ
チル−オキサゾールの合成は例えば五酸化リンの存在下
5−カルバモイル−4−メチル−オキサゾールの脱水に
より実施される。しかしこの方法の不都合な点は、この
反応において非常に容易に生起する炭化(carbon
ization)による、製品収率の低さである。
つかの方法が既に記述されている。5−シアノ−4−メ
チル−オキサゾールの合成は例えば五酸化リンの存在下
5−カルバモイル−4−メチル−オキサゾールの脱水に
より実施される。しかしこの方法の不都合な点は、この
反応において非常に容易に生起する炭化(carbon
ization)による、製品収率の低さである。
【0003】この方法の改善は、5−カルバモイル−4
−メチル−オキサゾールを溶媒としてのキノリンの存在
下に5酸化リンと反応させることからなる(米国特許第
3,222,374号)。この方法もまたキノリンの毒
性、不快な臭い並びに熱的不安定性に主として起因する
不都合な点を有している。その上キノリンは比較的高価
な溶媒である。それらを環境上適切な方法で廃棄すべき
ことの他に、キノリンの劣化、五酸化リンの化学量論的
使用、必要な五酸化リンの副生成物の精製が更なる代表
的問題である。
−メチル−オキサゾールを溶媒としてのキノリンの存在
下に5酸化リンと反応させることからなる(米国特許第
3,222,374号)。この方法もまたキノリンの毒
性、不快な臭い並びに熱的不安定性に主として起因する
不都合な点を有している。その上キノリンは比較的高価
な溶媒である。それらを環境上適切な方法で廃棄すべき
ことの他に、キノリンの劣化、五酸化リンの化学量論的
使用、必要な五酸化リンの副生成物の精製が更なる代表
的問題である。
【0004】5−シアノ−4−メチル−オキサゾールの
製造のための他の公知の方法(米国特許第4,011,
234号)は、5−カルバモイル−4−メチル−オキサ
ゾールを低級アルカンカルボン酸無水物と反応させ、該
反応混合物又はそれから単離された4−メチル−5−(
N−低級アルカノイル−カルバモイル)−オキサゾール
を熱分解することからなる。しかし最後の熱分解工程は
或る不都合を有する;特に反応器材料の腐蝕の発生並び
にリサイクル困難な副生成物の形成である。
製造のための他の公知の方法(米国特許第4,011,
234号)は、5−カルバモイル−4−メチル−オキサ
ゾールを低級アルカンカルボン酸無水物と反応させ、該
反応混合物又はそれから単離された4−メチル−5−(
N−低級アルカノイル−カルバモイル)−オキサゾール
を熱分解することからなる。しかし最後の熱分解工程は
或る不都合を有する;特に反応器材料の腐蝕の発生並び
にリサイクル困難な副生成物の形成である。
【0005】5−エトキシカルボニル−4−メチル−オ
キサゾールの5−シアノ−4−メチル−オキサゾールへ
の1段転換法が米国特許第4,772,718号に報告
されている。この方法においては、気相でアンモニア及
び酸化ジルコニウム又は酸化ハフニウム触媒の存在下、
該オキサゾールエステルがシアノ−オキサゾールに転換
される。しかしながらここでの不都合は、比較的高価な
触媒の使用と、最適反応制御を達成するために非常に精
確な反応条件を維持すること、とである。
キサゾールの5−シアノ−4−メチル−オキサゾールへ
の1段転換法が米国特許第4,772,718号に報告
されている。この方法においては、気相でアンモニア及
び酸化ジルコニウム又は酸化ハフニウム触媒の存在下、
該オキサゾールエステルがシアノ−オキサゾールに転換
される。しかしながらここでの不都合は、比較的高価な
触媒の使用と、最適反応制御を達成するために非常に精
確な反応条件を維持すること、とである。
【0006】更に別の方法(米国特許第4,026,9
02号)は、固体担体上の五酸化リンの存在下加熱しな
がら5−カルバモイル−4−メチル−オキサゾールを5
−シアノ−4−メチル−オキサゾールへ接触的に脱水す
ることからなる。本方法の不都合な点は、5−カルバモ
イル−4−メチル−オキサゾールの取扱い、特に第1に
考慮すべきことである昇華並びに同時に低揮発性出発物
質を固体で投与することである。
02号)は、固体担体上の五酸化リンの存在下加熱しな
がら5−カルバモイル−4−メチル−オキサゾールを5
−シアノ−4−メチル−オキサゾールへ接触的に脱水す
ることからなる。本方法の不都合な点は、5−カルバモ
イル−4−メチル−オキサゾールの取扱い、特に第1に
考慮すべきことである昇華並びに同時に低揮発性出発物
質を固体で投与することである。
【0007】従来技術の不都合な点をもたない、5−シ
アノ−4−低級アルキル−オキサゾール類の製造方法が
ここに見出された。
アノ−4−低級アルキル−オキサゾール類の製造方法が
ここに見出された。
【0008】しかして本発明の目的は、気相で5−カル
バモイル−4−低級アルキル−オキサゾールを接触的に
脱水することにより5−シアノ−4−低級アルキル−オ
キサゾールを製造する方法であり、5−カルバモイル−
4−低級アルキル−オキサゾールを不活性溶媒の存在下
に用い、溶液として蒸発させ、反応器に供給し、そして
二酸化ケイ素系触媒(a catalyst ba
sed on silicon dioxide
)を用いることを特徴とするものである。
バモイル−4−低級アルキル−オキサゾールを接触的に
脱水することにより5−シアノ−4−低級アルキル−オ
キサゾールを製造する方法であり、5−カルバモイル−
4−低級アルキル−オキサゾールを不活性溶媒の存在下
に用い、溶液として蒸発させ、反応器に供給し、そして
二酸化ケイ素系触媒(a catalyst ba
sed on silicon dioxide
)を用いることを特徴とするものである。
【0009】考慮されるべき低級アルキル基としては、
特に最大6個迄の炭素原子を含有し、直鎖状又は分岐鎖
状のアルキル基である。該アルキル基は好ましくは直鎖
状のC1〜3−アルキル、特にメチル又はエチルである
。
特に最大6個迄の炭素原子を含有し、直鎖状又は分岐鎖
状のアルキル基である。該アルキル基は好ましくは直鎖
状のC1〜3−アルキル、特にメチル又はエチルである
。
【0010】成形された二酸化ケイ素(球、タブレット
、圧縮成形体、等)を触媒として用いることができる。 該二酸化ケイ素は触媒活性と選択性とを増大させるため
に、V、Mo、Fe、Co及び/又はZnの酸化物で被
覆することができる。該被覆は既知の方法例えば、蒸留
水に所望の金属の水溶性塩を溶解し、該二酸化ケイ素に
この溶液を含浸させ、このように含浸された二酸化ケイ
素を乾燥し、それを十分高い温度(例えば約500℃)
で焼成することにより実施することができる。
、圧縮成形体、等)を触媒として用いることができる。 該二酸化ケイ素は触媒活性と選択性とを増大させるため
に、V、Mo、Fe、Co及び/又はZnの酸化物で被
覆することができる。該被覆は既知の方法例えば、蒸留
水に所望の金属の水溶性塩を溶解し、該二酸化ケイ素に
この溶液を含浸させ、このように含浸された二酸化ケイ
素を乾燥し、それを十分高い温度(例えば約500℃)
で焼成することにより実施することができる。
【0011】本発明において用いられる触媒は商業的に
入手可能であるか、それ自体既知の方法で製造すること
ができる。
入手可能であるか、それ自体既知の方法で製造すること
ができる。
【0012】被覆(ドープ)されていない二酸化ケイ素
触媒又はV、Mo、Fe、Co及び/又はZnの酸化物
でドープされた二酸化ケイ素触媒の比表面積は、好便に
は約20〜300m2/gとなる。ドープされた触媒は
好便にはドープされた触媒の総重量を基準にして約1〜
20重量%の量のV、Mo、Fe、Co及び/又はZn
の酸化物を含有する。
触媒又はV、Mo、Fe、Co及び/又はZnの酸化物
でドープされた二酸化ケイ素触媒の比表面積は、好便に
は約20〜300m2/gとなる。ドープされた触媒は
好便にはドープされた触媒の総重量を基準にして約1〜
20重量%の量のV、Mo、Fe、Co及び/又はZn
の酸化物を含有する。
【0013】不活性ガス、例えば水素で稀釈されていて
もよい窒素、による稀釈も発生しうるコークスの沈積を
減少させるために可能であるが、反応の達成のために本
質的なものではない。該反応は約50から約300KP
aの圧力で好ましくは実施される。
もよい窒素、による稀釈も発生しうるコークスの沈積を
減少させるために可能であるが、反応の達成のために本
質的なものではない。該反応は約50から約300KP
aの圧力で好ましくは実施される。
【0014】接触時間は約0.1秒から約10秒の範囲
内であるべきであり、特に好ましくは約0.3秒から約
3秒の範囲である。5−カルバモイル−4−低級アルキ
ル−オキサゾールの流量は好便には、触媒1l及び1時
間当り約0.1〜1.0kgである。
内であるべきであり、特に好ましくは約0.3秒から約
3秒の範囲である。5−カルバモイル−4−低級アルキ
ル−オキサゾールの流量は好便には、触媒1l及び1時
間当り約0.1〜1.0kgである。
【0015】更に該反応は約350℃〜約500℃の温
度範囲内、好ましくは約400℃〜約450℃の間の温
度で好便に実施される。
度範囲内、好ましくは約400℃〜約450℃の間の温
度で好便に実施される。
【0016】本発明によれば、5−カルバモイル−4−
低級アルキル−オキサゾールは不活性溶媒、好ましくは
N−低級アルキルピロリドンの溶液、好ましくはほとん
ど飽和の溶液、又は懸濁液の形態で加熱反応器中又は蒸
発系中に導入され、それにより最終的に沸点で未溶解の
5−カルバモイル−4−低級アルキル−オキサゾールは
溶媒に溶解し、そして溶媒と一緒に加熱された反応器領
域に導入される。随意不活性ガスで稀釈されていてもよ
い、気体状の物質/溶媒混合物は、触媒が充填された加
熱反応器領域に導びかれる。気体状の生成物は凝縮され
、通常の方法で分離される。5−シアノ−4−低級アル
キル−オキサゾールの収率は通常約90〜95%に達す
る。
低級アルキル−オキサゾールは不活性溶媒、好ましくは
N−低級アルキルピロリドンの溶液、好ましくはほとん
ど飽和の溶液、又は懸濁液の形態で加熱反応器中又は蒸
発系中に導入され、それにより最終的に沸点で未溶解の
5−カルバモイル−4−低級アルキル−オキサゾールは
溶媒に溶解し、そして溶媒と一緒に加熱された反応器領
域に導入される。随意不活性ガスで稀釈されていてもよ
い、気体状の物質/溶媒混合物は、触媒が充填された加
熱反応器領域に導びかれる。気体状の生成物は凝縮され
、通常の方法で分離される。5−シアノ−4−低級アル
キル−オキサゾールの収率は通常約90〜95%に達す
る。
【0017】用いられる溶媒は好ましくは、─ 5−
カルバモイル−4−低級アルキル−オキサゾールが最終
的に沸点でその中で溶解するように選定される、 ─ 反応条件下熱的に安定且つ不活性である、─
5−カルバモイル−4−低級アルキル−オキサゾールの
融点より高い沸点をもつ、 ─ 5−シアノ−4−低級アルキル−オキサゾールか
ら容易に分離できる、 ─ 触媒の不活性化を生起させないように選定される
、べきである。
カルバモイル−4−低級アルキル−オキサゾールが最終
的に沸点でその中で溶解するように選定される、 ─ 反応条件下熱的に安定且つ不活性である、─
5−カルバモイル−4−低級アルキル−オキサゾールの
融点より高い沸点をもつ、 ─ 5−シアノ−4−低級アルキル−オキサゾールか
ら容易に分離できる、 ─ 触媒の不活性化を生起させないように選定される
、べきである。
【0018】N−低級アルキル−ピロリドン類が特に好
適な不活性溶媒である。水で稀釈されていてもよい、N
−メチルピロリドン又はN−エチルピロリドンが好まし
く用いられる。
適な不活性溶媒である。水で稀釈されていてもよい、N
−メチルピロリドン又はN−エチルピロリドンが好まし
く用いられる。
【0019】本発明の方法は連続的に、特に例えば触媒
を充填した1又は数個の塔からなる固体床反応器中で好
便に実施される。塔の径と長さは臨界的ではない。
を充填した1又は数個の塔からなる固体床反応器中で好
便に実施される。塔の径と長さは臨界的ではない。
【0020】従来既知の5−シアノ−4−低級アルキル
−オキサゾール類の製造方法に比べて本法が特に優れて
いる点は、 ─ 5−カルバモイル−4−低級アルキル−オキサゾ
ールが溶液で加熱反応器に導入できること、─ 未反
応の5−カルバモイル−4−低級アルキル−オキサゾー
ルが凝縮の間に結晶化せず、溶液中に残る、─ 触媒
の再生に必要な温度が反応温度に略等しい、ことである
。
−オキサゾール類の製造方法に比べて本法が特に優れて
いる点は、 ─ 5−カルバモイル−4−低級アルキル−オキサゾ
ールが溶液で加熱反応器に導入できること、─ 未反
応の5−カルバモイル−4−低級アルキル−オキサゾー
ルが凝縮の間に結晶化せず、溶液中に残る、─ 触媒
の再生に必要な温度が反応温度に略等しい、ことである
。
【0021】
【実施例】以下実施例により本発明を更に説明する。
【0022】実施例1
反応器は電気的に加熱された筒状オーブンで周囲をかこ
まれ、冷却器(コンデンサー)に接続した、垂直に配置
したガラス管(長さ45cm、直径2.3cm)からな
る。ガラス管の上部は、セラミック球60mlで充填さ
れ、中間部は触媒30mlで充填され、そして底部はセ
ラミック球30mlで充填されている。種々の商業的に
入手しうる二酸化ケイ素触媒が触媒として用いられる(
表1)。反応領域は425〜450℃に加熱され、1時
間当りN−メチルピロリドン中の10%5−カルバモイ
ル−4−メチル−オキサゾール溶液30mlを2lの窒
素ガスと一緒に上部から反応器に導く。反応生成物を冷
却器(コンデンサー)で凝縮し、ガスクロマトグラフィ
ーで分析する。結果は表1に集約する。
まれ、冷却器(コンデンサー)に接続した、垂直に配置
したガラス管(長さ45cm、直径2.3cm)からな
る。ガラス管の上部は、セラミック球60mlで充填さ
れ、中間部は触媒30mlで充填され、そして底部はセ
ラミック球30mlで充填されている。種々の商業的に
入手しうる二酸化ケイ素触媒が触媒として用いられる(
表1)。反応領域は425〜450℃に加熱され、1時
間当りN−メチルピロリドン中の10%5−カルバモイ
ル−4−メチル−オキサゾール溶液30mlを2lの窒
素ガスと一緒に上部から反応器に導く。反応生成物を冷
却器(コンデンサー)で凝縮し、ガスクロマトグラフィ
ーで分析する。結果は表1に集約する。
【0023】
【表1】
実施例2
それぞれ触媒として金属酸化物で被覆した二酸化ケイ素
を用いる。二酸化ケイ素の被覆は公知の方法で実施する
:100gの二酸化ケイ素(バスフD11−11)を、
100mlの蒸留水中に溶解した所望の金属の分解可能
な水溶性塩の溶液で含浸する(表2参照)。被覆された
二酸化ケイ素を80℃の温度、2.6KPaの圧力でロ
ータリーエバポレーターで乾燥する。ひきつづき触媒を
空気中500℃で3時間(加熱速度:1℃/分)焼成す
る。表2に列挙された触媒は5%の金属酸化物の被覆を
有している。
を用いる。二酸化ケイ素の被覆は公知の方法で実施する
:100gの二酸化ケイ素(バスフD11−11)を、
100mlの蒸留水中に溶解した所望の金属の分解可能
な水溶性塩の溶液で含浸する(表2参照)。被覆された
二酸化ケイ素を80℃の温度、2.6KPaの圧力でロ
ータリーエバポレーターで乾燥する。ひきつづき触媒を
空気中500℃で3時間(加熱速度:1℃/分)焼成す
る。表2に列挙された触媒は5%の金属酸化物の被覆を
有している。
【0024】金属酸化物で被覆した二酸化ケイ素触媒を
実施例1で述べた反応器中に純二酸化ケイ素の代りに充
填する。反応領域を約375〜425℃に加熱し、そし
て毎時、N−メチル−ピロリドン中の5−カルバモイル
−4−メチル−オキサゾールの10%溶液30mlを2
lの窒素ガスと一緒に上部から反応器に導入する。
実施例1で述べた反応器中に純二酸化ケイ素の代りに充
填する。反応領域を約375〜425℃に加熱し、そし
て毎時、N−メチル−ピロリドン中の5−カルバモイル
−4−メチル−オキサゾールの10%溶液30mlを2
lの窒素ガスと一緒に上部から反応器に導入する。
【0025】得られた結果を表2に集約する。
【0026】
【表2】
実施例3
反応器は、直列に連結された外部加熱可能な2箇の垂直
に配置したスチール管(長さ70cm、直径2.7cm
)からなる。上部のスチール管はセラミック球で完全に
充填され、その下に位置した管は上端及び下端部を15
0mlのセラミック球で充填する。115mlの二酸化
ケイ素触媒(シエルS980G)を下部スチール管中セ
ラミック球の層の間に充填する。上部スチール管の温度
は200℃に調整し、下部スチール管の温度は460℃
にする。5−カルバモイル−4−メチル−オキサゾール
のN−メチル−ピロリドン中10%溶液330gを毎時
上部管の頂上から添加する。100lの窒素ガスを上部
管の底から毎時添加する。全体で2511gのN−メチ
ル−ピロリドン中の279gの5−カルバモイル−4−
メチル−オキサゾールを8.5時間かけて投入する。 1828gの純N−メチル−ピロリドンが反応器頭部か
ら除去される。反応生成物はN−メチル−ピロリドン溶
液として反応器の下端から取り出される。転化率は>9
9%になる。反応生成物の蒸留精製において592gの
N−メチル−ピロリドンが得られ、全体でN−メチル−
ピロリドン2420g(96.4%)である。得られる
5−シアノ−4−メチル−オキサゾールの量は222g
(93%)になる。
に配置したスチール管(長さ70cm、直径2.7cm
)からなる。上部のスチール管はセラミック球で完全に
充填され、その下に位置した管は上端及び下端部を15
0mlのセラミック球で充填する。115mlの二酸化
ケイ素触媒(シエルS980G)を下部スチール管中セ
ラミック球の層の間に充填する。上部スチール管の温度
は200℃に調整し、下部スチール管の温度は460℃
にする。5−カルバモイル−4−メチル−オキサゾール
のN−メチル−ピロリドン中10%溶液330gを毎時
上部管の頂上から添加する。100lの窒素ガスを上部
管の底から毎時添加する。全体で2511gのN−メチ
ル−ピロリドン中の279gの5−カルバモイル−4−
メチル−オキサゾールを8.5時間かけて投入する。 1828gの純N−メチル−ピロリドンが反応器頭部か
ら除去される。反応生成物はN−メチル−ピロリドン溶
液として反応器の下端から取り出される。転化率は>9
9%になる。反応生成物の蒸留精製において592gの
N−メチル−ピロリドンが得られ、全体でN−メチル−
ピロリドン2420g(96.4%)である。得られる
5−シアノ−4−メチル−オキサゾールの量は222g
(93%)になる。
【0027】実施例4
不純な5−カルバモイル−4−メチル−オキサゾール(
不純物:水、アンモニア、エタノール;全量10%)を
純5−カルバモイル−4−メチル−オキサゾールの代り
に用いる。
不純物:水、アンモニア、エタノール;全量10%)を
純5−カルバモイル−4−メチル−オキサゾールの代り
に用いる。
【0028】実施例3と同じ反応条件、同じ量の物質と
溶媒を用いる。低沸点不純物は反応器の頭頂から除去さ
れる。実施例3と同様にして反応生成物の精製を実施す
る。5−シアノ−4−メチル−オキサゾールの収率は9
3%になる。
溶媒を用いる。低沸点不純物は反応器の頭頂から除去さ
れる。実施例3と同様にして反応生成物の精製を実施す
る。5−シアノ−4−メチル−オキサゾールの収率は9
3%になる。
Claims (17)
- 【請求項1】 5−カルバモイル−4−低級アルキル
−オキサゾールを不活性溶媒の存在下において用い、溶
液として蒸発させ、反応器に供給し、そして二酸化ケイ
素系触媒を用いることを特徴とする、気相で5−カルバ
モイル−4−低級アルキル−オキサゾールを接触脱水す
ることによる5−シアノ−4−低級アルキル−オキサゾ
ール類の製造方法。 - 【請求項2】 該5−カルバモイル−4−低級アルキ
ル−オキサゾールとして、5−カルバモイル−4−メチ
ル−オキサゾール又は5−カルバモイル−4−エチル−
オキサゾールを用いる請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 該不活性溶媒としてN−低級アルキル
−ピロリドンを用いる請求項1又は2記載の方法。 - 【請求項4】 該N−低級アルキル−ピロリドンとし
てN−メチル−ピロリドン又はN−エチル−ピロリドン
を用いる請求項3記載の方法。 - 【請求項5】 水で稀釈されたN−メチル−ピロリド
ン又は水で稀釈されたN−エチル−ピロリドンを用いる
請求項4記載の方法。 - 【請求項6】 該触媒として成形された二酸化ケイ素
を用いる請求項1〜5のいずれかに記載の方法。 - 【請求項7】 該触媒としてV、Mo、Fe、Co及
び/又はZnの酸化物でドープされた二酸化ケイ素を用
いる請求項1〜5のいずれかに記載の方法。 - 【請求項8】 V、Mo、Fe、Co及び/又はZn
の酸化物での二酸化ケイ素のドーピングが、ドープされ
た触媒の総重量基準で約1〜20重量%の量である請求
項7記載の方法。 - 【請求項9】 該触媒が約20m2/g〜約300m
2/gの比表面積を有する請求項1〜8のいずれかに記
載の方法。 - 【請求項10】 該反応を約350℃〜約500℃の
温度範囲で実施する請求項1〜9のいずれかに記載の方
法。 - 【請求項11】 該反応を約400℃〜約450℃の
温度範囲で実施する請求項10記載の方法。 - 【請求項12】 該5−カルバモイル−4−低級アル
キル−オキサゾールをN−低級アルキル−ピロリドンの
溶液又は懸濁液の形態で、加熱された反応器中又は蒸発
系中に導入し、そして溶媒と一緒に触媒が充填された加
熱反応器ゾーンに導入する請求項1〜11のいずれかに
記載の方法。 - 【請求項13】 触媒1l及び1時間当り、約0.1
〜1.0kgの5−カルバモイル−4−低級アルキル−
オキサゾールを用いる請求項1〜12のいずれかに記載
の方法。 - 【請求項14】 約50KPa〜約300KPaの圧
力下で反応を実施する請求項1〜13のいずれかに記載
の方法。 - 【請求項15】 接触時間が約0.1秒〜約10秒で
ある請求項1〜14のいずれかに記載の方法。 - 【請求項16】 接触時間が約0.3秒〜約3秒であ
る請求項15記載の方法。 - 【請求項17】 請求項1〜16のいずれかの方法で
製造された5−シアノ−4−低級アルキル−オキサゾー
ル。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH407590 | 1990-12-21 | ||
CH04075/90-3 | 1990-12-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04321672A true JPH04321672A (ja) | 1992-11-11 |
JP3132872B2 JP3132872B2 (ja) | 2001-02-05 |
Family
ID=4269355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03352848A Expired - Fee Related JP3132872B2 (ja) | 1990-12-21 | 1991-12-17 | 5−シアノ−4−低級アルキル−オキサゾール類の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5214162A (ja) |
EP (1) | EP0492233B1 (ja) |
JP (1) | JP3132872B2 (ja) |
AT (1) | ATE141596T1 (ja) |
DE (1) | DE59108101D1 (ja) |
DK (1) | DK0492233T3 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020022416A1 (ja) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳香族ニトリル化合物の製造方法、及び炭酸エステルの製造方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2131598T3 (es) * | 1993-02-25 | 1999-08-01 | Hoffmann La Roche | Procedimiento para la obtencion de derivados del oxazol. |
US5910594A (en) * | 1997-02-13 | 1999-06-08 | Roche Vitamins Inc. | Process for the manufacture of 5-cyano-4-lower alkyl-oxazoles |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2901504A (en) * | 1956-09-06 | 1959-08-25 | Robert S Aries | Nitriles from aromatic acids and derivatives |
CH449623A (de) * | 1963-05-22 | 1968-01-15 | Hoffmann La Roche | Verfahren zur Herstellung von 4-Alkyl-5-cyan-oxazolen |
US4026901A (en) * | 1975-04-30 | 1977-05-31 | Hoffmann-La Roche Inc. | Conversion of 4-lower alkyloxazole-5-carboxamide to 4-lower alkyl-5-cyanooxazoles |
CH616415A5 (ja) * | 1975-07-11 | 1980-03-31 | Hoffmann La Roche | |
US4093654A (en) * | 1977-03-31 | 1978-06-06 | Hoffmann-La Roche Inc. | Production of pyridoxine intermediates from diketene |
CA1122220A (en) * | 1978-11-02 | 1982-04-20 | Hans Hoffmann-Paquotte | Process for the manufacture of an oxazole |
EP0224706A1 (de) * | 1985-11-01 | 1987-06-10 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Verfahren zur Herstellung eines Oxazols |
-
1991
- 1991-12-05 US US07/803,004 patent/US5214162A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-09 EP EP91121035A patent/EP0492233B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-09 DK DK91121035.9T patent/DK0492233T3/da active
- 1991-12-09 DE DE59108101T patent/DE59108101D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-12-09 AT AT91121035T patent/ATE141596T1/de not_active IP Right Cessation
- 1991-12-17 JP JP03352848A patent/JP3132872B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020022416A1 (ja) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳香族ニトリル化合物の製造方法、及び炭酸エステルの製造方法 |
JPWO2020022416A1 (ja) * | 2018-07-27 | 2021-08-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳香族ニトリル化合物の製造方法、及び炭酸エステルの製造方法 |
US11673856B2 (en) | 2018-07-27 | 2023-06-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing aromatic nitrile compound and method for producing carbonate ester |
TWI828726B (zh) * | 2018-07-27 | 2024-01-11 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | 芳香族腈化合物的製造方法,及碳酸酯的製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE59108101D1 (de) | 1996-09-26 |
US5214162A (en) | 1993-05-25 |
ATE141596T1 (de) | 1996-09-15 |
JP3132872B2 (ja) | 2001-02-05 |
EP0492233A1 (de) | 1992-07-01 |
DK0492233T3 (da) | 1996-09-09 |
EP0492233B1 (de) | 1996-08-21 |
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