JPH04321670A - ピリミジニル−およびトリアジニル−サリチルアミドならびにこれらの使用方法および製造方法 - Google Patents
ピリミジニル−およびトリアジニル−サリチルアミドならびにこれらの使用方法および製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は除草作用および植物−成
長−調節作用を持つ、新規なピリミジニル−およびトリ
アジニル−サリチルアミド、それらの製造方法、有効物
質としてそれらを含有する組成物、ならびに作物におけ
る特に選択的な雑草防除のため、あるいは植物成長の調
節ならびに抑制のためにそれらを使用する方法に関する
。 【0002】 【課題を解決するための手段】式(I)で表される化合
物は除草および植物成長調節作用を持つことが明らかに
なった。それらはそれゆえ除草剤および作物植物の成育
に明らかに影響を及ぼす組成物の有効物質として適当で
ある。 【0003】次式I: 【化21】 {式中、Bは窒素原子、メチン基、またはフッ素原子、
塩素原子、メチル基、メトキシ基、2−プロペニルオキ
シ基、2−プロピニルオキシ基、ジフルオロメトキシ基
、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、フェ
ニル基またはベンジルオキシ基で置換されたメチン基を
表し;Yは酸素原子または硫黄原子を表し;Zはメチン
基または窒素原子を表し;R1 は塩素原子、メチル基
、メトキシ基、エトキシ基、ジフルオロメトキシ基、メ
チルアミノ基、エチルアミノ基またはジメチルアミノ基
を表し;R2 はメチル基、メトキシ基またはジルフル
オロメトキシ基を表し;R3 は水素原子、フッ素原子
、塩素原子、メチル基またはメトキシ基を表し;R4
は以下の(a)、(b)または(c): 【化22】 で表される基の一つを表し;R5 は水素原子、メチル
基またはR7 と一緒になって基:−( CH2
)p −、−CH2 SCH2 −または−CH2 C
HOHCH2 −を表し;R6 はヒドロキシメチル基
、ホルミル基、シアノ基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシイミノ基、ヒドロキシイミノ基、ホスホノ基、ホ
スフィノ基、メチルホスフィノ基または基:−COXを
表し;R7 は水素原子、非置換またはヒドロキシル基
、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、メルカプト基
、アシルメルカプト基、炭素原子数1ないし4のアルキ
ルチオ基、ビニル基、フェニル基、4−ヒドロキシフェ
ニル基、4−イミダゾリル基、3−インドリル基、ヒド
ロキシカルボニル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シカルボニル基、2−プロペニルオキシカルボニル基、
シアノ基、カルバモイル基で置換された炭素原子数1な
いし4のアルキル基、トリフルオロメチル基、エチニル
基、非置換のまたは塩素原子もしくはメトキシ基で置換
されたビニル基、あるいは非置換のまたはフッ素原子、
塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基もしくはメ
トキシ基で置換されたフェニル基、あるいはシアノ基ま
たは炭素原子数1ないし4のアルコキシカルボニル基を
表し;R8 は水素原子またはメチル基を表し;Aは酸
素原子、硫黄原子または基:−NH−を表し;mは1,
2または3を表し;nは0,1,2または3を表し;p
は2または3を表し;Xはヒドロキシル基、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数3ないし4のア
ルケニルオキシ基、メルカプト基、炭素原子数1ないし
4のアルキルチオ基、アミノ基、炭素原子数1ないし4
のアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし4のジアルキ
ルアミノ基、または炭素原子数1ないし2のアルコキシ
基、炭素原子数3ないし4のアルケニルオキシ基、メル
カプト基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基、ア
ミノ基、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基、炭
素原子数1ないし4のジアルキルアミノ基、またはフェ
ニル基、ベンジルオキシ基もしくは炭素原子数1ないし
2のアルコキシ基で置換されているアルコキシアミノ基
、あるいはさらに以下の(d)、(e)または(f):
【化23】 で表される基の一つを表し;R9 は水素原子、炭素原
子数1ないし4のアルキル基またはベンジル基を表し;
R10はヒドロキシメチル基、シアノ基または基:CO
Q’(式中、Q’はヒドロキシル基、炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基、2−プロペニルオキシ基、ベンジ
ルオキシ基またはアミノ基または基(d)を表す。);
Qはヒドロキシル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基、2−プロペニルオキシ基、ベンジルオキシ基、ア
ミノ基または基(d)を表す。}で表される本発明によ
るピリミジニル−もしくはトリアジニル−サリチルアミ
ド;および遊離ヒドロキシカルボニル基をもつ式Iのこ
れらの化合物の塩である。 【0004】式Iにおけるアルキル基およびアルケニル
基は直鎖または枝分かれ鎖をとることが可能である。こ
れは、アルキル基部分そのもの、あるいはアルコキシ基
、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基および他の
アルキル基含有群のアルキル部分のおのおのについても
同様である。 【0005】式Iで表される化合物が不斉炭素を含有す
る場合、実際、化合物に光学異性体が起こり得る。脂肪
族C=C二重結合を持つならば幾何学異性が起こり得る
。式Iで表される化合物はまた可能な全ての立体異性体
または鏡像異性体、ジアステレオ異性体またはそれらの
混合物の形態をとる全ての立体異性体をも包含する。 式Iで表されれる化合物の幾つかは互変異性体(例えば
ケト−エノールまたはイミン−エナミン互変異性のよう
な)が起こり得る。式Iはそれゆえすべての互変異性体
を含有する。 【0006】式Iで表される好ましい化合物は以下に示
すものである。 a)Bはメチン基、好ましくはフッ素原子もしくは塩素
原子で置換されたメチン基または酸素原子を表し;b)
Yは酸素原子を表し; c)Zはメチン基を表し; d)R1 およびR2 はメトキシ基を表し;e)R3
は水素原子を表し; f)R4 は基(a)を表し; g)R5 は水素原子を表し; h)R6 はシアノ基または基:COXを表し;i)R
7 は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
2−プロペニル基またはR5 と一緒になって−CH2
CH2 CH2 −または−CH2 SCH2 −を
表し;j)R8 は水素原子を表し;および k)R4 はS−キラリティーである次式IA:【化2
4】 で表されるキラル基を表す。 【0007】サブグループh)からの好ましい化合物は
、Xが炭素原子数1ないし4のアルコキシ基またはアミ
ノ基であるこれら化合物である。 【0008】他の好ましいサブグループはR4 が基(
c)を表し、Aは酸素原子または硫黄原子を表し、なら
びにmは1を表す式Iで表されるこれらの化合物により
;R4 が非常にとりわけ好ましいS−キラリティーで
ある次式IF: 【化25】 で表される基である化合物により構成される。 【0009】そのよい生物活性により優れている式Iで
表される化合物の群は:R1 がメトキシ基、エトキシ
基またはジフルオロメトキシ基を表し;R2 はメトキ
シ基を表し;R3 は水素原子を表し;Bが窒素原子、
メチン基または塩素原子もしくはフッ素原子で置換され
たメチン基を表し;Yは酸素原子または硫黄原子を表し
;Zはメチン基または窒素原子を表し;および式中、N
R4 R5 は以下の表1: 表1: 【化26】 表1:(続き) 【化27】 表1:(続き) 【化28】 表1:(続き) 【化29】 表1:(続き) 【化30】 表1:(続き) 【化31】 に提供されている意味の一つを表す。 【0010】式Iの範囲で好ましい個々の明記すべき化
合物を以下に示す: メチル N−(o)−((4,6−ジメトキシ−2−
ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)グリシネート(実
施例1および2);エチル N−(o−((4,6−
ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)
−L−アラニネート(実施例20);rac−o−((
4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)−N
−(ジヒドロ−2−オキソ−3(2H)−チエニル)ベ
ンズアミド(実施例5);メチル N−(o−((4
,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾ
イル)−L−アラニネート(実施例21);メチル
N−(o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル
)オキシ)ベンゾイル)−L−バリネート(実施例22
);メチル N−(o−((4,6−ジメトキシ−2
−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−L−ロイシネ
ート(実施例23);rac−N−(1−カルバモイル
−1,2−ジメチルプロピル)−o−((4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジニル)チオ)−ベンズアミド(実
施例7);第三ブチル 1−(o−((4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−L
−プロリネート(実施例26);メチル N−((3
−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ
)−2−ピリジル)カルボニル)−L−アラニネート(
実施例27);メチル N−((3−((4,6−ジ
メトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)−2−ピリジル
)カルボニル)グリシネート(実施例9);o−((4
,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)−N−
(<S>−1−(ヒドロキシメチル)−2−メチルプロ
ピル)−ベンズアミド(実施例11);およびN−(1
−シアノ−1−メチルエチル)−o−((4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンズアミド(実
施例13) 【0011】式Iで表される新規化合物は次式II:【
化32】 (式中、Aは離脱基を表し、好ましくは塩素原子、また
はイミダゾリル基を表す。)で表される化合物と;また
は次式II’: 【化33】 で表される酸無水物と次式III : 【化34】 で表されるアミンを反応させることにより製造できる。 【0012】この反応は塩基存在下で都合よく行われる
。適当な塩基はトリエチルアミン、N,N−ジメチルア
ニリンまたは2,5−ジメチルピリジンのような第三ア
ミンである。 【0013】この反応は溶媒存在下で行われるのが好ま
しい。適当な溶媒は以下のものである:−炭化水素例え
ばトルエン; −ハロゲン化炭化水素例えばジクロロメタン、1,2−
ジクロロエタンまたはクロロベンゼン;−エーテル例え
ばジエチルエーテル、ジメトキシエタンまたは第三ブチ
ルメチルエーテル; −非プロトン性溶媒例えばアセトニトリル;−プロトン
性溶媒例えばアルコール、特にエタノール、または水;
または −2相系例えばジクロロメタンと水、トルエンと水、ま
たはジエチルエーテルと水。 【0014】別の方法では式Iで表される新規の化合物
は次式V: 【化35】 (Lは離脱基、特にハロゲン原子または置換されたまた
は非置換のアルキルスルホニル基、ベンジルスルホニル
基、フェニルスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ
基、ベンジルスルホニルオキシ基、フェニルスルホニル
オキシ基、または例えば3−メチルスルホニル−1H−
1,2,4−トリアゾール−1−イル基のような3−ア
ルキルスルホニル−1H−1,2,4−トリアゾール−
1−イル基を表し;および好ましくは塩素原子、メタン
スルホニル基、エタンスルホニル基またはベンジルスル
ホニル基を表す。)で表される化合物と次式VII:【
化36】 で表されるサリチルアミド誘導体との反応により製造で
きる。 【0015】この反応は不活性希釈剤の存在下で都合よ
く行われ、特に、有機の、より有利には非プロトン性の
溶媒および好ましくは以下に示すものである:−脂肪族
のまたは環式エーテル、例えばジメトキシエタンまたは
テトラヒドロフラン; −脂肪族ケトン、例えばアセトンまたは2−ブタノン;
−脂肪族ニトリル、例えばアセトニトリルまたはプロピ
オニトリル; −ジメチルホルムアミド; −N−メチルピロリドン;あるいは −複素環式化合物、例えばピリジンまたはルチジン;塩
基ではとりわけ −アルカリ金属水素化物、例えば水素化ナトリウムまた
は水素化カリウム; −アルカリ土金属水素化物、例えば水素化カルシウム;
−アルカリ金属炭酸水素塩、例えば炭酸水素ナトリウム
、または炭酸水素カリウム; −アルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸ナトリウムまたは炭
酸カリウム; −アルカリ土金属炭酸塩、例えば炭酸カルシウムまたは
炭酸マグネシウム; −脂肪族第三アミン、例えばトリエチルアミン;−完全
に置換されたアミジン、例えばジアザビシクロウンデセ
ン;また −塩基性複素環式化合物および例えばピリジン;反応促
進剤として、特に −クラウンエーテル; −相間移動触媒; −一次的に離脱基Lで置換された化合物、好ましくはジ
メチルアミノピリジン;あるいは −結果的にLがハロゲン原子で、離脱基を活性化する化
合物、特に銀または銅の塩、例えば硝酸銀または塩化銅
(I)。 【0016】反応は0℃ないし160℃の、特に20℃
ないし100℃の、好ましくは20℃ないし反応混合物
の沸点の温度範囲で行われる。 【0017】Aが塩素原子を表す式IIで表される化合
物は、例えば次式IV: 【化37】 で表される酸および塩化ホスホリル、チオニルクロライ
ド、オキザリルクロライドまたはホスゲン、好ましくは
塩化ホスホリルのような塩素化剤を、例えばトリエチル
アミン、ジメチルアニリンまたはピリジンのような助剤
塩基の存在下で、および所望ならば、トルエンのような
炭化水素、メチレンクロライドのようなクロロ炭化水素
、テトラヒドロフランのようなエーテルに代表される溶
媒の存在下で、−20℃ないし還流混合物の還流温度、
好ましくは−5℃ないし室温で、反応させることにより
製造できる。 【0018】しかし、式IIの中間体、すなわちこの場
合では酸塩化物を分離する必要はない。後者は、所望な
らば追加のトリエチルアミンのような塩基下で、直接的
に”その場で”式III のアミンと都合よく反応させ
る。 本反応は同様に約−20℃ないし使用する溶媒の還流温
度の温度範囲、好ましくは−5℃ないし室温で行われる
。 【0019】他の方法では、式II’で表される酸無水
物で開始するのが有利である。これら酸無水物は新規の
化合物であり、およびそれゆえ本発明に従った類似の形
態をとる。新規のピリミジニルおよびトリアジニルサリ
チル酸無水物は次式II’ : 【化38】 (式中、Bは窒素原子、メチン基、またはフッ素原子、
塩素原子、メチル基、メトキシ基、2−プロペニルオキ
シ基、2−プロピニルオキシ基、ジフルオロメトキシ基
もしくはベンジルオキシ基で置換されたメチン基を表し
、Yは酸素原子または硫黄原子;Zはメチン基または窒
素原子を表し、R1 は塩素原子、メチル基、メトキシ
基、エトキシ基、ジフルオロメトキシ基、メチルアミノ
基、エチルアミノ基またはジメチルアミノ基を表し、R
2 はメチル基、メトキシ基またはジフルオロメトキシ
基を表し、およびR3 は水素原子、フッ素原子、塩素
原子、メチル基、メトキシ基を表す。)で表されるこれ
らの化合物である。 【0020】好ましい式II’ で表される化合物は:
a)Bはメチン基、または窒素原子を表し;b)Yは酸
素原子を表し; c)Zはメチン基を表し; d)R1 およびR2 はメトキシ基を表し;およびe
)R3 は水素原子を表す。 これらの化合物である。 【0021】式II’ で表される化合物は次式(IV
)【化39】 で表される酸と塩化ホスホリルおよびトリエチルアミン
との処理によって製造できる。好ましくは該反応では式
IVで表される酸1当量に対し、塩化ホスホリル0.5
0ないし0.05当量およびトリエチルアミン2.0な
いし3.0当量を使用する。 【0022】式IVで表される酸は以前から公知である
か(例えばヨーロッパ特許EP−A1 0,223,
406、0,249,707、0,249,708、0
,287,079、0,315,889、0,336,
494および0,346,789号明細書により)、ま
たはそれらは公知の方法により製造でき;それは例えば
炭酸カリウム、水酸化カリウムまたは水素化ナトリウム
のような適当な塩基の存在下で、およびアセトン、メチ
ルエチルケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ドまたはジメチルスルホキシドのような適当な溶媒存在
下で、都合よくは0℃ないし還流温度、しかし好ましく
は10℃ないし60℃の温度範囲で式V(式中、置換基
は上述した意味を持つが、Lは好ましくは塩素原子、メ
タンスルホニル基、エタンスルホニル基またはベンジル
スルホニル基を表す。)で表される化合物と式VI:【
化40】 で表されるサリチル酸誘導体とを縮合する方法である。 【0023】式III 、V、VIおよび VIIは予
め公知であるかまたはそれ自身文献から公知の方法で製
造できる。 【0024】式Iで表される化合物(以後”有効物質”
とも称する)除草特性を持ちおよび例えば特に稲作物特
にパディライス(paddy rice)、小麦、トウ
モロコシ、大豆、油脂用ナタネ、ヒマワリおよび綿のよ
うな多様な作物において、草性の雑草例えば特に、アグ
ロオピロン−レペンス(Agropyron repe
ns)、アロペクラス−ミオスロイデス(Alopec
urus myosuroides)、カラスムギ(A
vena fatua)、ブロムス−イナーミス(Br
omus inermis) 、イヌビエ(Echin
ochloa Crus−galli)、スズメノカタ
ビラ(Poa annua) 、ソルガム−ハレペンス
(Sorhgum halepense) 、アブティ
ロン−セオフラスティ(Abutilon theop
hrasti)、アオビユ(Amaranthsu r
etroflexus)、カシア−オブツシフォリア(
Cassia obtusifolia)、アカザ(C
henopodium album) 、ヤエムグラ(
Galium aparine)、カミルレ(Matr
icaria chamomilla) 、シナピス−
アルヴェニシス(Sinapis arvensis)
およびハコベ(Stellaria media) を
含む雑草の防除に適当である。さらに、化合物は出芽前
および出芽後の除草剤となる。式Iで表される化合物の
幾つかの代表的なものにおいては、例えば大豆作物およ
び綿作物における雑草の防除のように良好な選択性が認
められる。 【0025】さらに式Iで表される化合物は植物成長調
節特性を持ちおよび作物植物の成長に良い影響を与える
有効物質として適当である。この効果は作物における所
望の成長抑制ならびに作物の競合者としてのそれらを除
くために雑草の発芽を十分に抑制することから導かれる
。生態学的相互作用に関しては、これは有利であり、そ
のため極めて望ましい。記述すべき因子は特に乾燥およ
び/または浸食に対する土壌表面の保護および土壌中で
の大量の雑草種子を削減(同時的に開花およびさらに種
子が形成するのを妨げる間に)することである。与えら
れた環境の下で、この作用は短期間に限られるが、雑草
の生えるのを完全に妨げるのに好ましい。 【0026】実際には1ヘクタール当り、式Iで表され
る化合物1gないし3kg、好ましくは10gないし1
kgの濃度が通常十分な所望の除草効果が得られるもの
である。所望の除草効果をなし得るため作物植物の最適
耐性と合わせられ、出芽前施用では10ないし100g
/ha、出芽後施用では100ないし1000g/ha
の範囲が特に好ましい。 【0027】本発明による除草剤および植物正常調節組
成物は式Iで表される化合物の少なくとも1種類および
一般に製剤助剤を含有する。それらは都合よくは以下に
示す群のおのおのから少なくとも1種類の製剤助剤を含
有する。 −固体担体; −溶媒または分散剤; −界面活性剤(湿展剤および乳化剤);−分散剤(界面
活性作用のないもの);および−安定剤 【0028】一般に、殺虫性製剤は式Iで表される有効
物質に比べ、以下の群からの製剤助剤の1ないし99%
を含有している。 −固体担体; −溶媒または分散剤; −分散剤(界面活性作用のないもの);および−安定剤
;および界面活性剤(湿展剤および乳化剤)0ないし2
5%、特に0.1ないし25%【0029】これらのタ
イプまたは他の助剤の使用において、式Iで表される化
合物すなわち除草性有効物質は例えば粉剤、粉粒剤、粒
剤、溶液、乳濁液、懸濁液、乳剤原液、ペーストおよび
それらに類するもののような慣用の配合物に変換できる
。 【0030】一般に式Iで表される化合物は水−不溶で
あり、公知の製剤助剤を使用して以下に述べる水−不溶
物質慣用方法で配合できる。組成物は例えば特に有効物
質を固体担体と混合することにより、適当な溶媒または
分散剤に溶解または懸濁することにより、所望の場合は
湿展剤または乳化剤としての界面活性剤および/または
散剤を使用して、あるいは溶媒または分散剤で前もって
調整された乳剤原液を希釈することによりそれ自体公知
の方法で製造できる。 【0031】以下に示すものは主な固体担体として適当
なものである。 −天然鉱物例えばチョーク、ドロマイト、石灰石、粘度
およびシリカ、ならびに珪藻土、カオリン、ベントナイ
ト、タルク、アタパルジャイトまたはモンモリロナイト
のようなそれらの塩; −合成鉱物例えば高分散シリカ、アルミナまたはケイ酸
; −有機物例えばセルロース、デンプン、尿素または合成
樹脂;および −肥料例えばリン酸塩または硝酸塩 これらの担体を、例えば粉剤または粒剤の形状にするこ
とができる。 【0032】以下に示すものは主な溶媒または分散剤と
して適当なものである。 −芳香族物質例えばベンゼン、トルエン、キシレンおよ
びアルキルナフタレン; −塩素化芳香族物質および塩素化脂肪族炭化水素例えば
クロロベンゼン、クロロエチレンまたはメチレンクロラ
イド; −脂肪族炭化水素例えばシクロヘキサンまたは鉱物油留
分のようなパラフィン; −アルコール例えばブタノールまたはグリコールならび
にそれらのエーテルまたはエステル; −ケトン例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトンまたはシクロヘキサノンおよび−強極
性溶媒および分散剤例えばジメチルホルムアミド、N−
メチルピロリドンまたはジメチルスルホキシド(これら
のタイプの溶媒は好ましくは少なくとも30℃の引火点
および少なくとも50℃の沸点をもつ)、または水。 【0033】他の適当な溶媒または分散剤は室温および
大気圧化合物下では気体状の製品である、いわゆる液化
気体増量剤または担体でもある。これらの製品の例は特
に例えばジクロロジフルオロメタンのようなハロ炭化水
素に代表されるエーロゾル推進剤である。本発明に関す
る除草剤が圧縮ガスパックの形状であるときは、推進剤
のほかに溶媒を使用するのが都合がよい。 【0034】界面活性剤(湿展剤および乳化剤)は非イ
オン性化合物であってよくそれらは例えば以下のような
ものである: −脂肪酸、脂肪酸アルコールまたは脂肪族基置換フェノ
ールとエチレンオキシドの縮合生成物;−糖または多価
アルコールの脂肪酸エステルおよび脂肪酸エーテル; −糖または多価アルコールとエチレンオキシドの縮合に
よって得られる製品; −エチレンオキシドおよびプロピレンオキシドのブロッ
クポリマー; −アルキルジメチルアミンオキシド 【0035】界面活性剤はアニオン性化合物であっても
よく、それらは以下のようなものである:−石鹸; −脂肪族サルフェートエステル例えばドデシル硫酸ナト
リウム、オクタデシル硫酸ナトリウムまたはセチル硫酸
ナトリウム; −アルキルスルホン酸塩、アリールスルホン酸塩または
脂肪芳香族スルホン酸塩例えばドデシルベンゼンスルホ
ン酸カルシウムのようなアルキルベンゼンスルホン酸塩
、またはブチルナフタレンスルホン酸塩;または−さら
に脂肪スルホン酸塩の複合体例えばオレイン酸およびN
−メチルタウリンのアミド縮合生成物、またはドデシル
スシネートのスルホン酸ナトリウム塩。 【0036】最後に、界面活性剤は塩化アルキルジメチ
ルベンジルアンモニウム、塩化ジアルキルジメチルアン
モニウム、塩化アルキルメチルアンモニウムまたはエト
キシ化された塩化アンモニウムのようなカチオン性化合
物であってよい。 【0037】適当な分散剤(界面活性作用のない)は主
に以下のものである:リグニン、リグノスルホン酸のナ
トリウム塩およびアンモニウム塩、マレイン酸無水物/
ジイソブチレンコポリマーのナトリウム塩、ナフタレン
およびホルムアルデヒドのスルホン化された縮重合生成
物のナトリウム塩およびアンモニウム塩、または亜硫酸
パルプ廃液である。 【0038】特に増粘剤または沈降防止剤に適当である
分散剤として使用可能なものの例はメチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、ポリビニルアルコール、アルギン酸塩、カゼイン
酸塩または血液アルブミンである。 【0039】適当な安定剤の例は以下に示すものである
: −酸結合剤、例えばエピクロロヒドリン、フェニルグリ
シジルエーテルまたはダイズエポキシ化物(soya
epoxides); −酸化防止剤、例えば没食子酸エステルまたはブチルヒ
ドロキシトルエン; −紫外線吸収剤、例えば置換ベンゾフェノン、ジフェニ
ルアクリロニトリルエステルまたは桂皮酸エステル;あ
るいは −奪活剤、例えばエチレンジアミン四酢酸、またはポリ
グリコール。 【0040】本発明に基づく除草剤および植物成長調節
組成物は式Iで表される化合物の他にさらに他の有効物
質を含むことができ、それらは例えば殺虫剤、殺ダニ剤
、線虫駆除剤、軟体動物駆除剤、殺菌剤、殺真菌剤、除
草剤、植物成長調節剤、肥料および微量元素源である。 これら配合された組成物は活性範囲を拡大するのに適当
である。 【0041】通常、本発明の除草剤は有効物質として式
Iの化合物の1種類またはそれ以上の0.001ないし
95重量%、好ましくは0.5ないし75重量%を含有
する。例えば貯蔵および移行に適当な形態であることも
可能である。これらの配合物では、例えば乳剤原液では
有効物質の濃度は通常、好ましくは1ないし50重量%
、好ましくは5ないし30重量%の高い範囲にある。 同一のまたは異なる不活性物質を使用することで、例え
ば、これらの配合物を実際使用するために適当な有効物
質の濃度、すなわち好ましくは約0.001ないし10
重量%、特に約0.005ないし5重量%に低く薄める
ことができる。しかし、有効物質の濃度をより低く、ま
たはより高くすることも可能である。 【0042】上述のものと同様に、本発明の除草剤はそ
れ自体公知の方法で製造できる。 【0043】粉末の形態で配合物を調製するため、有効
物質、すなわち式Iで表される化合物少なくとも1種を
固体担体と例えばそれらを一緒に粉砕して混合できる。 固体担体は有効物質の液体または懸濁液を都合よく浸込
ませることができ、次に溶媒または分散剤を、蒸発、加
熱または減圧下のろ過によって除去する。界面活性剤ま
たは分散剤を添加することにより、これら粉末形態の配
合物は容易に水湿潤性にすることができ、例えば噴霧用
の配合物として適当な水性懸濁液に変換することができ
る。 【0044】水に分散可能な水和剤を形成するため、有
効物質は界面活性剤および固体担体とも混合でき、ある
いは粒状形態の製品を形成するため予め粒状にした固体
との混合もできる。 【0045】所望ならば、有効物質は例えば高い沸点の
炭化水素ような水と混和できない溶媒に溶解することも
できる。後者は都合よくは、溶解性乳化剤を含有し、そ
のため水を加えた際溶液は自己乳化作用を示す。他の方
法では有効物質を乳化剤と混合して、そして混合物は水
で所望の濃度に希釈してもよい。さらに、有効物質を溶
媒に溶解して、そしてその溶液を乳化剤と混合してもよ
い。この混合物を同様に水で所望の濃度に希釈できる。 この方法で、乳剤原液またはすぐ使用できる乳濁液を得
る。 【0046】本発明に基づき、記述した除草剤は噴霧、
霧化、散粉、注水または散布のような以下に示す慣用の
施用方法で使用され得る。 【0047】 【実施例】以下の実施例でより詳しく本発明を説明する
。 A.式Iで表される化合物の製造 実施例1:メチル N−(o−((4,6−ジメトキ
シ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)グリシネ
ート o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキ
シ)安息香酸12.6gをジクロロメタン500mlに
溶解し、そしてこの溶液をトリエチルアミン30gで処
理する。ジクロロメタン25mlに溶解した塩化ホスホ
リル7.5gを−5℃で滴下して加え、そして5分間攪
拌し続ける。水100ml中新たに調製したメチルグリ
シネート8.9gを含む溶液を次に勢いよく攪拌しなが
ら加える。攪拌を続けたまま混合物を15分間室温にな
るまでおく。有機相を取り除き、新しい水で3回洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。残った残渣
をフラッシュクロマトグラフィー(flash chr
omatography)で精製する。純メチルN−(
o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキ
シ)ベンゾイル)グリシネートがほとんど無色の油とし
て得られる; 1H−NMR(CDC13) :3.6
1,s,COOCH3 ,3.81,s,2OCH3
,4.16,d,J=5Hz,CH2 ,5.82,s
,−CH=,7.22−8.06,NHおよび4芳香族
H原子。 【0048】実施例2:メチル N−(o−((4,
6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイ
ル)グリシネート ビス−o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル
)オキシ)安息香酸無水物5.35gおよびトリエチル
アミン2gを最初にジクロロメタン100mlにいれる
。水15ml中新たに調製したメチルグリシネート1.
78gを含む溶液を攪拌しながら加え、そして室温で1
時間攪拌し続ける。有機相を取り除き、炭酸水素ナトリ
ウムおよび水で洗浄し、乾燥し、蒸発させる。本方法で
、TLCに従えば実施例1で製造したメチル N−(
o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキ
シ)ベンゾイル)グリシネートと同一のほとんど純粋な
製品3.5gが得られる(TLC移動相:エチルアセテ
ート/ヘキサン2:1,Rf 値:0.55)。 【0049】実施例3:N−(o−((4,6−ジメト
キシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−L−
アラニン 第三ブチルN−(o−((4,6−ジメトキシ−2−ピ
リミジニル)オキシ)ベンゾイル)−L−アラニネート
(実施例31)6.0gをトリフルオロ酢酸40mlに
溶解し、そしてこの溶液を室温で2日間密封反応容器中
に保つ。次に揮発し易い成分をロータリーエバポレータ
で蒸発させる。残った油状の残渣をジクロロメタンで溶
解し、水300mlを使用して2回洗浄する。混合物は
硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させる。さらに精製する
ため、残った油は勾配フラッシュクロマトグラフィーで
精製する。4.8gのゴム状の残渣が純N−(o−((
4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベン
ゾイル)−L−アラニンである;Rf :0.19(エ
チルアセテート/メタノール 3:1)。 【0050】実施例3a:N−(o−((4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−(
L−ロイシン)−(L−アラニン)エチルエステルN−
(o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オ
キシ)ベンゾイル)−L−ロイシン(実施例34)3.
7gをジクロロメタン250mlに溶解し、連続してエ
チルL−アラニネートヒドロクロライド3.3gおよび
トリエチルアミン7.5gで処理し、攪拌した混合物を
−5℃に冷却する。この温度でジクロロメタン5ml中
の塩化ホスホリル1.6g溶液を滴下して加え混合物を
続いて20分間攪拌する。次に有機相を水250mlで
3回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させる。残
った生成物を勾配フラッシュクロマトグラフィーで精製
する。ガラス状の生成物として純N−(o−((4,6
−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル
)−(L−ロイシン)−(L−アラニン)エチルエステ
ルが得られる;Rf :0.36(エチルアセテート/
ヘキサン2:1)。 【0051】実施例3b:N−(o−((4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−(
L−フェニルアラニン)−(L−アラニン)エチルエス
テル 同様の方法で、N−(o−((4,6−ジメトキシ−2
−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−L−フェニル
アラニン(実施例35)およびL−アラニネートヒドロ
クロライドから、ガラス状生成物としてN−(o−((
4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベン
ゾイル)−(L−フェニルアラニン)−(L−アラニン
)エチルエステルが得られる;Rf :0.48(エチ
ルアセテート/ヘキサン 2:1)。 【0052】B.式IIで表される中間体の製造実施例
3c:ビス−o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミ
ジニル)オキシ)安息香酸無水物ビス−o−((4,6
−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)安息香酸2
7.6gをジクロロメタン500ml中のトリエチルア
ミン25gの溶液に入れる。溶液を−5℃に冷却し、こ
の温度でジクロロメタン25ml中の塩化ホスホリル8
gで処理する。10分間攪拌を続け、それぞれ氷水50
0mlで2回、短時間で洗浄する。有機相を乾燥しそし
て蒸発させる。エチルアセテート/ヘキサン(7:8)
で再結晶化により、融点:120ないし122℃の純ビ
ス−o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)
オキシ)安息香酸無水物24.2gが得られる。 【0053】表2ないし5に示す式IB、IC、IDお
よびIEで表される化合物は実施例1ないし3と同様に
製造される。他に明記しなければ、Rf 値はエチルア
セテート/ヘキサンで決定される。表中、m.p.は融
点を表す。 【0054】表2: 次式IBで表される化合物: 【化41】 【表1】 【表2】 【表3】 【表4】 【表5】 【表6】 【0055】表3: 次式ICで表される化合物: 【化42】 【表7】 【表8】 【表9】 【表10】 【表11】 【表12】 【表13】 【表14】 【0056】表4: 次式IDで表される化合物: 【化43】 【表15】 【表16】 【0057】表5: 次式IEで表される化合物: 【化44】 【表17】 【0058】C.製剤例 実施例F1:25%水和剤を製造するため以下の一覧の
成分を互いに混合する:
重量
% 表2−5に記載の式Iの化合物
25 シリカ水和
物(担体、粉砕助剤)
20 ラウリル硫酸ナトリウム(湿展
剤) 2
リグノスルホン酸ナトリウム(分散剤)
4 カオリン(担体)
49
100 まず、液状、
または融解した有効物質を粉砕装置中に最初に入れたシ
リカに加え、次に他の成分を混合する。ピンドディスク
ミル(pinned−disc−mill) または同
様の粉砕装置を使用し、混合物を微粉末に粉砕する。得
られた水和剤を水に攪拌して入れると、すぐ使用できる
噴霧液として適当な微細な懸濁液が得られる。この製剤
に特に適当な有効物質は液体であるかまたは約100℃
を越えない低い融点の式Iで表される化合物である。 【0059】実施例F2:高いすなわち約+100℃以
上の融点を持つ式Iで表される化合物は好ましくは濃縮
水和剤中の有効物質として使用でき、例えは以下に示す
と:
重量
% 表2−5に記載の式Iの化合物
75 シリカ水和
物(担体、粉砕助剤)
1 ナトリウム塩としての硫酸カ
ルボン酸;例えば、 2 『登録
商標モロウェットEFW(Morowett EFD)
』 :デ−ソト(De
Soto) 社製(湿展剤)ナトリウム塩としてのスル
ホン化 10
ナフタレン/ホルムアルデヒド縮合物:例えば
、『登録商標モロウェットD−425 (Morowett D−425) 』
:デ−ソト(De Soto) 社製(
分散剤)ポリビニルピロリドン、例えば
1 『登録
商標PVP−K−30』 :ガフ社(GAF Corp.)製(結合剤)カオリン
(担体)
11
100 成
分を互いに混合し、ピンドディスクミルまたは同様の粉
砕装置、特にフルイドエナジーミル(fluid en
ergy mill)を使用し、混合物を微粉末に粉砕
する。得られた水和剤を水に攪拌して入れると、すぐ使
用できる噴霧液として適当な任意の所望濃度の微細な懸
濁液が得られる。 【0060】実施例F3:実施例F1の組成物に基づい
た水和剤は分散性の粒剤に変換できる。この目的のため
粉砕された粉剤を結合剤の水性溶液と一緒に適当な粉砕
機〔例えば粗細プレート(granulating p
late)、混合ドラム(mixing drum)
、高速ミキサー(high−speed mixer)
または流体層粉砕機(fluidesed bed g
ranulator)〕中に凝集が形成されるまで、噴
霧する。加えられた水は次の乾燥工程で除去される。所
望の大きさの粒剤を篩うことによって分離する。水和剤
に比べると、得られた粒剤は多様な利点(施用時に粉剤
形成がない、より良い流動性のための簡単な計量等)を
もつ。製品を水中で攪拌しおよび粒剤を一時粒子へ完全
に分解した後は、施用は水和剤の場合と同様である。 【0061】実施例F4:慣用の有機溶媒中で式Iで表
される化合物は限られた溶解性を持つ。従って、比較的
低濃度の乳剤原液が可能である。それらは例えば:表2
−5に記載の式Iの化合物
125g/l『登録商標ソルプロファBSU
』 300g/l:ロ
ーン−ポウレンク(Rhone−Poulenc)社製
(乳化剤)N−メチル−2−ピロリドン(溶媒)で
全量1000mlとする。有効物質および乳化剤を
攪拌しながら溶媒にいれる。混合物を均一な溶液が形成
されるまで攪拌する。得られた乳剤原液は水で乳化でき
、所望の濃度のすぐ使用できる噴霧液が得られる。 【0062】実施例F5:約+60℃以上の融点を持つ
式Iで表される化合物はいわゆる懸濁原液(『流動性を
もつ』)も製剤化できる。例えば: 表2−5に記載の式Iの化合物
250g/lエチレングリコール(凍結
防止剤) 80g/l
シリカ(沈降抑制剤)
5g/lキサンテンゴ
ム、例えば
2g/l『登録商標ケルザン(Kel
zan) 』:ケルコ(Kelco)社製 (増粘剤)
シリコン脱泡剤、例えば
5g/l『登録商標ロ
ドルシル 426 (Rhodorsil 426)』 :ローン−ポウレンク(Rhone−Poulenc)
社製ノニルフェノール ポリエトキシレート(水和剤
) 20g/lナトリウム塩としてのスルホン化
40g/lナフタレ
ン/ホルムアルデヒド縮合物:例えば、『登録商標モロ
ウェットD−425 (Morowett D−425) 』
:デ−ソト(De Soto) 社製(
分散剤)
水で全量1000
mlとする。 製剤助剤を水中に溶解する。予め粉砕した有効物質を攪
拌しながら分散させる。そして得られた粗懸濁液を(例
えば攪拌装置付のコロイドミルまたはボールミル内で)
湿潤粉砕(wet grinding) する。所望
ならば消泡剤、沈降抑制剤、殺生物剤等の他の添加剤少
量をそこで添加できる。使用のために得られた『流動性
をもつ』製剤は任意の所望の割合で希釈でき、所望の濃
度のすぐ使用できる噴霧溶液を提供する。 【0063】生物学的実施例 実施例B1:出芽前除草作用 温室中で種子皿に試験植物を播種後直ちに、土の表面を
試験化合物3Kg/haの施用割合に相当する量の水性
噴霧混合物で処理する。種子皿は温室中で22ないし2
5℃および相対湿度50ないし70%に保たれる。3週
間後、除草作用を未処理の対照群との比較で3つの割合
の段階(2=80ないし100%損傷、1=30ないし
79%損傷、0=0ないし30%損傷)により評価する
。表2ないし5に記載の式1で表される化合物はこの試
験で明確な除草作用を示す。式Iで表される化合物の良
好な出芽前除草活性を表B1に示す:表B1:出芽前除
草作用 実施例│
雑草:記載 │
アロペ セノポ 化合物│ソル
ガム エキノコラ アヴェナ キュラス
デューム : │(Sorghu
m) (Echinochloa) (Avena
) (Adlopecurus) (Chenopo
dium)───┼────────────────
─────────────── 3 │ 2
2 2
2 2
5 │ 2 2
2 2
2 9 │ 2
2 2
2 2
10 │ 2 2
2 2
2 11 │ 2
2 2
2 2
12 │ 2 2
2 2
2 18 │ 2
2 2
2 2
20 │ 2 2
2 2
2 22 │ 2
2 2
2 2
27 │ 2 2
2 2
2 28 │ 2
2 2
2 2
29 │ 2 2
2 2
2 30 │ 2
2 2
2 2 3
1 │ 2 2
2 2
2 【0064】実施例 B
2:出芽後除草作用(接触除草剤) 大量の雑草、単子葉植物および双子葉植物の両方に出芽
後(4ないし6葉期)に試験化合物3Kg/haの割合
で水性有効成分分散剤を噴霧し、そして24ないし26
℃および相対湿度45ないし60%で保つ。試験は処理
15日後評価される。この試験でも表2ないし5記載の
式Iで表される化合物は良好な除草作用を示す。 【0065】実施例 B3:野性稲〔パディライス(
paddy rice) 〕における除草作用水中に発
生する雑草イヌビエ(Echinochloa cru
s galli) をプラスチック性ビーカー( 表面
積:60cm2 、容積:500ml)に播種する。播
種後、ビーカーを土の表面まで水で満たす。播種後3日
目に土壌表面よりわずかに上に水位を増やす(3ないし
5mm)。播種後3日目にビーカーを試験化合物で噴霧
することにより施用を行う。施用の割合は有効成分3K
g/haの濃度に相当する。ビーカーを稲の雑草に最適
な成育条件、すなわち25℃ないし30℃および高湿度
で温室中に保つ。試験の評価は施用後3週間で行う。表
2ないし5に記載の式Iで表される化合物は雑草に損傷
を与えるが稲には与えない。 【0066】実施例 B4:熱帯性被覆植物(cov
er crops )の成長抑制 試験植物セントロセマ・プベセンス(Centrose
ma pubescens)およびプソフォカーパス・
パルストリス(Psophocarpuspalust
ris)を土(45%)、泥炭(45%)およびゾノラ
イト(Zonolite) (10%)を含有する4c
mのピートポット(peat pot) に挿し木によ
り繁殖させる。 挿し木は昼間気温27℃および夜間気温23℃の温室で
栽培する。植物に最低14時間/日、少なくとも700
0ルックスの強度で照射する。挿し木後約50日栽培し
、13cmポットに、4ないし5本の植物/ポットで移
植する。さらに60日後、植物は約15cmの高さに剪
定され、水性噴霧混合物有効成分0.1ないし300g
/ha(通常、25%製剤に該当する)濃度で噴霧によ
る処理を行う。施用される水の量は約200l/haで
ある。播種後4週間で新たな成長重量を決定しおよび未
処理の対照の平均との割合を示す。総葉面積の割合とし
ての壊死損傷値を得る。処理した植物における新たな成
長は未処理の対照よりも際立って少ない。 【0067】実施例 B5:大豆の成長調節ウィリア
ムズ(Williams)種の試験植物を土(45%)
、泥炭(45%)およびゾノライト(10%)のはいっ
た11cmのクレイポット(cray pot) に播
種し、気象温室(climatic chamber)
中で昼間気温24℃および夜間気温19℃で栽培する。 植物を16時間/日、約350マイクロ−アインシュタ
インの強度で照射する。播種後約24日、植物を18c
mポットに、2本の植物/ポットで移植する。さらに1
2日後、植物は5ないし6の三葉状葉期(trifoi
l leaf stage) であり、試験化合物を通
常の25%製剤に該当する有効成分0.1ないし300
g/ha濃度でおよび水性噴霧混合物として施用する。 施用される水の量は約200 l/haである。評価
は播種後4週間でなされる。新たな成長の高さを測定し
および未処理の対照の平均との割合を示す。総葉面積の
割合としての壊死損傷値を得る。処理した植物は未処理
の対照よりも際立って新たな成長が少ない。 【0068】実施例 B6:穀物の成長抑制試験植物
〔イバン(Iban) 種の春播き大麦〕を殺菌した土
のはいった15cmのプラスチックポットに播種し、気
象温室(climatic chamber)中で昼間
気温10ないし15℃および夜間気温5ないし10℃で
栽培する。植物を13.5時間/日、約25000ルッ
クスの強度で照射する。播種後約34日、植物を4本の
植物/ポットに間引きし、試験化合物を通常の25%製
剤に該当する有効成分0.1ないし300g/ha濃度
でおよび水性噴霧混合物として施用する。施用される水
の量は約500 l/haである。施用後、植物を1
日に少なくとも気温10℃の温室に置く。少なくとも1
3.5時間/日で照射する。評価は処理後28日に行う
。新たな成長の高さは未処理の対照の平均との割合を示
す。総葉面積の割合としての壊死損傷値を得る。処理し
た植物は未処理の対照よりも際立って新たな成長の減少
を示す。 【0069】実施例 B6:牧草の成長抑制牧草植物
の混合種〔例えばポア(Poa) 、フェスツカ(Fe
stuca) 、ロリウム(Lolium)、ブロムス
(Bromus)、シノスラス(Cynosurus)
〕およびクローバー〔アカツメクサ/シロツメクサ(
Trifolium pratense/repens
) 〕を殺菌した土のはいった15cmのプラスチック
ポットに播種し、温室中で昼間気温21℃および夜間気
温17℃で栽培する。植物を13.5時間/日、少なく
とも7000ルックスの強度で照射する。出芽した植物
を週に約6cmの高さに剪定する。播種後約42日、最
後の剪定後1日たって、試験化合物を通常の25%製剤
に該当する有効成分0.1ないし300g/ha濃度で
および水性噴霧混合物として施用する。施用される水の
量は約500 l/haである。評価は処理後3週間
で行う。新たな成長の高さを測定しそして未処理の対照
の平均との割合で示す。総葉面積の割合としての壊死損
傷値を得る。表2ないし5に記載の式Iで表される試験
化合物は未処理の対照に比べ、新たな成長の減少を示す
。
長−調節作用を持つ、新規なピリミジニル−およびトリ
アジニル−サリチルアミド、それらの製造方法、有効物
質としてそれらを含有する組成物、ならびに作物におけ
る特に選択的な雑草防除のため、あるいは植物成長の調
節ならびに抑制のためにそれらを使用する方法に関する
。 【0002】 【課題を解決するための手段】式(I)で表される化合
物は除草および植物成長調節作用を持つことが明らかに
なった。それらはそれゆえ除草剤および作物植物の成育
に明らかに影響を及ぼす組成物の有効物質として適当で
ある。 【0003】次式I: 【化21】 {式中、Bは窒素原子、メチン基、またはフッ素原子、
塩素原子、メチル基、メトキシ基、2−プロペニルオキ
シ基、2−プロピニルオキシ基、ジフルオロメトキシ基
、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、フェ
ニル基またはベンジルオキシ基で置換されたメチン基を
表し;Yは酸素原子または硫黄原子を表し;Zはメチン
基または窒素原子を表し;R1 は塩素原子、メチル基
、メトキシ基、エトキシ基、ジフルオロメトキシ基、メ
チルアミノ基、エチルアミノ基またはジメチルアミノ基
を表し;R2 はメチル基、メトキシ基またはジルフル
オロメトキシ基を表し;R3 は水素原子、フッ素原子
、塩素原子、メチル基またはメトキシ基を表し;R4
は以下の(a)、(b)または(c): 【化22】 で表される基の一つを表し;R5 は水素原子、メチル
基またはR7 と一緒になって基:−( CH2
)p −、−CH2 SCH2 −または−CH2 C
HOHCH2 −を表し;R6 はヒドロキシメチル基
、ホルミル基、シアノ基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシイミノ基、ヒドロキシイミノ基、ホスホノ基、ホ
スフィノ基、メチルホスフィノ基または基:−COXを
表し;R7 は水素原子、非置換またはヒドロキシル基
、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、メルカプト基
、アシルメルカプト基、炭素原子数1ないし4のアルキ
ルチオ基、ビニル基、フェニル基、4−ヒドロキシフェ
ニル基、4−イミダゾリル基、3−インドリル基、ヒド
ロキシカルボニル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シカルボニル基、2−プロペニルオキシカルボニル基、
シアノ基、カルバモイル基で置換された炭素原子数1な
いし4のアルキル基、トリフルオロメチル基、エチニル
基、非置換のまたは塩素原子もしくはメトキシ基で置換
されたビニル基、あるいは非置換のまたはフッ素原子、
塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基もしくはメ
トキシ基で置換されたフェニル基、あるいはシアノ基ま
たは炭素原子数1ないし4のアルコキシカルボニル基を
表し;R8 は水素原子またはメチル基を表し;Aは酸
素原子、硫黄原子または基:−NH−を表し;mは1,
2または3を表し;nは0,1,2または3を表し;p
は2または3を表し;Xはヒドロキシル基、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数3ないし4のア
ルケニルオキシ基、メルカプト基、炭素原子数1ないし
4のアルキルチオ基、アミノ基、炭素原子数1ないし4
のアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし4のジアルキ
ルアミノ基、または炭素原子数1ないし2のアルコキシ
基、炭素原子数3ないし4のアルケニルオキシ基、メル
カプト基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基、ア
ミノ基、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基、炭
素原子数1ないし4のジアルキルアミノ基、またはフェ
ニル基、ベンジルオキシ基もしくは炭素原子数1ないし
2のアルコキシ基で置換されているアルコキシアミノ基
、あるいはさらに以下の(d)、(e)または(f):
【化23】 で表される基の一つを表し;R9 は水素原子、炭素原
子数1ないし4のアルキル基またはベンジル基を表し;
R10はヒドロキシメチル基、シアノ基または基:CO
Q’(式中、Q’はヒドロキシル基、炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基、2−プロペニルオキシ基、ベンジ
ルオキシ基またはアミノ基または基(d)を表す。);
Qはヒドロキシル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基、2−プロペニルオキシ基、ベンジルオキシ基、ア
ミノ基または基(d)を表す。}で表される本発明によ
るピリミジニル−もしくはトリアジニル−サリチルアミ
ド;および遊離ヒドロキシカルボニル基をもつ式Iのこ
れらの化合物の塩である。 【0004】式Iにおけるアルキル基およびアルケニル
基は直鎖または枝分かれ鎖をとることが可能である。こ
れは、アルキル基部分そのもの、あるいはアルコキシ基
、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基および他の
アルキル基含有群のアルキル部分のおのおのについても
同様である。 【0005】式Iで表される化合物が不斉炭素を含有す
る場合、実際、化合物に光学異性体が起こり得る。脂肪
族C=C二重結合を持つならば幾何学異性が起こり得る
。式Iで表される化合物はまた可能な全ての立体異性体
または鏡像異性体、ジアステレオ異性体またはそれらの
混合物の形態をとる全ての立体異性体をも包含する。 式Iで表されれる化合物の幾つかは互変異性体(例えば
ケト−エノールまたはイミン−エナミン互変異性のよう
な)が起こり得る。式Iはそれゆえすべての互変異性体
を含有する。 【0006】式Iで表される好ましい化合物は以下に示
すものである。 a)Bはメチン基、好ましくはフッ素原子もしくは塩素
原子で置換されたメチン基または酸素原子を表し;b)
Yは酸素原子を表し; c)Zはメチン基を表し; d)R1 およびR2 はメトキシ基を表し;e)R3
は水素原子を表し; f)R4 は基(a)を表し; g)R5 は水素原子を表し; h)R6 はシアノ基または基:COXを表し;i)R
7 は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
2−プロペニル基またはR5 と一緒になって−CH2
CH2 CH2 −または−CH2 SCH2 −を
表し;j)R8 は水素原子を表し;および k)R4 はS−キラリティーである次式IA:【化2
4】 で表されるキラル基を表す。 【0007】サブグループh)からの好ましい化合物は
、Xが炭素原子数1ないし4のアルコキシ基またはアミ
ノ基であるこれら化合物である。 【0008】他の好ましいサブグループはR4 が基(
c)を表し、Aは酸素原子または硫黄原子を表し、なら
びにmは1を表す式Iで表されるこれらの化合物により
;R4 が非常にとりわけ好ましいS−キラリティーで
ある次式IF: 【化25】 で表される基である化合物により構成される。 【0009】そのよい生物活性により優れている式Iで
表される化合物の群は:R1 がメトキシ基、エトキシ
基またはジフルオロメトキシ基を表し;R2 はメトキ
シ基を表し;R3 は水素原子を表し;Bが窒素原子、
メチン基または塩素原子もしくはフッ素原子で置換され
たメチン基を表し;Yは酸素原子または硫黄原子を表し
;Zはメチン基または窒素原子を表し;および式中、N
R4 R5 は以下の表1: 表1: 【化26】 表1:(続き) 【化27】 表1:(続き) 【化28】 表1:(続き) 【化29】 表1:(続き) 【化30】 表1:(続き) 【化31】 に提供されている意味の一つを表す。 【0010】式Iの範囲で好ましい個々の明記すべき化
合物を以下に示す: メチル N−(o)−((4,6−ジメトキシ−2−
ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)グリシネート(実
施例1および2);エチル N−(o−((4,6−
ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)
−L−アラニネート(実施例20);rac−o−((
4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)−N
−(ジヒドロ−2−オキソ−3(2H)−チエニル)ベ
ンズアミド(実施例5);メチル N−(o−((4
,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾ
イル)−L−アラニネート(実施例21);メチル
N−(o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル
)オキシ)ベンゾイル)−L−バリネート(実施例22
);メチル N−(o−((4,6−ジメトキシ−2
−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−L−ロイシネ
ート(実施例23);rac−N−(1−カルバモイル
−1,2−ジメチルプロピル)−o−((4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジニル)チオ)−ベンズアミド(実
施例7);第三ブチル 1−(o−((4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−L
−プロリネート(実施例26);メチル N−((3
−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ
)−2−ピリジル)カルボニル)−L−アラニネート(
実施例27);メチル N−((3−((4,6−ジ
メトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)−2−ピリジル
)カルボニル)グリシネート(実施例9);o−((4
,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)−N−
(<S>−1−(ヒドロキシメチル)−2−メチルプロ
ピル)−ベンズアミド(実施例11);およびN−(1
−シアノ−1−メチルエチル)−o−((4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンズアミド(実
施例13) 【0011】式Iで表される新規化合物は次式II:【
化32】 (式中、Aは離脱基を表し、好ましくは塩素原子、また
はイミダゾリル基を表す。)で表される化合物と;また
は次式II’: 【化33】 で表される酸無水物と次式III : 【化34】 で表されるアミンを反応させることにより製造できる。 【0012】この反応は塩基存在下で都合よく行われる
。適当な塩基はトリエチルアミン、N,N−ジメチルア
ニリンまたは2,5−ジメチルピリジンのような第三ア
ミンである。 【0013】この反応は溶媒存在下で行われるのが好ま
しい。適当な溶媒は以下のものである:−炭化水素例え
ばトルエン; −ハロゲン化炭化水素例えばジクロロメタン、1,2−
ジクロロエタンまたはクロロベンゼン;−エーテル例え
ばジエチルエーテル、ジメトキシエタンまたは第三ブチ
ルメチルエーテル; −非プロトン性溶媒例えばアセトニトリル;−プロトン
性溶媒例えばアルコール、特にエタノール、または水;
または −2相系例えばジクロロメタンと水、トルエンと水、ま
たはジエチルエーテルと水。 【0014】別の方法では式Iで表される新規の化合物
は次式V: 【化35】 (Lは離脱基、特にハロゲン原子または置換されたまた
は非置換のアルキルスルホニル基、ベンジルスルホニル
基、フェニルスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ
基、ベンジルスルホニルオキシ基、フェニルスルホニル
オキシ基、または例えば3−メチルスルホニル−1H−
1,2,4−トリアゾール−1−イル基のような3−ア
ルキルスルホニル−1H−1,2,4−トリアゾール−
1−イル基を表し;および好ましくは塩素原子、メタン
スルホニル基、エタンスルホニル基またはベンジルスル
ホニル基を表す。)で表される化合物と次式VII:【
化36】 で表されるサリチルアミド誘導体との反応により製造で
きる。 【0015】この反応は不活性希釈剤の存在下で都合よ
く行われ、特に、有機の、より有利には非プロトン性の
溶媒および好ましくは以下に示すものである:−脂肪族
のまたは環式エーテル、例えばジメトキシエタンまたは
テトラヒドロフラン; −脂肪族ケトン、例えばアセトンまたは2−ブタノン;
−脂肪族ニトリル、例えばアセトニトリルまたはプロピ
オニトリル; −ジメチルホルムアミド; −N−メチルピロリドン;あるいは −複素環式化合物、例えばピリジンまたはルチジン;塩
基ではとりわけ −アルカリ金属水素化物、例えば水素化ナトリウムまた
は水素化カリウム; −アルカリ土金属水素化物、例えば水素化カルシウム;
−アルカリ金属炭酸水素塩、例えば炭酸水素ナトリウム
、または炭酸水素カリウム; −アルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸ナトリウムまたは炭
酸カリウム; −アルカリ土金属炭酸塩、例えば炭酸カルシウムまたは
炭酸マグネシウム; −脂肪族第三アミン、例えばトリエチルアミン;−完全
に置換されたアミジン、例えばジアザビシクロウンデセ
ン;また −塩基性複素環式化合物および例えばピリジン;反応促
進剤として、特に −クラウンエーテル; −相間移動触媒; −一次的に離脱基Lで置換された化合物、好ましくはジ
メチルアミノピリジン;あるいは −結果的にLがハロゲン原子で、離脱基を活性化する化
合物、特に銀または銅の塩、例えば硝酸銀または塩化銅
(I)。 【0016】反応は0℃ないし160℃の、特に20℃
ないし100℃の、好ましくは20℃ないし反応混合物
の沸点の温度範囲で行われる。 【0017】Aが塩素原子を表す式IIで表される化合
物は、例えば次式IV: 【化37】 で表される酸および塩化ホスホリル、チオニルクロライ
ド、オキザリルクロライドまたはホスゲン、好ましくは
塩化ホスホリルのような塩素化剤を、例えばトリエチル
アミン、ジメチルアニリンまたはピリジンのような助剤
塩基の存在下で、および所望ならば、トルエンのような
炭化水素、メチレンクロライドのようなクロロ炭化水素
、テトラヒドロフランのようなエーテルに代表される溶
媒の存在下で、−20℃ないし還流混合物の還流温度、
好ましくは−5℃ないし室温で、反応させることにより
製造できる。 【0018】しかし、式IIの中間体、すなわちこの場
合では酸塩化物を分離する必要はない。後者は、所望な
らば追加のトリエチルアミンのような塩基下で、直接的
に”その場で”式III のアミンと都合よく反応させ
る。 本反応は同様に約−20℃ないし使用する溶媒の還流温
度の温度範囲、好ましくは−5℃ないし室温で行われる
。 【0019】他の方法では、式II’で表される酸無水
物で開始するのが有利である。これら酸無水物は新規の
化合物であり、およびそれゆえ本発明に従った類似の形
態をとる。新規のピリミジニルおよびトリアジニルサリ
チル酸無水物は次式II’ : 【化38】 (式中、Bは窒素原子、メチン基、またはフッ素原子、
塩素原子、メチル基、メトキシ基、2−プロペニルオキ
シ基、2−プロピニルオキシ基、ジフルオロメトキシ基
もしくはベンジルオキシ基で置換されたメチン基を表し
、Yは酸素原子または硫黄原子;Zはメチン基または窒
素原子を表し、R1 は塩素原子、メチル基、メトキシ
基、エトキシ基、ジフルオロメトキシ基、メチルアミノ
基、エチルアミノ基またはジメチルアミノ基を表し、R
2 はメチル基、メトキシ基またはジフルオロメトキシ
基を表し、およびR3 は水素原子、フッ素原子、塩素
原子、メチル基、メトキシ基を表す。)で表されるこれ
らの化合物である。 【0020】好ましい式II’ で表される化合物は:
a)Bはメチン基、または窒素原子を表し;b)Yは酸
素原子を表し; c)Zはメチン基を表し; d)R1 およびR2 はメトキシ基を表し;およびe
)R3 は水素原子を表す。 これらの化合物である。 【0021】式II’ で表される化合物は次式(IV
)【化39】 で表される酸と塩化ホスホリルおよびトリエチルアミン
との処理によって製造できる。好ましくは該反応では式
IVで表される酸1当量に対し、塩化ホスホリル0.5
0ないし0.05当量およびトリエチルアミン2.0な
いし3.0当量を使用する。 【0022】式IVで表される酸は以前から公知である
か(例えばヨーロッパ特許EP−A1 0,223,
406、0,249,707、0,249,708、0
,287,079、0,315,889、0,336,
494および0,346,789号明細書により)、ま
たはそれらは公知の方法により製造でき;それは例えば
炭酸カリウム、水酸化カリウムまたは水素化ナトリウム
のような適当な塩基の存在下で、およびアセトン、メチ
ルエチルケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ドまたはジメチルスルホキシドのような適当な溶媒存在
下で、都合よくは0℃ないし還流温度、しかし好ましく
は10℃ないし60℃の温度範囲で式V(式中、置換基
は上述した意味を持つが、Lは好ましくは塩素原子、メ
タンスルホニル基、エタンスルホニル基またはベンジル
スルホニル基を表す。)で表される化合物と式VI:【
化40】 で表されるサリチル酸誘導体とを縮合する方法である。 【0023】式III 、V、VIおよび VIIは予
め公知であるかまたはそれ自身文献から公知の方法で製
造できる。 【0024】式Iで表される化合物(以後”有効物質”
とも称する)除草特性を持ちおよび例えば特に稲作物特
にパディライス(paddy rice)、小麦、トウ
モロコシ、大豆、油脂用ナタネ、ヒマワリおよび綿のよ
うな多様な作物において、草性の雑草例えば特に、アグ
ロオピロン−レペンス(Agropyron repe
ns)、アロペクラス−ミオスロイデス(Alopec
urus myosuroides)、カラスムギ(A
vena fatua)、ブロムス−イナーミス(Br
omus inermis) 、イヌビエ(Echin
ochloa Crus−galli)、スズメノカタ
ビラ(Poa annua) 、ソルガム−ハレペンス
(Sorhgum halepense) 、アブティ
ロン−セオフラスティ(Abutilon theop
hrasti)、アオビユ(Amaranthsu r
etroflexus)、カシア−オブツシフォリア(
Cassia obtusifolia)、アカザ(C
henopodium album) 、ヤエムグラ(
Galium aparine)、カミルレ(Matr
icaria chamomilla) 、シナピス−
アルヴェニシス(Sinapis arvensis)
およびハコベ(Stellaria media) を
含む雑草の防除に適当である。さらに、化合物は出芽前
および出芽後の除草剤となる。式Iで表される化合物の
幾つかの代表的なものにおいては、例えば大豆作物およ
び綿作物における雑草の防除のように良好な選択性が認
められる。 【0025】さらに式Iで表される化合物は植物成長調
節特性を持ちおよび作物植物の成長に良い影響を与える
有効物質として適当である。この効果は作物における所
望の成長抑制ならびに作物の競合者としてのそれらを除
くために雑草の発芽を十分に抑制することから導かれる
。生態学的相互作用に関しては、これは有利であり、そ
のため極めて望ましい。記述すべき因子は特に乾燥およ
び/または浸食に対する土壌表面の保護および土壌中で
の大量の雑草種子を削減(同時的に開花およびさらに種
子が形成するのを妨げる間に)することである。与えら
れた環境の下で、この作用は短期間に限られるが、雑草
の生えるのを完全に妨げるのに好ましい。 【0026】実際には1ヘクタール当り、式Iで表され
る化合物1gないし3kg、好ましくは10gないし1
kgの濃度が通常十分な所望の除草効果が得られるもの
である。所望の除草効果をなし得るため作物植物の最適
耐性と合わせられ、出芽前施用では10ないし100g
/ha、出芽後施用では100ないし1000g/ha
の範囲が特に好ましい。 【0027】本発明による除草剤および植物正常調節組
成物は式Iで表される化合物の少なくとも1種類および
一般に製剤助剤を含有する。それらは都合よくは以下に
示す群のおのおのから少なくとも1種類の製剤助剤を含
有する。 −固体担体; −溶媒または分散剤; −界面活性剤(湿展剤および乳化剤);−分散剤(界面
活性作用のないもの);および−安定剤 【0028】一般に、殺虫性製剤は式Iで表される有効
物質に比べ、以下の群からの製剤助剤の1ないし99%
を含有している。 −固体担体; −溶媒または分散剤; −分散剤(界面活性作用のないもの);および−安定剤
;および界面活性剤(湿展剤および乳化剤)0ないし2
5%、特に0.1ないし25%【0029】これらのタ
イプまたは他の助剤の使用において、式Iで表される化
合物すなわち除草性有効物質は例えば粉剤、粉粒剤、粒
剤、溶液、乳濁液、懸濁液、乳剤原液、ペーストおよび
それらに類するもののような慣用の配合物に変換できる
。 【0030】一般に式Iで表される化合物は水−不溶で
あり、公知の製剤助剤を使用して以下に述べる水−不溶
物質慣用方法で配合できる。組成物は例えば特に有効物
質を固体担体と混合することにより、適当な溶媒または
分散剤に溶解または懸濁することにより、所望の場合は
湿展剤または乳化剤としての界面活性剤および/または
散剤を使用して、あるいは溶媒または分散剤で前もって
調整された乳剤原液を希釈することによりそれ自体公知
の方法で製造できる。 【0031】以下に示すものは主な固体担体として適当
なものである。 −天然鉱物例えばチョーク、ドロマイト、石灰石、粘度
およびシリカ、ならびに珪藻土、カオリン、ベントナイ
ト、タルク、アタパルジャイトまたはモンモリロナイト
のようなそれらの塩; −合成鉱物例えば高分散シリカ、アルミナまたはケイ酸
; −有機物例えばセルロース、デンプン、尿素または合成
樹脂;および −肥料例えばリン酸塩または硝酸塩 これらの担体を、例えば粉剤または粒剤の形状にするこ
とができる。 【0032】以下に示すものは主な溶媒または分散剤と
して適当なものである。 −芳香族物質例えばベンゼン、トルエン、キシレンおよ
びアルキルナフタレン; −塩素化芳香族物質および塩素化脂肪族炭化水素例えば
クロロベンゼン、クロロエチレンまたはメチレンクロラ
イド; −脂肪族炭化水素例えばシクロヘキサンまたは鉱物油留
分のようなパラフィン; −アルコール例えばブタノールまたはグリコールならび
にそれらのエーテルまたはエステル; −ケトン例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトンまたはシクロヘキサノンおよび−強極
性溶媒および分散剤例えばジメチルホルムアミド、N−
メチルピロリドンまたはジメチルスルホキシド(これら
のタイプの溶媒は好ましくは少なくとも30℃の引火点
および少なくとも50℃の沸点をもつ)、または水。 【0033】他の適当な溶媒または分散剤は室温および
大気圧化合物下では気体状の製品である、いわゆる液化
気体増量剤または担体でもある。これらの製品の例は特
に例えばジクロロジフルオロメタンのようなハロ炭化水
素に代表されるエーロゾル推進剤である。本発明に関す
る除草剤が圧縮ガスパックの形状であるときは、推進剤
のほかに溶媒を使用するのが都合がよい。 【0034】界面活性剤(湿展剤および乳化剤)は非イ
オン性化合物であってよくそれらは例えば以下のような
ものである: −脂肪酸、脂肪酸アルコールまたは脂肪族基置換フェノ
ールとエチレンオキシドの縮合生成物;−糖または多価
アルコールの脂肪酸エステルおよび脂肪酸エーテル; −糖または多価アルコールとエチレンオキシドの縮合に
よって得られる製品; −エチレンオキシドおよびプロピレンオキシドのブロッ
クポリマー; −アルキルジメチルアミンオキシド 【0035】界面活性剤はアニオン性化合物であっても
よく、それらは以下のようなものである:−石鹸; −脂肪族サルフェートエステル例えばドデシル硫酸ナト
リウム、オクタデシル硫酸ナトリウムまたはセチル硫酸
ナトリウム; −アルキルスルホン酸塩、アリールスルホン酸塩または
脂肪芳香族スルホン酸塩例えばドデシルベンゼンスルホ
ン酸カルシウムのようなアルキルベンゼンスルホン酸塩
、またはブチルナフタレンスルホン酸塩;または−さら
に脂肪スルホン酸塩の複合体例えばオレイン酸およびN
−メチルタウリンのアミド縮合生成物、またはドデシル
スシネートのスルホン酸ナトリウム塩。 【0036】最後に、界面活性剤は塩化アルキルジメチ
ルベンジルアンモニウム、塩化ジアルキルジメチルアン
モニウム、塩化アルキルメチルアンモニウムまたはエト
キシ化された塩化アンモニウムのようなカチオン性化合
物であってよい。 【0037】適当な分散剤(界面活性作用のない)は主
に以下のものである:リグニン、リグノスルホン酸のナ
トリウム塩およびアンモニウム塩、マレイン酸無水物/
ジイソブチレンコポリマーのナトリウム塩、ナフタレン
およびホルムアルデヒドのスルホン化された縮重合生成
物のナトリウム塩およびアンモニウム塩、または亜硫酸
パルプ廃液である。 【0038】特に増粘剤または沈降防止剤に適当である
分散剤として使用可能なものの例はメチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、ポリビニルアルコール、アルギン酸塩、カゼイン
酸塩または血液アルブミンである。 【0039】適当な安定剤の例は以下に示すものである
: −酸結合剤、例えばエピクロロヒドリン、フェニルグリ
シジルエーテルまたはダイズエポキシ化物(soya
epoxides); −酸化防止剤、例えば没食子酸エステルまたはブチルヒ
ドロキシトルエン; −紫外線吸収剤、例えば置換ベンゾフェノン、ジフェニ
ルアクリロニトリルエステルまたは桂皮酸エステル;あ
るいは −奪活剤、例えばエチレンジアミン四酢酸、またはポリ
グリコール。 【0040】本発明に基づく除草剤および植物成長調節
組成物は式Iで表される化合物の他にさらに他の有効物
質を含むことができ、それらは例えば殺虫剤、殺ダニ剤
、線虫駆除剤、軟体動物駆除剤、殺菌剤、殺真菌剤、除
草剤、植物成長調節剤、肥料および微量元素源である。 これら配合された組成物は活性範囲を拡大するのに適当
である。 【0041】通常、本発明の除草剤は有効物質として式
Iの化合物の1種類またはそれ以上の0.001ないし
95重量%、好ましくは0.5ないし75重量%を含有
する。例えば貯蔵および移行に適当な形態であることも
可能である。これらの配合物では、例えば乳剤原液では
有効物質の濃度は通常、好ましくは1ないし50重量%
、好ましくは5ないし30重量%の高い範囲にある。 同一のまたは異なる不活性物質を使用することで、例え
ば、これらの配合物を実際使用するために適当な有効物
質の濃度、すなわち好ましくは約0.001ないし10
重量%、特に約0.005ないし5重量%に低く薄める
ことができる。しかし、有効物質の濃度をより低く、ま
たはより高くすることも可能である。 【0042】上述のものと同様に、本発明の除草剤はそ
れ自体公知の方法で製造できる。 【0043】粉末の形態で配合物を調製するため、有効
物質、すなわち式Iで表される化合物少なくとも1種を
固体担体と例えばそれらを一緒に粉砕して混合できる。 固体担体は有効物質の液体または懸濁液を都合よく浸込
ませることができ、次に溶媒または分散剤を、蒸発、加
熱または減圧下のろ過によって除去する。界面活性剤ま
たは分散剤を添加することにより、これら粉末形態の配
合物は容易に水湿潤性にすることができ、例えば噴霧用
の配合物として適当な水性懸濁液に変換することができ
る。 【0044】水に分散可能な水和剤を形成するため、有
効物質は界面活性剤および固体担体とも混合でき、ある
いは粒状形態の製品を形成するため予め粒状にした固体
との混合もできる。 【0045】所望ならば、有効物質は例えば高い沸点の
炭化水素ような水と混和できない溶媒に溶解することも
できる。後者は都合よくは、溶解性乳化剤を含有し、そ
のため水を加えた際溶液は自己乳化作用を示す。他の方
法では有効物質を乳化剤と混合して、そして混合物は水
で所望の濃度に希釈してもよい。さらに、有効物質を溶
媒に溶解して、そしてその溶液を乳化剤と混合してもよ
い。この混合物を同様に水で所望の濃度に希釈できる。 この方法で、乳剤原液またはすぐ使用できる乳濁液を得
る。 【0046】本発明に基づき、記述した除草剤は噴霧、
霧化、散粉、注水または散布のような以下に示す慣用の
施用方法で使用され得る。 【0047】 【実施例】以下の実施例でより詳しく本発明を説明する
。 A.式Iで表される化合物の製造 実施例1:メチル N−(o−((4,6−ジメトキ
シ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)グリシネ
ート o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキ
シ)安息香酸12.6gをジクロロメタン500mlに
溶解し、そしてこの溶液をトリエチルアミン30gで処
理する。ジクロロメタン25mlに溶解した塩化ホスホ
リル7.5gを−5℃で滴下して加え、そして5分間攪
拌し続ける。水100ml中新たに調製したメチルグリ
シネート8.9gを含む溶液を次に勢いよく攪拌しなが
ら加える。攪拌を続けたまま混合物を15分間室温にな
るまでおく。有機相を取り除き、新しい水で3回洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。残った残渣
をフラッシュクロマトグラフィー(flash chr
omatography)で精製する。純メチルN−(
o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキ
シ)ベンゾイル)グリシネートがほとんど無色の油とし
て得られる; 1H−NMR(CDC13) :3.6
1,s,COOCH3 ,3.81,s,2OCH3
,4.16,d,J=5Hz,CH2 ,5.82,s
,−CH=,7.22−8.06,NHおよび4芳香族
H原子。 【0048】実施例2:メチル N−(o−((4,
6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイ
ル)グリシネート ビス−o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル
)オキシ)安息香酸無水物5.35gおよびトリエチル
アミン2gを最初にジクロロメタン100mlにいれる
。水15ml中新たに調製したメチルグリシネート1.
78gを含む溶液を攪拌しながら加え、そして室温で1
時間攪拌し続ける。有機相を取り除き、炭酸水素ナトリ
ウムおよび水で洗浄し、乾燥し、蒸発させる。本方法で
、TLCに従えば実施例1で製造したメチル N−(
o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキ
シ)ベンゾイル)グリシネートと同一のほとんど純粋な
製品3.5gが得られる(TLC移動相:エチルアセテ
ート/ヘキサン2:1,Rf 値:0.55)。 【0049】実施例3:N−(o−((4,6−ジメト
キシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−L−
アラニン 第三ブチルN−(o−((4,6−ジメトキシ−2−ピ
リミジニル)オキシ)ベンゾイル)−L−アラニネート
(実施例31)6.0gをトリフルオロ酢酸40mlに
溶解し、そしてこの溶液を室温で2日間密封反応容器中
に保つ。次に揮発し易い成分をロータリーエバポレータ
で蒸発させる。残った油状の残渣をジクロロメタンで溶
解し、水300mlを使用して2回洗浄する。混合物は
硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させる。さらに精製する
ため、残った油は勾配フラッシュクロマトグラフィーで
精製する。4.8gのゴム状の残渣が純N−(o−((
4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベン
ゾイル)−L−アラニンである;Rf :0.19(エ
チルアセテート/メタノール 3:1)。 【0050】実施例3a:N−(o−((4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−(
L−ロイシン)−(L−アラニン)エチルエステルN−
(o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オ
キシ)ベンゾイル)−L−ロイシン(実施例34)3.
7gをジクロロメタン250mlに溶解し、連続してエ
チルL−アラニネートヒドロクロライド3.3gおよび
トリエチルアミン7.5gで処理し、攪拌した混合物を
−5℃に冷却する。この温度でジクロロメタン5ml中
の塩化ホスホリル1.6g溶液を滴下して加え混合物を
続いて20分間攪拌する。次に有機相を水250mlで
3回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させる。残
った生成物を勾配フラッシュクロマトグラフィーで精製
する。ガラス状の生成物として純N−(o−((4,6
−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル
)−(L−ロイシン)−(L−アラニン)エチルエステ
ルが得られる;Rf :0.36(エチルアセテート/
ヘキサン2:1)。 【0051】実施例3b:N−(o−((4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−(
L−フェニルアラニン)−(L−アラニン)エチルエス
テル 同様の方法で、N−(o−((4,6−ジメトキシ−2
−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−L−フェニル
アラニン(実施例35)およびL−アラニネートヒドロ
クロライドから、ガラス状生成物としてN−(o−((
4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベン
ゾイル)−(L−フェニルアラニン)−(L−アラニン
)エチルエステルが得られる;Rf :0.48(エチ
ルアセテート/ヘキサン 2:1)。 【0052】B.式IIで表される中間体の製造実施例
3c:ビス−o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミ
ジニル)オキシ)安息香酸無水物ビス−o−((4,6
−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)安息香酸2
7.6gをジクロロメタン500ml中のトリエチルア
ミン25gの溶液に入れる。溶液を−5℃に冷却し、こ
の温度でジクロロメタン25ml中の塩化ホスホリル8
gで処理する。10分間攪拌を続け、それぞれ氷水50
0mlで2回、短時間で洗浄する。有機相を乾燥しそし
て蒸発させる。エチルアセテート/ヘキサン(7:8)
で再結晶化により、融点:120ないし122℃の純ビ
ス−o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)
オキシ)安息香酸無水物24.2gが得られる。 【0053】表2ないし5に示す式IB、IC、IDお
よびIEで表される化合物は実施例1ないし3と同様に
製造される。他に明記しなければ、Rf 値はエチルア
セテート/ヘキサンで決定される。表中、m.p.は融
点を表す。 【0054】表2: 次式IBで表される化合物: 【化41】 【表1】 【表2】 【表3】 【表4】 【表5】 【表6】 【0055】表3: 次式ICで表される化合物: 【化42】 【表7】 【表8】 【表9】 【表10】 【表11】 【表12】 【表13】 【表14】 【0056】表4: 次式IDで表される化合物: 【化43】 【表15】 【表16】 【0057】表5: 次式IEで表される化合物: 【化44】 【表17】 【0058】C.製剤例 実施例F1:25%水和剤を製造するため以下の一覧の
成分を互いに混合する:
重量
% 表2−5に記載の式Iの化合物
25 シリカ水和
物(担体、粉砕助剤)
20 ラウリル硫酸ナトリウム(湿展
剤) 2
リグノスルホン酸ナトリウム(分散剤)
4 カオリン(担体)
49
100 まず、液状、
または融解した有効物質を粉砕装置中に最初に入れたシ
リカに加え、次に他の成分を混合する。ピンドディスク
ミル(pinned−disc−mill) または同
様の粉砕装置を使用し、混合物を微粉末に粉砕する。得
られた水和剤を水に攪拌して入れると、すぐ使用できる
噴霧液として適当な微細な懸濁液が得られる。この製剤
に特に適当な有効物質は液体であるかまたは約100℃
を越えない低い融点の式Iで表される化合物である。 【0059】実施例F2:高いすなわち約+100℃以
上の融点を持つ式Iで表される化合物は好ましくは濃縮
水和剤中の有効物質として使用でき、例えは以下に示す
と:
重量
% 表2−5に記載の式Iの化合物
75 シリカ水和
物(担体、粉砕助剤)
1 ナトリウム塩としての硫酸カ
ルボン酸;例えば、 2 『登録
商標モロウェットEFW(Morowett EFD)
』 :デ−ソト(De
Soto) 社製(湿展剤)ナトリウム塩としてのスル
ホン化 10
ナフタレン/ホルムアルデヒド縮合物:例えば
、『登録商標モロウェットD−425 (Morowett D−425) 』
:デ−ソト(De Soto) 社製(
分散剤)ポリビニルピロリドン、例えば
1 『登録
商標PVP−K−30』 :ガフ社(GAF Corp.)製(結合剤)カオリン
(担体)
11
100 成
分を互いに混合し、ピンドディスクミルまたは同様の粉
砕装置、特にフルイドエナジーミル(fluid en
ergy mill)を使用し、混合物を微粉末に粉砕
する。得られた水和剤を水に攪拌して入れると、すぐ使
用できる噴霧液として適当な任意の所望濃度の微細な懸
濁液が得られる。 【0060】実施例F3:実施例F1の組成物に基づい
た水和剤は分散性の粒剤に変換できる。この目的のため
粉砕された粉剤を結合剤の水性溶液と一緒に適当な粉砕
機〔例えば粗細プレート(granulating p
late)、混合ドラム(mixing drum)
、高速ミキサー(high−speed mixer)
または流体層粉砕機(fluidesed bed g
ranulator)〕中に凝集が形成されるまで、噴
霧する。加えられた水は次の乾燥工程で除去される。所
望の大きさの粒剤を篩うことによって分離する。水和剤
に比べると、得られた粒剤は多様な利点(施用時に粉剤
形成がない、より良い流動性のための簡単な計量等)を
もつ。製品を水中で攪拌しおよび粒剤を一時粒子へ完全
に分解した後は、施用は水和剤の場合と同様である。 【0061】実施例F4:慣用の有機溶媒中で式Iで表
される化合物は限られた溶解性を持つ。従って、比較的
低濃度の乳剤原液が可能である。それらは例えば:表2
−5に記載の式Iの化合物
125g/l『登録商標ソルプロファBSU
』 300g/l:ロ
ーン−ポウレンク(Rhone−Poulenc)社製
(乳化剤)N−メチル−2−ピロリドン(溶媒)で
全量1000mlとする。有効物質および乳化剤を
攪拌しながら溶媒にいれる。混合物を均一な溶液が形成
されるまで攪拌する。得られた乳剤原液は水で乳化でき
、所望の濃度のすぐ使用できる噴霧液が得られる。 【0062】実施例F5:約+60℃以上の融点を持つ
式Iで表される化合物はいわゆる懸濁原液(『流動性を
もつ』)も製剤化できる。例えば: 表2−5に記載の式Iの化合物
250g/lエチレングリコール(凍結
防止剤) 80g/l
シリカ(沈降抑制剤)
5g/lキサンテンゴ
ム、例えば
2g/l『登録商標ケルザン(Kel
zan) 』:ケルコ(Kelco)社製 (増粘剤)
シリコン脱泡剤、例えば
5g/l『登録商標ロ
ドルシル 426 (Rhodorsil 426)』 :ローン−ポウレンク(Rhone−Poulenc)
社製ノニルフェノール ポリエトキシレート(水和剤
) 20g/lナトリウム塩としてのスルホン化
40g/lナフタレ
ン/ホルムアルデヒド縮合物:例えば、『登録商標モロ
ウェットD−425 (Morowett D−425) 』
:デ−ソト(De Soto) 社製(
分散剤)
水で全量1000
mlとする。 製剤助剤を水中に溶解する。予め粉砕した有効物質を攪
拌しながら分散させる。そして得られた粗懸濁液を(例
えば攪拌装置付のコロイドミルまたはボールミル内で)
湿潤粉砕(wet grinding) する。所望
ならば消泡剤、沈降抑制剤、殺生物剤等の他の添加剤少
量をそこで添加できる。使用のために得られた『流動性
をもつ』製剤は任意の所望の割合で希釈でき、所望の濃
度のすぐ使用できる噴霧溶液を提供する。 【0063】生物学的実施例 実施例B1:出芽前除草作用 温室中で種子皿に試験植物を播種後直ちに、土の表面を
試験化合物3Kg/haの施用割合に相当する量の水性
噴霧混合物で処理する。種子皿は温室中で22ないし2
5℃および相対湿度50ないし70%に保たれる。3週
間後、除草作用を未処理の対照群との比較で3つの割合
の段階(2=80ないし100%損傷、1=30ないし
79%損傷、0=0ないし30%損傷)により評価する
。表2ないし5に記載の式1で表される化合物はこの試
験で明確な除草作用を示す。式Iで表される化合物の良
好な出芽前除草活性を表B1に示す:表B1:出芽前除
草作用 実施例│
雑草:記載 │
アロペ セノポ 化合物│ソル
ガム エキノコラ アヴェナ キュラス
デューム : │(Sorghu
m) (Echinochloa) (Avena
) (Adlopecurus) (Chenopo
dium)───┼────────────────
─────────────── 3 │ 2
2 2
2 2
5 │ 2 2
2 2
2 9 │ 2
2 2
2 2
10 │ 2 2
2 2
2 11 │ 2
2 2
2 2
12 │ 2 2
2 2
2 18 │ 2
2 2
2 2
20 │ 2 2
2 2
2 22 │ 2
2 2
2 2
27 │ 2 2
2 2
2 28 │ 2
2 2
2 2
29 │ 2 2
2 2
2 30 │ 2
2 2
2 2 3
1 │ 2 2
2 2
2 【0064】実施例 B
2:出芽後除草作用(接触除草剤) 大量の雑草、単子葉植物および双子葉植物の両方に出芽
後(4ないし6葉期)に試験化合物3Kg/haの割合
で水性有効成分分散剤を噴霧し、そして24ないし26
℃および相対湿度45ないし60%で保つ。試験は処理
15日後評価される。この試験でも表2ないし5記載の
式Iで表される化合物は良好な除草作用を示す。 【0065】実施例 B3:野性稲〔パディライス(
paddy rice) 〕における除草作用水中に発
生する雑草イヌビエ(Echinochloa cru
s galli) をプラスチック性ビーカー( 表面
積:60cm2 、容積:500ml)に播種する。播
種後、ビーカーを土の表面まで水で満たす。播種後3日
目に土壌表面よりわずかに上に水位を増やす(3ないし
5mm)。播種後3日目にビーカーを試験化合物で噴霧
することにより施用を行う。施用の割合は有効成分3K
g/haの濃度に相当する。ビーカーを稲の雑草に最適
な成育条件、すなわち25℃ないし30℃および高湿度
で温室中に保つ。試験の評価は施用後3週間で行う。表
2ないし5に記載の式Iで表される化合物は雑草に損傷
を与えるが稲には与えない。 【0066】実施例 B4:熱帯性被覆植物(cov
er crops )の成長抑制 試験植物セントロセマ・プベセンス(Centrose
ma pubescens)およびプソフォカーパス・
パルストリス(Psophocarpuspalust
ris)を土(45%)、泥炭(45%)およびゾノラ
イト(Zonolite) (10%)を含有する4c
mのピートポット(peat pot) に挿し木によ
り繁殖させる。 挿し木は昼間気温27℃および夜間気温23℃の温室で
栽培する。植物に最低14時間/日、少なくとも700
0ルックスの強度で照射する。挿し木後約50日栽培し
、13cmポットに、4ないし5本の植物/ポットで移
植する。さらに60日後、植物は約15cmの高さに剪
定され、水性噴霧混合物有効成分0.1ないし300g
/ha(通常、25%製剤に該当する)濃度で噴霧によ
る処理を行う。施用される水の量は約200l/haで
ある。播種後4週間で新たな成長重量を決定しおよび未
処理の対照の平均との割合を示す。総葉面積の割合とし
ての壊死損傷値を得る。処理した植物における新たな成
長は未処理の対照よりも際立って少ない。 【0067】実施例 B5:大豆の成長調節ウィリア
ムズ(Williams)種の試験植物を土(45%)
、泥炭(45%)およびゾノライト(10%)のはいっ
た11cmのクレイポット(cray pot) に播
種し、気象温室(climatic chamber)
中で昼間気温24℃および夜間気温19℃で栽培する。 植物を16時間/日、約350マイクロ−アインシュタ
インの強度で照射する。播種後約24日、植物を18c
mポットに、2本の植物/ポットで移植する。さらに1
2日後、植物は5ないし6の三葉状葉期(trifoi
l leaf stage) であり、試験化合物を通
常の25%製剤に該当する有効成分0.1ないし300
g/ha濃度でおよび水性噴霧混合物として施用する。 施用される水の量は約200 l/haである。評価
は播種後4週間でなされる。新たな成長の高さを測定し
および未処理の対照の平均との割合を示す。総葉面積の
割合としての壊死損傷値を得る。処理した植物は未処理
の対照よりも際立って新たな成長が少ない。 【0068】実施例 B6:穀物の成長抑制試験植物
〔イバン(Iban) 種の春播き大麦〕を殺菌した土
のはいった15cmのプラスチックポットに播種し、気
象温室(climatic chamber)中で昼間
気温10ないし15℃および夜間気温5ないし10℃で
栽培する。植物を13.5時間/日、約25000ルッ
クスの強度で照射する。播種後約34日、植物を4本の
植物/ポットに間引きし、試験化合物を通常の25%製
剤に該当する有効成分0.1ないし300g/ha濃度
でおよび水性噴霧混合物として施用する。施用される水
の量は約500 l/haである。施用後、植物を1
日に少なくとも気温10℃の温室に置く。少なくとも1
3.5時間/日で照射する。評価は処理後28日に行う
。新たな成長の高さは未処理の対照の平均との割合を示
す。総葉面積の割合としての壊死損傷値を得る。処理し
た植物は未処理の対照よりも際立って新たな成長の減少
を示す。 【0069】実施例 B6:牧草の成長抑制牧草植物
の混合種〔例えばポア(Poa) 、フェスツカ(Fe
stuca) 、ロリウム(Lolium)、ブロムス
(Bromus)、シノスラス(Cynosurus)
〕およびクローバー〔アカツメクサ/シロツメクサ(
Trifolium pratense/repens
) 〕を殺菌した土のはいった15cmのプラスチック
ポットに播種し、温室中で昼間気温21℃および夜間気
温17℃で栽培する。植物を13.5時間/日、少なく
とも7000ルックスの強度で照射する。出芽した植物
を週に約6cmの高さに剪定する。播種後約42日、最
後の剪定後1日たって、試験化合物を通常の25%製剤
に該当する有効成分0.1ないし300g/ha濃度で
および水性噴霧混合物として施用する。施用される水の
量は約500 l/haである。評価は処理後3週間
で行う。新たな成長の高さを測定しそして未処理の対照
の平均との割合で示す。総葉面積の割合としての壊死損
傷値を得る。表2ないし5に記載の式Iで表される試験
化合物は未処理の対照に比べ、新たな成長の減少を示す
。
Claims (43)
- 【請求項1】 次式(I): 【化1】 {式中、Bは窒素原子、メチン基、またはフッ素原子、
塩素原子、メチル基、メトキシ基、2−プロペニルオキ
シ基、2−プロピニルオキシ基、ジフルオロメトキシ基
、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、フェ
ニル基またはベンジルオキシ基で置換されたメチン基を
表し;Yは酸素原子または硫黄原子を表し;Zはメチン
基または窒素原子を表し;R1 は塩素原子、メチル基
、メトキシ基、エトキシ基、ジフルオロメトキシ基、メ
チルアミノ基、エチルアミノ基またはジメチルアミノ基
を表し;R2 はメチル基、メトキシ基またはジルフル
オロメトキシ基を表し;R3 は水素原子、フッ素原子
、塩素原子、メチル基またはメトキシ基を表し;R4
は以下の(a)、(b)または(c): 【化2】 で表される基の一つを表し;R5 は水素原子、メチル
基またはR7 と一緒になって基:−( CH2
)p −、−CH2 SCH2 −または−CH2 C
HOHCH2 −を表し;R6 はヒドロキシメチル基
、ホルミル基、シアノ基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシイミノ基、ヒドロキシイミノ基、ホスホノ基、ホ
スフィノ基、メチルホスフィノ基または基:−COXを
表し;R7 は水素原子、非置換またはヒドロキシル基
、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、メルカプト基
、アシルメルカプト基、炭素原子数1ないし4のアルキ
ルチオ基、ビニル基、フェニル基、4−ヒドロキシフェ
ニル基、4−イミダゾリル基、3−インドリル基、ヒド
ロキシカルボニル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シカルボニル基、2−プロペニルオキシカルボニル基、
シアノ基、カルバモイル基で置換された炭素原子数1な
いし4のアルキル基、トリフルオロメチル基、エチニル
基、非置換のまたは塩素原子もしくはメトキシ基で置換
されたビニル基、あるいは非置換のまたはフッ素原子、
塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基もしくはメ
トキシ基で置換されたフェニル基、あるいはシアノ基ま
たは炭素原子数1ないし4のアルコキシカルボニル基を
表し;R8 は水素原子またはメチル基を表し;Aは酸
素原子、硫黄原子または基:−NH−を表し;mは1,
2または3を表し;nは0,1,2または3を表し;p
は2または3を表し;Xはヒドロキシル基、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数3ないし4のア
ルケニルオキシ基、メルカプト基、炭素原子数1ないし
4のアルキルチオ基、アミノ基、炭素原子数1ないし4
のアルキルアミノ基、炭素原子数2ないし4のジアルキ
ルアミノ基、または炭素原子数1ないし2のアルコキシ
基、炭素原子数3ないし4のアルケニルオキシ基、メル
カプト基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基、ア
ミノ基、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基、炭
素原子数1ないし4のジアルキルアミノ基、またはフェ
ニル基、ベンジルオキシ基もしくは炭素原子数1ないし
2のアルコキシ基で置換されているアルコキシアミノ基
、あるいはさらに以下の(d)、(e)または(f):
【化3】 で表される基の一つを表し;R9 は水素原子、炭素原
子数1ないし4のアルキル基またはベンジル基を表し;
R10はヒドロキシメチル基、シアノ基または基:CO
Q’(式中、Q’はヒドロキシル基、炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基、2−プロペニルオキシ基、ベンジ
ルオキシ基またはアミノ基または基(d)を表す。);
Qはヒドロキシル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基、2−プロペニルオキシ基、ベンジルオキシ基、ア
ミノ基または基(d)を表す。}で表されるピリミジニ
ル−もしくはトリアジニル−サリチルアミド;および遊
離ヒドロキシカルボニル基をもつ式Iのこれらの化合物
の塩。 - 【請求項2】 式中、Bは窒素原子、メチン基または
、フッ素原子、塩素原子、メチル基、メトキシ基、2−
プロペニルオキシ基、2−プロピニルオキシ、ジフルオ
ロメトキシ基またはベンジルオキシ基で置換されたメチ
ン基を表し;Yは酸素原子または硫黄原子を表し;Zは
メチン基または窒素原子を表し;R1 は塩素原子、メ
チル基、メトキシ基、エトキシ基、ジフルオロメトキシ
基、メチルアミノ基、エチルアミノ基またはジメチルア
ミノ基を表し;R2 はメチル基、メトキシ基またはジ
フルオロメトキシ基を表し;R3 は水素原子、フッ素
原子、塩素原子、メチル基またはメトキシ基を表し;R
4 は以下の(a)、(b)または(c): 【化4】 で表される基の一つを表し;R5 は水素原子、メチル
基、またはR7 と一緒になって基:−( CH2
)p または−CH2 CHOHCH2 −を表し;
R6 はヒドロキシメチル基、シアノ基、ホスホノ基、
ホスフィノ基、メチルホスフィノ基または基:−COX
を表し;R7 は水素原子、非置換のまたはヒドロキシ
ル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、メルカプ
ト基、アシルメルカプト基、炭素原子数1ないし4のア
ルキルチオ基、フェニル基、4−ヒドロキシフェニル基
、4−イミダゾリル基、3−インドリル基、ヒドロキシ
カルボニル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシカル
ボニル基、2−プロペニルオキシカルボニル基、シアノ
基、カルバモイル基、メチルホスフィノメチルスルホキ
シイミノ基、トリフルオロメチル基、エチニル基、非置
換のまたは塩素原子もしくはメトキシ基で置換されたビ
ニル基、あるいは非置換のまたはフッ素原子、塩素原子
、メチル基、トリフルオロメチル基もしくはメトキシ基
で置換されたフェニル基を表し;R8 は水素原子また
はメチル基を表し;Aは酸素原子、硫黄原子または基:
−NH−を表し;mは1,2または3を表し;nは0,
1,2または3を表し;pは2または3を表し;Xはヒ
ドロキシル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
炭素原子数3ないし4のアルケニルオキシ基、ベンジル
オキシ基、メルカプト基、炭素原子数1ないし4のアル
キルチオ基、アミノ基、炭素原子数1ないし4のアルキ
ルアミノ基、炭素原子数2ないし4のジアルキルアミノ
基、あるいはさらに以下の(d)、(e): 【化5】 で表される基の一つを表し;R9 は水素原子、炭素原
子数1ないし4のアルキル基またはベンジル基を表し;
R10は基:COQ’(式中、Q’はヒドロキシル基、
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、2−プロペニル
オキシ基、ベンジルオキシ基またはアミノ基を表す。)
を表し、Qはヒドロキシル基、炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基、2−プロペニルオキシ基、ベンジルオキ
シ基またはアミノ基を表す。}で表される請求項1記載
の式Iで表される化合物;および遊離ヒドロキシカルボ
ニル基を持つ式Iの化合物の塩。 - 【請求項3】 式中、Bがメチン基または窒素原子を
表す、請求項1記載の式Iで表される化合物。 - 【請求項4】 式中、該メチン基がフッ素原子または
塩素原子で置換されている請求項3記載の式Iで表され
る化合物。 - 【請求項5】 式中、Yが酸素原子を表す請求項1記
載の式Iで表される化合物。 - 【請求項6】 式中、Zがメチン基を表す請求項1記
載の式Iで表される化合物。 - 【請求項7】 式中、R1 およびR2 がメトキシ
基を表す請求項1記載の式Iで表される化合物。 - 【請求項8】 式中、R3 が水素原子を表す請求項
1記載の式Iで表される化合物。 - 【請求項9】 式中、R4 が基(a)を表す請求項
1記載の式Iで表される化合物。 - 【請求項10】 式中、R5 が水素原子を表す請求
項1記載の式Iで表される化合物。 - 【請求項11】 式中、R6 がシアノ基または基:
COXを表す請求項1記載の式Iで表される化合物。 - 【請求項12】 式中、Xが炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基またはアミノ基を表す請求項11記載の式
Iで表される化合物。 - 【請求項13】 式中、R7 が水素原子、炭素原子
数1ないし4のアルキル基、2−プロペニル基またはR
5 と一緒になって基−CH2 CH2 CH2 −ま
たは−CH2 SCH2 −を表す請求項1記載の式I
で表される化合物。 - 【請求項14】 式中、R8 が水素原子を表す請求
項1記載の式Iで表される化合物。 - 【請求項15】 式中、R4 がS−キラリティーで
ある次式IA: 【化6】 で表される基を表す請求項1記載の式Iで表される化合
物。 - 【請求項16】 式中、R4 が基(c)を表し、A
が酸素原子または硫黄原子を表し、mは1を表す、請求
項1記載の式Iで表される化合物。 - 【請求項17】 式中、R4 がS−キラリティーで
ある次式IF: 【化7】 で表される基を表す請求項16記載の式Iで表される化
合物。 - 【請求項18】 式中、R1 が塩素原子、メチル基
、メトキシ基、エトキシ基、ジフルオロメトキシ基また
はジメチルアミノ基を表し;R2 はメトキシ基を表し
;R3 は水素原子を表し;Bが窒素原子、メチン基ま
たは塩素原子もしくはフッ素原子で置換されたメチン基
を表し;Yは酸素原子または硫黄原子を表し;Zはメチ
ン基または窒素原子を表し;および式中、NR4 R5
は以下の基群: 【化8】 【化9】 【化10】 【化11】 【化12】 【化13】 で表される基の一つを表す請求項1記載の式Iで表され
る化合物。 - 【請求項19】 メチル N−(o)−((4,6
−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル
)グリシネート;エチル N−(o−((4,6−ジ
メトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベンゾイル)−
L−アラニネート;ラセミ−o−((4,6−ジメトキ
シ−2−ピリミジニル)オキシ)−N−(ジヒドロ−2
−オキソ−3(2H)−チエニル)ベンズアミド;メチ
ル N−(o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミ
ジニル)オキシ)ベンゾイル)−L−アラニネート;メ
チル N−(o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリ
ミジニル)オキシ)ベンゾイル)−L−バリネート;メ
チル N−(o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリ
ミジニル)オキシ)ベンゾイル)−L−ロイシネート;
ラセミ−N−(1−カルバモイル−1,2−ジメチルプ
ロピル)−o−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジ
ニル)チオ)−ベンズアミド;第三ブチル 1−(o
−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ
)ベンゾイル)−L−プロリネート;メチル N−(
(3−((4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オ
キシ)−2−ピリジル)カルボニル)−L−アラニネー
ト;メチル N−((3−((4,6−ジメトキシ−
2−ピリミジニル)オキシ)−2−ピリジル)カルボニ
ル)グリシネート;o−((4,6−ジメトキシ−2−
ピリミジニル)オキシ)−N−(<S>−1(ヒドロキ
シメチル)−2−メチルプロピル)−ベンズアミド;お
よびN−(1−シアノ−1−メチルエチル)−o−((
4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニル)オキシ)ベン
ズアミドからなる群から選択される請求項1記載の式I
で表される化合物。 - 【請求項20】 次式II’: 【化14】 (式中、Aは離脱基を表す。)で表される化合物;また
は次式II: 【化15】 (式中、R1 、R2 、R3 、Y、ZおよびBは請
求項1記載の式Iで与えられた意味を表す。)で表され
る酸無水物と次式III : 【化16】 (式中、R4 およびR5 は請求項1記載の式Iで与
えられた意味を表す。)で表されるアミンを反応させる
ことからなる請求項1記載の式Iの化合物製造方法。 - 【請求項21】 反応が塩基の存在下で行われる請求
項20記載の方法。 - 【請求項22】 反応が溶媒の存在下で行われる請求
項20記載の方法。 - 【請求項23】 次式V: 【化17】 (式中、Lは離脱基を表し、R1 およびR2 は請求
項1で与えられた意味を表す。)で表される化合物と次
式VII: 【化18】 (式中、R1 、R2 、R3 、BおよびYは請求項
1記載の式Iで与えられた意味を表す。)サリチルアミ
ド誘導体との反応からなる請求項1記載の式Iで表され
る化合物の製造方法。 - 【請求項24】 反応が不活性希釈剤の存在下で行わ
れる請求項23記載の方法。 - 【請求項25】 反応が塩基の存在下で行われる請求
項23記載の方法。 - 【請求項26】 反応が反応促進剤の存在下で行われ
る請求項23記載の方法。 - 【請求項27】 反応が0℃ないし160℃の温度下
で行われる請求項23記載の方法。 - 【請求項28】 式II’: 【化19】 (式中、Bは窒素原子、メチン基、またはフッ素原子、
塩素原子、メチル基、メトキシ基、2−プロペニルオキ
シ基、2−プロピニルオキシ基、ジフルオロメトキシ基
もしくはベンジルオキシ基で置換されたメチン基を表し
;Yは酸素原子または硫黄原子を表し;Zはメチン基ま
たは窒素元素を表し;R1 は塩素原子、メチル基、メ
トキシ基、エトキシ基、ジフルオロメトキシ基、メチル
アミノ基、エチルアミノ基またはジメチルアミノ基を表
し;R2 はメチル基、メトキシ基またはジフルオロメ
トキシ基を表し;およびR3 は水素原子、フッ素原子
、塩素原子、メチル基またはメトキシ基を表す。)で表
されるピリミジニル−またはトリアジニル−サリチル酸
無水物。 - 【請求項29】 式中、Bはメチン基または窒素原子
を表す請求項28記載の式II’で表される化合物。 - 【請求項30】 式中、Yは酸素原子を表す請求項2
8記載の式II’で表される化合物。 - 【請求項31】 式中、Zはメチン基を表す請求項2
8記載の式II’で表される化合物。 - 【請求項32】 式中、R1 およびR2 はメトキ
シ基を表す請求項28記載の式II’で表される化合物
。 - 【請求項33】 式中、R3 は水素原子を表す請求
項28記載の式II’で表される化合物。 - 【請求項34】 次式IV: 【化20】 で表される酸を塩化ホスホリルおよびトリエチルアミン
で処理することからなる請求項28記載の式II’で表
される化合物の製造方法。 - 【請求項35】 式IVで表される酸の1当量に対し
、塩化ホスホリル0.5ないし0.55当量およびトリ
エチルアミン2.0ないし3.0当量である請求項34
記載の方法。 - 【請求項36】 請求項1記載の式Iで表される1種
またはそれ以上のピリミジニルおよびトリアジニルサリ
チルアミドならびにピリミジニルおよびトリアジニルサ
リチル酸無水物を含有する殺草剤および植物成長抑制剤
組成物。 - 【請求項37】 請求項1記載の式Iで定義されてい
る有効物質0.001重量%ないし95重量%を含有す
る請求項36記載の組成物 - 【請求項38】 請求項1記載の式Iで表される有効
物質、またはこの有効物質を含有する組成物を、植物ま
たはそれらの環境に有効な量で施用することからなる所
望でない植物成育を抑制する方法。 - 【請求項39】 1ヘクタール当り0.001ないし
3Kgの有効物質量を施用することからなる請求項38
記載の方法。 - 【請求項40】 請求項1記載の式Iで表される有効
物質、またはこの有効物質を含有する組成物を、植物ま
たはそれらの環境に有効な量で施用することからなる植
物成長を調製する方法。 - 【請求項41】 作物における雑草の選択的な出芽前
または出芽後の防除のための請求項38記載の方法。 - 【請求項42】 除草剤における有効物質としての請
求項1記載の式Iの化合物の使用方法。 - 【請求項43】 植物成長調節組成物における有効物
質としての請求項1記載の式Iの化合物の使用方法。
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